公开(公告)号：CN1987657B

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：CN200610169059.9

申请日：2006-12-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·F·森杰斯 ,  N·A·A·J·范阿斯坦 ,  W·J·伯西 ,  T·A·R·范恩佩尔 ,  L·M·勒瓦斯尔 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  M·J·E·H·穆特杰斯 ,  L·奥维汉德 ,  L·J·M·范登舒尔 ,  M·贝克斯 ,  R·詹森 ,  E·范洛恩侯特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70883 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70858 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7034

摘要： 光刻设备和制造器件的方法公开了一种光刻设备。该设备包括保持衬底的衬底台。衬底台是可移动的，以便在衬底测量位置和衬底处理位置之间传送衬底。该设备还包括测量系统，用于在衬底台将衬底保持在测量位置中时测量衬底的至少一个方面或特性。测量系统用于将至少一个测量束和/或测量场向衬底的表面引导。投影系统用于在衬底台将衬底保持在衬底处理位置中时将已构图的辐射束投射到衬底的目标部分上，并且调节系统用于将调节流体提供到测量系统的测量束和/或测量场路径的至少一部分，以调节该部分路径。

公开(公告)号：CN1987657A

公开(公告)日：2007-06-27

申请号：CN200610169059.9

申请日：2006-12-20

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： T·F·森杰斯 ,  N·A·A·J·范阿斯坦 ,  W·J·伯西 ,  T·A·R·范恩佩尔 ,  L·M·勒瓦斯尔 ,  E·R·卢普斯特拉 ,  M·J·E·H·穆特杰斯 ,  L·奥维汉德 ,  L·J·M·范登舒尔 ,  M·贝克斯 ,  R·詹森 ,  E·范洛恩侯特

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70883 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70858 ,  G03F9/7011 ,  G03F9/7034

摘要： 公开了一种光刻设备。该设备包括保持衬底的衬底台。衬底台是可移动的，以便在衬底测量位置和衬底处理位置之间传送衬底。该设备还包括测量系统，用于在衬底台将衬底保持在测量位置中时测量衬底的至少一个方面或特性。测量系统用于将至少一个测量束和/或测量场向衬底的表面引导。投影系统用于在衬底台将衬底保持在衬底处理位置中时将已构图的辐射束投射到衬底的目标部分上，并且调节系统用于将调节流体提供到测量系统的测量束和/或测量场路径的至少一部分，以调节该部分路径。