公开(公告)号：CN116670799A

公开(公告)日：2023-08-29

申请号：CN202180080599.2

申请日：2021-11-08

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： R·R·文斯特拉

IPC分类号： H01J37/244

摘要： 一种用于带电粒子评估工具的多束电子光学系统，该系统包括：包括多个物镜的物镜阵列组件，每个物镜被配置为将多个带电粒子束中的一个带电粒子束投射到样品上；检测器阵列，其与物镜阵列组件相关联并且被配置为检测从样品发射的带电粒子；以及电路，其包括与检测器阵列进行数据通信的放大器；其中放大器被配置为可调谐以便调谐来自检测器阵列的信号的放大。

公开(公告)号：CN118251745A

公开(公告)日：2024-06-25

申请号：CN202280053647.3

申请日：2022-05-09

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·范索伊斯特 ,  R·R·文斯特拉 ,  E·P·斯马克曼 ,  T·范祖芬 ,  A·V·G·曼格努斯

IPC分类号： H01J37/073

摘要： 本公开涉及一种带电粒子射束装置，被配置为朝向样品投射带电粒子射束。该带电粒子射束装置包括被配置为朝向样品投射相应带电粒子射束的多个带电粒子光学柱，其中每个带电粒子光学柱包括：带电粒子源，该带电粒子源被配置为朝向样品发射带电粒子射束，该带电粒子源被包括在源阵列中；物镜，该物镜包括静电电极，该静电电极被配置为朝向带电粒子射束引导样品；以及检测器，该检测器与物镜阵列相关联，该检测器被配置为检测从样品发射的带电粒子信号。物镜是带电粒子光学柱的射束最下游元件，该射束最下游元件被配置为影响朝向样品引导的带电粒子射束。

公开(公告)号：CN116457652A

公开(公告)日：2023-07-18

申请号：CN202180077577.0

申请日：2021-10-21

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·斯科特兹 ,  R·R·文斯特拉 ,  A·G·M·吉尔斯

IPC分类号： G01N21/956

摘要： 本文公开了用于标识样品中的缺陷的检查工具和方法。方法包括以下步骤：使用第一检测器射束来扫描样品的第一区域以及使用第二检测器射束来扫描样品的第二区域，然后接收从第一和第二检测器射束导出的第一和第二信号。第一和第二信号被比较以确定样品中是否存在缺陷。

公开(公告)号：CN115769376A

公开(公告)日：2023-03-07

申请号：CN202180048186.6

申请日：2021-07-05

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： M·J-J·维兰德 ,  S·尼蒂亚诺维 ,  R·R·文斯特拉 ,  姜珲

IPC分类号： H01L27/144

摘要： 提供了一种检测器衬底(或检测器阵列)，用于带电粒子多束评估工具中以检测来自样品的带电粒子。检测器衬底对用于多束的相应带电粒子束的束路径的孔径阵列进行限定。检测器衬底包括：传感器单位阵列。传感器单位阵列的传感器单位与孔径阵列中的对应孔径相邻。传感器单位被配置为从样品捕获带电粒子。检测器阵列包括放大电路，该放大电路与传感器单位阵列中的每个传感器单位相关联，并且接近于孔径阵列中的对应孔径。放大电路包括跨阻放大器和/或模数转换器。