-
公开(公告)号：CN116758012A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310622332.2
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
Abstract: 公开了一种确定与衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法、掩模版、衬底。方法包括：获得结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定感兴趣的特性。
-
公开(公告)号：CN112236724A
公开(公告)日：2021-01-15
申请号：CN201980038174.8
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定与通过光刻过程形成的在衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法，所述方法包括：获得所述结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定所述感兴趣的特性。也公开了一种掩模版，所述掩模版包括目标形成特征，所述特征包括多于两个的子特征，每个子特征在成像在衬底上以在所述衬底上形成相应的目标结构时对感兴趣的特性具有不同的敏感度。也描述了相关方法和设备。
-
公开(公告)号：CN112352202B
公开(公告)日：2024-04-09
申请号：CN201980042725.8
申请日：2019-05-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳 , M·哈伊赫曼达
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定衬底上的目标的特性的方法和用于确定衬底上的目标的特性的相关联的量测设备。所述方法包括：获得多个强度不对称性测量结果，每个强度不对称性测量结果与形成于所述衬底上的目标有关；和根据所述多个强度不对称性测量结果，确定与每个目标对应的敏感度系数。使用这些敏感度系数，确定所述多个目标的代表性敏感度系数或确定所述多个目标中的多于一个目标的子集的代表性敏感度系数。然后，使用所述代表性敏感度系数，确定所述目标的特性。
-
公开(公告)号：CN112236724B
公开(公告)日：2023-05-23
申请号：CN201980038174.8
申请日：2019-05-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： L·特里波迪 , 帕特里克·华纳 , G·格热拉 , M·哈伊赫曼达 , F·法哈德扎德 , P·A·J·廷尼曼斯 , S·A·米德尔布鲁克斯 , 安卓尼斯·科内利斯·马修斯·科普曼 , 弗兰克·斯塔尔斯 , 布伦南·彼得森 , A·B·范奥斯汀
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定与通过光刻过程形成的在衬底上的结构相关的感兴趣的特性的方法，所述方法包括：获得所述结构的输入图像；和使用训练后的神经网络以从所述输入图像确定所述感兴趣的特性。也公开了一种掩模版，所述掩模版包括目标形成特征，所述特征包括多于两个的子特征，每个子特征在成像在衬底上以在所述衬底上形成相应的目标结构时对感兴趣的特性具有不同的敏感度。也描述了相关方法和设备。
-
公开(公告)号：CN110612481A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201880030364.0
申请日：2018-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F9/00
Abstract: 重叠量测目标(600、900、1000)包含通过光刻术形成的多个重叠光栅(932-935)。从目标获得第一衍射信号(740(1))，并导出目标结构的第一不对称性值(As)。从目标获得第二衍射信号(740(2))，并导出第二不对称性值(As')。使用不同的捕获条件和/或目标结构和/或偏置值的不同设计来获得第一衍射信号和第二衍射信号。第一不对称性信号和第二不对称性信号用于求解方程并获得重叠误差的测量结果。计算重叠误差假设给定目标结构中的不对称性不是由于在第一方向、第二方向或是两个方向上的重叠引起的。使用合适的偏置方案，该方法即使在存在二维重叠结构的情况下也允许准确地测量重叠和其它与不对称性相关的属性。
-
Patent Agency Ranking
-
公开(公告)号：CN115698867A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202180038760.X
申请日：2021-05-10
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 公开了一种用于确定用于曝光衬底上的至少一个结构的聚焦参数值的方法。所述方法包括：获得与所述至少一个结构的测量有关的测量数据，其中，所述至少一个结构包括每测量位置的单个周期性结构；以及将所述测量数据分解成包括所述测量数据的一个或更多个分量的分量数据。处理所述分量中的至少一个分量以提取具有对非聚焦相关效应的降低的依赖性的处理后的分量数据；以及根据所述处理后的分量数据来确定所述聚焦参数的值。还公开了相关联的设备和图案形成装置。
-
-
公开(公告)号：CN114341741A
公开(公告)日：2022-04-12
申请号：CN202080061884.5
申请日：2020-08-05
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： R·沃克曼 , 林裴冷 , 布兰丁·玛丽·安德烈·里奇特·明格蒂 , V·巴斯塔尼 , M·哈伊赫曼达 , L·M·韦尔甘-于泽 , 弗兰斯·雷尼尔·斯皮林
IPC: G03F7/20
Abstract: 用于确定光刻图案化过程的性能的方法以及设备，该设备或方法被配置为或包括：接收衬底的一部分的图像，该衬底的该部分包括第一区以及第二区，第一区包括与在第一时间对衬底进行的第一光刻曝光相关联的第一特征，并且第二区包括与在第二时间对衬底进行的第二光刻曝光相关联的第二特征，其中，第一区和第二区不重叠，并且其中，第一特征和第二特征形成沿着第一区的至少一部分以及第二区的至少一部分延伸的单个特征；以及基于与第一区和第二区之间的边界相关联的已曝光的第一特征和/或已曝光的第二特征的特征特性确定光刻图案化过程的性能。
-
公开(公告)号：CN112352202A
公开(公告)日：2021-02-09
申请号：CN201980042725.8
申请日：2019-05-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 阿尔伯托·达科斯特阿萨法劳 , M·哈伊赫曼达
IPC: G03F7/20
Abstract: 公开了一种确定衬底上的目标的特性的方法和用于确定衬底上的目标的特性的相关联的量测设备。所述方法包括：获得多个强度不对称性测量结果，每个强度不对称性测量结果与形成于所述衬底上的目标有关；和根据所述多个强度不对称性测量结果，确定与每个目标对应的敏感度系数。使用这些敏感度系数，确定所述多个目标的代表性敏感度系数或确定所述多个目标中的多于一个目标的子集的代表性敏感度系数。然后，使用所述代表性敏感度系数，确定所述目标的特性。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.021 seconds)
