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公开(公告)号：CN109564395B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201780048092.2
申请日：2017-07-17
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法。在一种布置中，光学系统接收具有相干性的辐射束。辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量。波导支持多个波导空间模式。光学系统将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的辐射束的多个分量引导到波导上，使得多个分量中的每个分量耦合到波导空间模式的不同集合，每个集合包括一个或多个波导空间模式。
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公开(公告)号：CN108292106B
公开(公告)日：2021-05-25
申请号：CN201680068551.9
申请日：2016-09-21
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G02B21/24 , G01N21/956
摘要： 一种方法包括：获得由目标重新定向的测量辐射的多个辐射分布，多个辐射分布中的每个辐射分布在目标和测量设备的光学元件之间的不同间隙距离处被获得，光学元件是用于向目标提供测量辐射的、距离目标最近的光学元件；以及结合描述测量目标的数学模型，使用多个辐射分布的数据来确定与目标有关的参数。
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公开(公告)号：CN110603492A
公开(公告)日：2019-12-20
申请号：CN201880030470.9
申请日：2018-03-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·A·戈登 , S·R·惠斯曼 , D·阿克布鲁特 , A·波洛 , S·G·J·马斯杰森
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种量测传感器装置及其相关方法。量测传感器装置包括：照射系统，可操作用于利用具有第一偏振状态的照射辐射来照射衬底上的量测标记；以及光学收集系统，被配置为在照射辐射被量测标记散射之后收集散射辐射。量测标记包括主结构，并且相对于第一偏振状态改变主要通过主结构的散射得到的散射辐射的第一部分的偏振状态和主要通过除主结构之外的一个或多个特征的散射得到的辐射的第二部分的偏振状态中的至少一个，使得散射辐射的第一部分的偏振状态不同于散射辐射的第二部分的偏振状态。量测传感器装置还包括光学过滤系统，光学过滤系统基于其偏振状态滤除散射辐射的第二部分。
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公开(公告)号：CN109643072A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201780051545.7
申请日：2017-06-30
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·R·休斯曼 , S·G·J·马斯杰森 , S·A·戈登 , D·阿克布鲁特 , A·波洛
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 一种光刻设备中的对准传感器，包括被配置为在第一波段(例如，500-900nm)和/或第二波段(例如，1500-2500nm)中选择性地传递、收集和处理辐射的光学系统(500；600)。第一波段和第二波段的辐射在光学系统的至少一些部分中共享公共光学路径(506-508；606)，而第一波段的辐射由第一处理子系统(552a)处理并且第二波段(552b)的辐射由第二处理子系统处理。在一个示例中，处理子系统包括自参考干涉仪(556a/556b；656a/656b)。第二波段的辐射允许通过诸如碳硬掩模的不透明层(308)来测量标记。每个处理子系统的光学涂层和其他组件可以根据相应的波段进行定制，而不是完全复制光学系统。
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公开(公告)号：CN109643072B
公开(公告)日：2021-10-26
申请号：CN201780051545.7
申请日：2017-06-30
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： S·R·休斯曼 , S·G·J·马斯杰森 , S·A·戈登 , D·阿克布鲁特 , A·波洛
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 一种光刻设备中的对准传感器，包括被配置为在第一波段(例如，500‑900nm)和/或第二波段(例如，1500‑2500nm)中选择性地传递、收集和处理辐射的光学系统(500；600)。第一波段和第二波段的辐射在光学系统的至少一些部分中共享公共光学路径(506‑508；606)，而第一波段的辐射由第一处理子系统(552a)处理并且第二波段(552b)的辐射由第二处理子系统处理。在一个示例中，处理子系统包括自参考干涉仪(556a/556b；656a/656b)。第二波段的辐射允许通过诸如碳硬掩模的不透明层(308)来测量标记。每个处理子系统的光学涂层和其他组件可以根据相应的波段进行定制，而不是完全复制光学系统。
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公开(公告)号：CN112368647A
公开(公告)日：2021-02-12
申请号：CN201980045196.7
申请日：2019-06-05
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 本发明提供了一种位置传感器(300)，包括被配置为向衬底(307)提供测量辐射(304)的光学系统(305，306)。光学系统被布置为接收由设置在衬底上的标记(308)衍射的辐射(309)的至少一部分。应用处理器(313)以从接收到的辐射中得出至少一个位置敏感信号(312)。测量辐射包括至少第一选定辐射波长和第二选定辐射波长。至少第一辐射波长和第二辐射波长的选择基于位置误差摆动曲线模型。
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公开(公告)号：CN109564395A
公开(公告)日：2019-04-02
申请号：CN201780048092.2
申请日：2017-07-17
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 公开了用于处理具有相干性的辐射束的装置和方法。在一种布置中，光学系统接收具有相干性的辐射束。辐射束包括分布在一个或多个辐射束空间模式之上的分量。波导支持多个波导空间模式。光学系统将属于共同辐射束空间模式并且具有不同频率的辐射束的多个分量引导到波导上，使得多个分量中的每个分量耦合到波导空间模式的不同集合，每个集合包括一个或多个波导空间模式。
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公开(公告)号：CN108292106A
公开(公告)日：2018-07-17
申请号：CN201680068551.9
申请日：2016-09-21
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00 , G02B21/24 , G01N21/956
CPC分类号： G03F7/70133 , G01N21/956 , G02B21/242 , G03F7/70625 , G03F7/70633
摘要： 一种方法包括：获得由目标重新定向的测量辐射的多个辐射分布，多个辐射分布中的每个辐射分布在目标和测量设备的光学元件之间的不同间隙距离处被获得，光学元件是用于向目标提供测量辐射的、距离目标最近的光学元件；以及结合描述测量目标的数学模型，使用多个辐射分布的数据来确定与目标有关的参数。
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公开(公告)号：CN112368647B
公开(公告)日：2024-03-26
申请号：CN201980045196.7
申请日：2019-06-05
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 本发明提供了一种位置传感器(300)，包括被配置为向衬底(307)提供测量辐射(304)的光学系统(305，306)。光学系统被布置为接收由设置在衬底上的标记(308)衍射的辐射(309)的至少一部分。应用处理器(313)以从接收到的辐射中得出至少一个位置敏感信号(312)。测量辐射包括至少第一选定辐射波长和第二选定辐射波长。至少第一辐射波长和第二辐射波长的选择基于位置误差摆动曲线模型。
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公开(公告)号：CN117280281A
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202280033030.5
申请日：2022-04-05
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了一种并行量测传感器系统，包括参考框架和多个集成光学器件传感器头，每个集成光学器件传感器头被配置为执行独立测量。集成光学器件传感器头中的每个集成光学器件传感器头能够操作以测量其相对于参考框架的位置。
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