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公开(公告)号：CN109478023B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201780043927.5
申请日：2017-06-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·范德斯卡 , M·博兹库尔特 , 帕特里克·华纳 , S·C·T·范德山登
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了一种用于提供准确的且鲁棒性的测量光刻特征或量测参数的方法和设备。所述方法包括为量测目标的多个量测参数中的每一个量测参数提供一个范围的值或多个值，为多个量测参数中的每一个量测参数提供约束，并且通过处理器计算以在所述一个范围的值或多个值内优化/修改这些参数，从而导致多个量测目标设计具有满足约束的量测参数。
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公开(公告)号：CN110799905A
公开(公告)日：2020-02-14
申请号：CN201880043171.9
申请日：2018-05-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 光刻过程的重叠误差是使用多个目标结构测量的，每个目标结构具有已知的重叠偏差。检测系统获取表示在多个不同的获取条件(λ1、λ2)下由所述目标结构衍射的辐射的选定部分的多个图像(740)。将所述被获取的图像的像素值组合(748)以获得一个或更多个合成图像(750)。从一个或更多个合成图像提取(744)多个合成衍射信号，且使用所述多个合成衍射信号计算重叠的测量结果。相比于单独地从所述被获取的图像提取衍射信号，减小了计算负担。所述被获取的图像可以是使用散射仪获得的暗场图像或光瞳图像。
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公开(公告)号：CN111201489B
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN201880065666.1
申请日：2018-10-09
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： N·加瓦赫里 , M·哈吉阿玛迪 , M·博兹库尔特 , A·达科斯塔·埃萨弗劳 , M·J·诺特 , S·G·J·马斯杰森 , 廉晋
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , H01L23/544
Abstract: 公开了一种用于测量与具有至少两个层的结构有关的感兴趣参数的方法和相关联的装置。方法包括利用测量辐射照射该结构并且检测由上述结构散射的散射辐射。散射辐射包括正常和互补的更高衍射阶。限定将散射辐射参数与至少一个感兴趣参数关联的散射测量模型和将散射辐射参数与至少一个不对称参数关联的不对称模型，该不对称参数与一个或多个测量系统误差和/或目标中的除两个层之间未对准之外的不对称有关。散射测量模型和不对称模型的组合被用于确定方程组，然后针对感兴趣的参数对方程组求解。
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公开(公告)号：CN109478023A
公开(公告)日：2019-03-15
申请号：CN201780043927.5
申请日：2017-06-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·范德斯卡 , M·博兹库尔特 , 帕特里克·华纳 , S·C·T·范德山登
IPC: G03F7/20
Abstract: 描述了一种用于提供准确的且鲁棒性的测量光刻特征或量测参数的方法和设备。所述方法包括为量测目标的多个量测参数中的每一个量测参数提供一个范围的值或多个值，为多个量测参数中的每一个量测参数提供约束，并且通过处理器计算以在所述一个范围的值或多个值内优化/修改这些参数，从而导致多个量测目标设计具有满足约束的量测参数。
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公开(公告)号：CN113552779B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202110930656.3
申请日：2017-06-30
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·范德斯卡 , M·博兹库尔特 , 帕特里克·华纳 , S·C·T·范德山登
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , G01N21/956
Abstract: 描述了一种用于提供准确的且鲁棒性的测量光刻特征或量测参数的方法和设备。所述方法包括为量测目标的多个量测参数中的每一个量测参数提供一个范围的值或多个值，为多个量测参数中的每一个量测参数提供约束，并且通过处理器计算以在所述一个范围的值或多个值内优化/修改这些参数，从而导致多个量测目标设计具有满足约束的量测参数。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110612481A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201880030364.0
申请日：2018-04-13
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , G01N21/47 , G01N21/956 , G03F9/00
Abstract: 重叠量测目标(600、900、1000)包含通过光刻术形成的多个重叠光栅(932-935)。从目标获得第一衍射信号(740(1))，并导出目标结构的第一不对称性值(As)。从目标获得第二衍射信号(740(2))，并导出第二不对称性值(As')。使用不同的捕获条件和/或目标结构和/或偏置值的不同设计来获得第一衍射信号和第二衍射信号。第一不对称性信号和第二不对称性信号用于求解方程并获得重叠误差的测量结果。计算重叠误差假设给定目标结构中的不对称性不是由于在第一方向、第二方向或是两个方向上的重叠引起的。使用合适的偏置方案，该方法即使在存在二维重叠结构的情况下也允许准确地测量重叠和其它与不对称性相关的属性。
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公开(公告)号：CN113196172B
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN201980077503.X
申请日：2019-10-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 周子理 , N·潘迪 , O·V·兹维尔 , P·沃纳尔 , M·范德沙尔 , E·G·麦克纳马拉 , A·J·登博夫 , P·C·欣南 , M·博兹库尔特 , J·J·奥腾斯 , K·布哈塔查里亚 , M·库比斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 测量套刻的方法使用来自在衬底(W)上形成的一对子目标(1032，1034)上的位置(LOI)的多个非对称性测量。对于每个子目标，基于设计到子目标中的已知偏移变化，多个非对称性测量被拟合为非对称性与套刻之间的至少一个预期关系(1502，1504)。在一个示例中，通过变化顶部光栅和底部光栅的节距(P1/P2)，来提供连续的偏移变化。该对子目标之间的偏移变化相等并且相反(P2/P1)。套刻(OV)基于针对两个子目标的拟合关系之间的相对移动(xs)来被计算。将非对称性测量拟合为至少一个预期关系的步骤包括：完全或部分忽略偏离预期关系和/或落在拟合关系的特定段之外的测量(1506，1508，1510)。
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公开(公告)号：CN110799905B
公开(公告)日：2022-01-14
申请号：CN201880043171.9
申请日：2018-05-29
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 光刻过程的重叠误差是使用多个目标结构测量的，每个目标结构具有已知的重叠偏差。检测系统获取表示在多个不同的获取条件(λ1、λ2)下由所述目标结构衍射的辐射的选定部分的多个图像(740)。将所述被获取的图像的像素值组合(748)以获得一个或更多个合成图像(750)。从一个或更多个合成图像提取(744)多个合成衍射信号，且使用所述多个合成衍射信号计算重叠的测量结果。相比于单独地从所述被获取的图像提取衍射信号，减小了计算负担。所述被获取的图像可以是使用散射仪获得的暗场图像或光瞳图像。
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公开(公告)号：CN113196172A
公开(公告)日：2021-07-30
申请号：CN201980077503.X
申请日：2019-10-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： 周子理 , N·潘迪 , O·V·兹维尔 , P·沃纳尔 , M·范德沙尔 , E·G·麦克纳马拉 , A·J·登博夫 , P·C·欣南 , M·博兹库尔特 , J·J·奥腾斯 , K·布哈塔查里亚 , M·库比斯
IPC: G03F7/20
Abstract: 测量套刻的方法使用来自在衬底(W)上形成的一对子目标(1032，1034)上的位置(LOI)的多个非对称性测量。对于每个子目标，基于设计到子目标中的已知偏移变化，多个非对称性测量被拟合为非对称性与套刻之间的至少一个预期关系(1502，1504)。在一个示例中，通过变化顶部光栅和底部光栅的节距(P1/P2)，来提供连续的偏移变化。该对子目标之间的偏移变化相等并且相反(P2/P1)。套刻(OV)基于针对两个子目标的拟合关系之间的相对移动(xs)来被计算。将非对称性测量拟合为至少一个预期关系的步骤包括：完全或部分忽略偏离预期关系和/或落在拟合关系的特定段之外的测量(1506，1508，1510)。
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公开(公告)号：CN107077079A
公开(公告)日：2017-08-18
申请号：CN201580058279.1
申请日：2015-08-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·博兹库尔特 , M·J·J·加克 , P·A·J·廷尼曼斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G06T7/0004 , G03F7/705 , G03F7/70591 , G03F7/70633 , G06T7/11 , G06T2207/10061 , G06T2207/20224 , G06T2207/30148
Abstract: 基于目标的图像的强度测量目标结构的属性。方法包括(a)获得目标结构的图像；(b)限定(1204)多个候选感兴趣区域，各候选感兴趣区域包括在图像中的多个像素；(c)至少部分基于在感兴趣区域内的像素的信号值来限定(1208，1216)用于候选感兴趣区域的优化度量值；(d)限定(1208，1216)目标信号函数，目标信号函数限定了图像中的各像素对目标信号值的贡献。各像素的贡献取决于(i)哪个候选感兴趣区域包含该像素和(ii)那些候选感兴趣区域的优化度量值。
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