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公开(公告)号：CN110998449A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201880051260.8
申请日：2018-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括：针对使用图案化过程产生的衬底的器件图案的多个特征中的每个特定特征，获得在所述衬底的测量目标与所述特定特征之间的所述图案化过程的参数的模型化或模拟关系；和基于所述关系和来自量测目标的所述参数的测量值，产生针对所述特征中的每个特征的横跨所述衬底的至少一部分的所述参数的分布，所述分布用于设计、控制或修改所述图案化过程。
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公开(公告)号：CN112236724A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201980038174.8
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定与通过光刻过程形成的在衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法，所述方法包括：获得所述结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定所述感兴趣的特性。也公开了一种掩模版，所述掩模版包括目标形成特征，所述特征包括多于两个的子特征，每个子特征在成像在衬底上以在所述衬底上形成相应的目标结构时对感兴趣的特性具有不同的敏感度。也描述了相关方法和设备。
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公开(公告)号：CN113227908B
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN201980087198.2
申请日：2019-12-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·G·J·马西森 , 马克·约翰尼斯·努特 , K·巴塔查里亚 , A·J·登鲍埃夫 , G·格热拉 , T·D·戴维斯 , O·V·兹维尔 , R·T·惠格根 , P·D·恩布卢姆 , 简-威廉·格明科
Abstract: 一种方法提供以下步骤：从量测工具接收图像；确定所述图像的单独的单元；以及辨别提供准确量测值的单元。所述图像是通过在多个波长情况下测量量测目标而获得的。当所述单元是所述图像中的像素时，这些单元之间的所述辨别是基于对所述单元之间的相似度的计算。
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公开(公告)号：CN116758012A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310622332.2
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
Abstract: 公开了一种确定与衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法、掩模版、衬底。方法包括：获得结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定感兴趣的特性。
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公开(公告)号：CN110998449B
公开(公告)日：2022-03-01
申请号：CN201880051260.8
申请日：2018-07-11
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种方法包括：针对使用图案化过程产生的衬底的器件图案的多个特征中的每个特定特征，获得在所述衬底的测量目标与所述特定特征之间的所述图案化过程的参数的模型化或模拟关系；和基于所述关系和来自量测目标的所述参数的测量值，产生针对所述特征中的每个特征的横跨所述衬底的至少一部分的所述参数的分布，所述分布用于设计、控制或修改所述图案化过程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112236724B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201980038174.8
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定与通过光刻过程形成的在衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法，所述方法包括：获得所述结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定所述感兴趣的特性。也公开了一种掩模版，所述掩模版包括目标形成特征，所述特征包括多于两个的子特征，每个子特征在成像在衬底上以在所述衬底上形成相应的目标结构时对感兴趣的特性具有不同的敏感度。也描述了相关方法和设备。
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公开(公告)号：CN110612481A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201880030364.0
申请日：2018-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F9/00
Abstract: 重叠量测目标(600、900、1000)包含通过光刻术形成的多个重叠光栅(932-935)。从目标获得第一衍射信号(740(1))，并导出目标结构的第一不对称性值(As)。从目标获得第二衍射信号(740(2))，并导出第二不对称性值(As')。使用不同的捕获条件和/或目标结构和/或偏置值的不同设计来获得第一衍射信号和第二衍射信号。第一不对称性信号和第二不对称性信号用于求解方程并获得重叠误差的测量结果。计算重叠误差假设给定目标结构中的不对称性不是由于在第一方向、第二方向或是两个方向上的重叠引起的。使用合适的偏置方案，该方法即使在存在二维重叠结构的情况下也允许准确地测量重叠和其它与不对称性相关的属性。
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公开(公告)号：CN110249268A
公开(公告)日：2019-09-17
申请号：CN201880010063.1
申请日：2018-01-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , H01L21/66 , G01N21/956
Abstract: 公开了一种过程监测方法和一种关联的量测设备。该方法包括：将与实际目标(1000)的测量响应有关的测量到的目标响应光谱序列数据(1010)和与如所设计的目标的测量响应有关的等效参考目标响应序列数据(1030)进行比较(1020)；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的所述比较来执行(1040)过程监测动作。该方法还可以包括根据测量到的目标响应光谱序列数据和参考目标响应光谱序列数据来确定(1050)叠层参数。
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公开(公告)号：CN110249268B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN201880010063.1
申请日：2018-01-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , H01L21/66 , G01N21/956
Abstract: 公开了一种过程监测方法和一种关联的量测设备。该方法包括：将与实际目标(1000)的测量响应有关的测量到的目标响应光谱序列数据(1010)和与如所设计的目标的测量响应有关的等效参考目标响应序列数据(1030)进行比较(1020)；以及基于所述测量到的目标响应序列数据与参考目标响应序列数据的所述比较来执行(1040)过程监测动作。该方法还可以包括根据测量到的目标响应光谱序列数据和参考目标响应光谱序列数据来确定(1050)叠层参数。
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公开(公告)号：CN113227908A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980087198.2
申请日：2019-12-24
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： S·G·J·马西森 , 马克·约翰尼斯·努特 , K·巴塔查里亚 , A·J·登鲍埃夫 , G·格热拉 , T·D·戴维斯 , O·V·兹维尔 , R·T·惠格根 , P·D·恩布卢姆 , 简-威廉·格明科
Abstract: 一种方法提供以下步骤：从量测工具接收图像；确定所述图像的单独的单元；以及辨别提供准确量测值的单元。所述图像是通过在多个波长情况下测量量测目标而获得的。当所述单元是所述图像中的像素时，这些单元之间的所述辨别是基于对所述单元之间的相似度的计算。
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