公开(公告)号：CN100568101C

公开(公告)日：2009-12-09

申请号：CN200310123328.4

申请日：2003-11-11

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·洛夫 ,  E·T·M·比拉亚尔特 ,  H·布特勒 ,  S·N·L·唐德斯 ,  C·A·胡格达姆 ,  A·科勒斯伊辰科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·J·M·梅杰 ,  J·J·S·M·默顿斯 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  R·A·S·里特塞马 ,  F·范沙克 ,  T·F·森格斯 ,  K·西蒙 ,  J·T·德斯米特 ,  A·斯特拉艾杰 ,  B·斯特里夫克 ,  H·范桑坦

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。

公开(公告)号：CN1501175A

公开(公告)日：2004-06-02

申请号：CN200310123328.4

申请日：2003-11-11

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·洛夫 ,  E·T·M·比拉亚尔特 ,  H·布特勒 ,  S·N·L·唐德斯 ,  C·A·胡格达姆 ,  A·科勒斯伊辰科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·J·M·梅杰 ,  J·J·S·M·默顿斯 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  R·A·S·里特塞马 ,  F·范沙克 ,  T·F·森格斯 ,  K·西蒙 ,  J·T·德斯米特 ,  A·斯特拉艾杰 ,  B·斯特里夫克 ,  H·范桑坦

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。

公开(公告)号：CN101713932A

公开(公告)日：2010-05-26

申请号：CN200910206096.6

申请日：2003-11-11

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·洛夫 ,  E·T·M·比拉亚尔特 ,  H·布特勒 ,  S·N·L·唐德斯 ,  C·A·胡格达姆 ,  A·科勒斯伊辰科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·J·M·梅杰 ,  J·J·S·M·默顿斯 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  R·A·S·里特塞马 ,  F·范沙克 ,  T·F·森格斯 ,  K·西蒙 ,  J·T·德斯米特 ,  A·斯特拉艾杰 ,  B·斯特里夫克 ,  H·范桑坦

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法，其中光刻装置包括：用于支撑构图部件的支撑结构，构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统；其中，基底台还包括边缘密封构件，边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘，并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面，其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。

公开(公告)号：CN101713932B

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：CN200910206096.6

申请日：2003-11-11

申请人： ASML荷兰有限公司

发明人： J·洛夫 ,  E·T·M·比拉亚尔特 ,  H·布特勒 ,  S·N·L·唐德斯 ,  C·A·胡格达姆 ,  A·科勒斯伊辰科 ,  E·R·鲁普斯特拉 ,  H·J·M·梅杰 ,  J·J·S·M·默顿斯 ,  J·C·H·穆肯斯 ,  R·A·S·里特塞马 ,  F·范沙克 ,  T·F·森格斯 ,  K·西蒙 ,  J·T·德斯米特 ,  A·斯特拉艾杰 ,  B·斯特里夫克 ,  H·范桑坦

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70866

摘要： 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法，其中光刻装置包括：用于支撑构图部件的支撑结构，构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统；其中，基底台还包括边缘密封构件，边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘，并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面，其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。