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公开(公告)号：CN111279266A
公开(公告)日：2020-06-12
申请号：CN201880069695.5
申请日：2018-10-04
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 描述了用于在光刻设备中保持物体的各种凸节设计。光刻设备包括照射系统、第一支撑结构、第二支撑结构和投影系统。照射系统被设计成接收辐射并将辐射引导朝向形成图案化辐射的图案形成装置。第一结构被设计成将图案形成装置支撑在第一支撑结构上。第二支撑结构(402)具有多个凸节(406)并且被设计成将衬底(408)支撑在多个凸节上。多个凸节中的每个凸节的顶表面的形貌不是基本平坦的，从而减小了衬底与多个凸节中的每个凸节之间的接触面积。投影系统被设计成接收图案化辐射并将图案化辐射导向衬底。
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公开(公告)号：CN119882354A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411723461.1
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表面积来减少粘附。另一装置包括修改表面，修改表面包括形成减小的接触表面积以减少物体对修改表面的粘附的沟和脊，脊具有弹性性质，当多个脊弹性变形时，弹性性质导致减小的接触表面积增加。
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公开(公告)号：CN112969966B
公开(公告)日：2024-12-03
申请号：CN201980071950.4
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表面积来减少粘附。另一装置包括修改表面，修改表面包括形成减小的接触表面积以减少物体对修改表面的粘附的沟和脊，脊具有弹性性质，当多个脊弹性变形时，弹性性质导致减小的接触表面积增加。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113785244B
公开(公告)日：2024-09-03
申请号：CN202080033297.5
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。
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公开(公告)号：CN113785244A
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202080033297.5
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 一种制作衬底台的方法包括：支撑台座，以接收涂层，并且将所述涂层设置在台座的表面上。台座的表面是实质上平坦的。涂层具有不均匀的厚度。涂层在台上施加应力以使台座弯曲。所述不均匀厚度使涂层的表面在弯曲之后变得实质上平坦。
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公开(公告)号：CN112969966A
公开(公告)日：2021-06-15
申请号：CN201980071950.4
申请日：2019-10-22
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687
Abstract: 一种用于在光刻工艺中使用的减少物体对表面的粘附的方法，该方法包括在控制计算机处接收用于被配置为对表面修改的工具的指令，以及基于在控制计算机处接收的指令以确定的方式形成具有沟和脊的修改表面，其中，脊通过减小修改表面的接触表面积来减少粘附。另一装置包括修改表面，修改表面包括形成减小的接触表面积以减少物体对修改表面的粘附的沟和脊，脊具有弹性性质，当多个脊弹性变形时，弹性性质导致减小的接触表面积增加。
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公开(公告)号：CN119087748A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202411175263.6
申请日：2020-04-21
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/687 , H01L21/683 , C23C16/50
Abstract: 一种光刻设备，包括：照射系统、支撑件、投影系统以及衬底台。衬底台包括：台座，包括表面；以及具有不均匀厚度的涂层，被设置在台座的表面上。台座相对于名义平坦度的偏转是由涂层引起的应力的函数，其中涂层的横截面轮廓至少基于应力和不均匀厚度，其中涂层的表面是实质上平坦的，并且其中涂层的表面被配置为在衬底台支撑衬底时接触衬底。
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公开(公告)号：CN111279266B
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN201880069695.5
申请日：2018-10-04
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/683 , H01L21/687
Abstract: 描述了用于在光刻设备中保持物体的各种凸节设计。光刻设备包括照射系统、第一支撑结构、第二支撑结构和投影系统。照射系统被设计成接收辐射并将辐射引导朝向形成图案化辐射的图案形成装置。第一结构被设计成将图案形成装置支撑在第一支撑结构上。第二支撑结构(402)具有多个凸节(406)并且被设计成将衬底(408)支撑在多个凸节上。多个凸节中的每个凸节的顶表面的形貌不是基本平坦的，从而减小了衬底与多个凸节中的每个凸节之间的接触面积。投影系统被设计成接收图案化辐射并将图案化辐射导向衬底。
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