公开(公告)号：CN116457652A

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202180077577.0

申请日：2021-10-21

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·斯科特兹 ,  R·R·文斯特拉 ,  A·G·M·吉尔斯

IPC: G01N21/956

Abstract: 本文公开了用于标识样品中的缺陷的检查工具和方法。方法包括以下步骤：使用第一检测器射束来扫描样品的第一区域以及使用第二检测器射束来扫描样品的第二区域，然后接收从第一和第二检测器射束导出的第一和第二信号。第一和第二信号被比较以确定样品中是否存在缺陷。

公开(公告)号：CN118414686A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202280083344.6

申请日：2022-11-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·斯科特兹 ,  A·V·G·曼格努斯 ,  任岩 ,  E·P·斯马克曼 ,  J·范索伊斯特

IPC: H01J37/22

Abstract: 一种被配置为投射带电粒子的多射束的带电粒子光学装置，装置包括：带电粒子设备，该带电粒子设备在以下之间切换：(i)操作配置，其中该设备被配置为沿着从多射束的源延伸到样品的操作束路径将多射束投射到所样品，和(ii)监测配置，其中该设备被配置为沿着从源延伸到检测器的监测束路径将多射束投射到检测器；其中监测束路径沿着操作束路径从所述检查束路径中途转向。

公开(公告)号：CN118414684A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202280084052.4

申请日：2022-11-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任岩 ,  M·斯科特兹 ,  A·V·G·曼格努斯 ,  E·P·斯马克曼

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/12 ,  H01J37/244 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01J37/317

Abstract: 本发明提供了一种用于带电粒子检查装置的带电粒子设备，用于将子射束阵列朝向样品投射，带电粒子设备包括：带电粒子光学元件和检测器。带电粒子光学元件具有上游表面，该上游表面具有用于从带电粒子束产生子射束阵列的多个开口。在带电粒子光学元件中限定了：子射束孔径和监测孔径。子射束孔径延伸穿过带电粒子元件，用于子射束阵列朝向样品的路径，监测孔径延伸穿过带电粒子元件。检测器位于监测孔径中。检测器的至少一部分位于上游表面的下游。检测器测量入射到检测器上的带电粒子束的一部分的参数。

公开(公告)号：CN113811635A

公开(公告)日：2021-12-17

申请号：CN202080028120.6

申请日：2020-03-20

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·德鲁日尼纳 ,  J·V·奥弗坎普 ,  A·O·波利雅科夫 ,  T·J·科南 ,  E·库加诺娃 ,  I·M·西奥比卡 ,  A·L·克莱因 ,  A·V·G·曼格努斯 ,  M·斯科特兹 ,  B·M·范德布罗艾克

IPC: C23C16/04 ,  C23C16/26 ,  C23C16/30 ,  C23C16/48 ,  C23C16/56 ,  G03F1/22 ,  G03F7/20 ,  H01L21/285

Abstract: 本发明公开用于形成图案化材料层的方法和装置。在一个布置中，衬底的表面的选定部分在沉积过程期间被照射，所述照射在所述选定部分中局部驱动所述沉积过程，并且由此在由所述选定部分限定的图案中形成沉积材料层。对所述沉积材料进行退火以改变所述沉积材料。

公开(公告)号：CN119487604A

公开(公告)日：2025-02-18

申请号：CN202380051435.6

申请日：2023-09-11

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： V·S·凯珀 ,  M·斯科特兹

IPC: H01J37/20

Abstract: 本发明提供了一种带电粒子装置，用于向多个样品投射多个束栅格的带电粒子束。该装置包括：载物台，被配置为在相应样品位置处支撑多个样品；以及带电粒子器件的阵列，带电粒子器件分别被配置为将束栅格中的多个带电粒子束投射到相应样品位置。带电粒子器件分别包括物镜的阵列和检测器，物镜被配置为将带电粒子器件的束栅格的相应光束引导到相应样品位置处的样品上，并且检测器被配置为检测来自该样品的信号粒子。载物台被配置为相对于带电粒子器件的阵列被致动。载物台和带电粒子器件的阵列被配置成使得带电粒子器件的阵列相对于所述多个样品同时进行扫描。

公开(公告)号：CN118402033A

公开(公告)日：2024-07-26

申请号：CN202280082770.8

申请日：2022-11-22

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： 任岩 ,  A·V·G·曼格努斯 ,  M·斯科特兹 ,  E·P·斯马克曼

IPC: H01J37/04

Abstract: 一种从带电粒子源束生成多个子束并将子束下行束引导向样品位置的带电粒子装置。该带电粒子装置包括带电粒子源、孔径阵列和带电粒子光学部件。带电粒子源包括沿着发散路径发射带电粒子源束的发射器。孔径阵列被定位于发散路径中，因此孔径阵列从源束生成子束。带电粒子光学部件作用于孔径阵列上游的源束上。带电粒子光学部件包括多极和/或带电粒子透镜。多极对源束进行操作，以改变发散路径在孔径阵列处的位置。多极可以改变发散路径在孔径阵列处的横截面形状。带电粒子光学透镜补偿发射器与孔径阵列之间的距离变化。

公开(公告)号：CN116762152A

公开(公告)日：2023-09-15

申请号：CN202180090368.X

申请日：2021-11-09

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： E·斯洛特 ,  A·V·G·曼格努斯 ,  E·P·斯马克曼 ,  任岩 ,  M·斯科特兹

IPC: H01J37/304

Abstract: 一种带电粒子工具被配置为从带电粒子束生成多个子束，并且将子束向束下游引导向样品(600)位置，该工具、即带电粒子工具包括至少三个带电粒子光学组件(201、111、235、234)；检测器模块(240)；以及控制器。检测器模块被配置为响应于从样品位置的方向向束上游传播的带电粒子而生成检测信号。控制器被配置为在校准模式下操作该工具。带电粒子光学组件包括被配置为发射带电粒子束的带电粒子源201、以及被配置为生成子束的束生成器(111)。检测信号包含关于带电粒子光学组件中的至少两个带电粒子光学组件的对准的信息。带电粒子光学组件包括两个或更多个带电粒子光学元件，该两个或更多个带电粒子光学元件包括可以监测带电粒子的孔径阵列。