公开(公告)号：CN100476599C

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN03164840.1

申请日：2003-09-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·J·F·范哈伦 ,  P·C·欣南 ,  S·拉巴哈多尔辛 ,  E·C·莫斯 ,  H·梅亘斯 ,  M·范德沙尔 ,  J·休布雷格塞

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7084 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

Abstract: 在基底上用于所述基底光学对准的标记结构，所述标记结构包括多个第一结构元件和多个第二结构元件，在使用所述标记结构中，用于提供所述的光学对准，根据-设置直接照射在所述标记结构上的至少一个光束，-用传感器检测从所述标记结构上接收到的光线，-由所述被检测的光确定对准信息，所述对准信息包括与所述基底到所述传感器的位置相关的信息。

公开(公告)号：CN1534387A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN03164840.1

申请日：2003-09-19

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： R·J·F·范哈伦 ,  P·C·欣南 ,  S·拉巴哈多尔辛 ,  E·C·莫斯 ,  H·梅亘斯 ,  M·范德沙尔 ,  J·休布雷格塞

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7084 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7049 ,  G03F9/7076 ,  G03F9/7088 ,  G03F9/7092

Abstract: 在基底上用于所述基底光学对准的标记结构，所述标记结构包括多个第一结构元件和多个第二结构元件，在使用所述标记结构中，用于提供所述的光学对准，根据设置直接照射在所述标记结构上的至少一个光束，用传感器检测从所述标记结构上接收到的光线，由所述被检测的光确定对准信息，所述对准信息包括与所述基底到所述传感器的位置相关的信息。