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公开(公告)号：CN110892333B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN104995563B
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201480009319.9
申请日：2014-02-20
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： K·库依皮尔斯 , M·H·德安德里德奥利维拉 , M·J·莱米 , C·辛夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , H·A·J·W·范德文 , J·N·小方塞卡 , F·J·J·鲍克斯泰尔 , D·N·伯班克 , E·R·鲁普斯特拉 , 约翰内斯·昂伍李 , M·J·舒斯特尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , C·C·沃德 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
Abstract: 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。
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公开(公告)号：CN110268331B
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN201880011018.8
申请日：2018-01-17
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了为图案形成设备提供Z方向的支撑系统的系统和方法，该图案形成设备可以在对X和Y方向的行进和迟滞影响最小的条件下在高加速度和高减速度下工作。掩模版夹持系统包括支撑设备和保持设备。保持设备被配置为可释放地将掩模版耦合到支撑设备。保持设备包括多个突节。掩模版夹持系统还包括被耦合到支撑设备的金属支撑系统。金属支撑系统提供从真空通道到保持设备的真空路径。
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公开(公告)号：CN107111248A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201580071474.8
申请日：2015-12-02
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： T·本图里诺 , G·舒尔茨 , D·N·加尔布勒特 , D·N·伯班克 , S·E·德尔皮于尔特 , H·沃格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , L·J·A·凡鲍克霍文 , C·C·沃德
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。
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公开(公告)号：CN117561481A
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202280045308.0
申请日：2022-06-28
Applicant: ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种光刻设备，包括用于照射图案形成装置的图案的照射系统、用于将图案的图像投影到衬底上的投影系统、用于支撑图案形成装置或衬底的可移动平台、开有槽的物体、以及用于阻止可移动平台的运动的锁定装置(700)。锁定装置包括致动器(702)和轮装置(704)，轮装置包括环部件(708)并联接到致动器。致动器使轮装置围绕旋转轴线(706)旋转。环部件具有平行于旋转轴线限定的宽度(710)。宽度相对于轮装置的方位角方向是能够改变的。环部件接合开有槽的物体的槽。所述旋转调整所述环部件在所述槽内的宽度，使得所述装置与所述开有槽的物体之间的相对运动被阻止。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107111248B
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201580071474.8
申请日：2015-12-02
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： T·本图里诺 , G·舒尔茨 , D·N·加尔布勒特 , D·N·伯班克 , S·E·德尔皮于尔特 , H·沃格尔 , 约翰内斯·昂伍李 , L·J·A·凡鲍克霍文 , C·C·沃德
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种通过供应非均匀的气流冷却图案形成装置的设备、系统和方法。该设备和系统包括供应横跨图案形成装置的第一表面的气流的气体供应结构。该气体供应结构包括专门配置成用于产生非均匀气流分布的气体供应喷嘴。将较大体积或速度的气流引导至该图案形成装置的期望部分。
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公开(公告)号：CN104995563A
公开(公告)日：2015-10-21
申请号：CN201480009319.9
申请日：2014-02-20
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
Inventor： K·库依皮尔斯 , M·H·德安德里德奥利维拉 , M·J·莱米 , C·辛夫 , L·J·A·凡鲍克霍文 , H·A·J·W·范德文 , J·N·小方塞卡 , F·J·J·鲍克斯泰尔 , D·N·伯班克 , E·R·鲁普斯特拉 , 约翰内斯·昂伍李 , M·J·舒斯特尔 , R·N·J·范巴莱高吉 , C·C·沃德 , J·S·C·维斯特尔拉肯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70358 , G03F7/70633 , G03F7/70725 , G03F7/70866
Abstract: 本发明公开了一种用于通过控制光刻设备的图案形成装置周围的气流来减小重叠误差的系统。所述光刻设备包括照射系统，所述照射系统被配置为调节辐射束。所述光刻设备还包括可移动台，所述可移动台包括支撑结构，所述支撑结构可以被配置为支撑图案形成装置。所述图案形成装置可以被配置为在辐射束的横截面内将图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束。此外，所述光刻设备包括板(410)，所述板定位在可移动台(401)和投影系统(208)之间。所述板包括开口(411)，所述开口包括第一侧壁(411a)和第二侧壁(411b)。所述板可以被配置为在可移动台和投影系统之间的区域内提供气流图形(424)，所述气流图形基本上垂直于所述照射系统的光轴。
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公开(公告)号：CN109564394A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780046859.8
申请日：2017-07-17
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70916 , G03F1/24 , G03F1/64 , G03F7/70033 , G03F7/70983
Abstract: 颗粒捕集器组件配置成减少具有较大范围的尺寸、材料、行进速度和入射角的污染物颗粒到达颗粒敏感环境的可能性。所述颗粒捕集器可以是位于光刻设备的静止零件与可移动零件之间的间隙几何颗粒捕集器。所述颗粒捕集器也可以是位于光刻或量测设备中的颗粒敏感环境的表面上的表面几何颗粒捕集器。
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公开(公告)号：CN109564394B
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN201780046859.8
申请日：2017-07-17
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 颗粒捕集器组件配置成减少具有较大范围的尺寸、材料、行进速度和入射角的污染物颗粒到达颗粒敏感环境的可能性。所述颗粒捕集器可以是位于光刻设备的静止零件与可移动零件之间的间隙几何颗粒捕集器。所述颗粒捕集器也可以是位于光刻或量测设备中的颗粒敏感环境的表面上的表面几何颗粒捕集器。
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公开(公告)号：CN110892333A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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