-
公开(公告)号:CN102147574B
公开(公告)日:2013-10-09
申请号:CN201110083335.0
申请日:2004-06-09
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
摘要: 本发明公开了一种光刻装置和器件制造方法。在所述装置中,投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
-
公开(公告)号:CN101713932B
公开(公告)日:2012-09-26
申请号:CN200910206096.6
申请日:2003-11-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要: 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法,其中光刻装置包括:用于支撑构图部件的支撑结构,构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图;用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统;以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统;其中,基底台还包括边缘密封构件,边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘,并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面,其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。
-
公开(公告)号:CN101470360A
公开(公告)日:2009-07-01
申请号:CN200910002111.5
申请日:2003-11-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
摘要: 一种光刻装置,包括:构造用于保持基底的两个基底台;用于将带图案的辐射束投射到基底的靶部上的投射系统;用于在投射期间向所述投射系统的最终元件和所述基底之间提供液体的液体供给系统;和所述光刻装置被构造和布置为使得所述两个基底台中的一个基底台能够用于基底的曝光,另一个基底台能够用于准备步骤;所述光刻装置被构造和布置以在基底从所述投射系统下离开时保持最终元件与水接触。
-
公开(公告)号:CN1501172A
公开(公告)日:2004-06-02
申请号:CN200310120944.4
申请日:2003-11-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC分类号: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/707 , G03F7/70341 , G03F7/70833 , G03F7/7085 , G03F7/70916 , G03F9/7088
摘要: 在光刻投射装置中,液体供给系统将液体保持在投射系统最终元件与光刻投射装置的基底之间。在基底交换的过程中,提供一个遮光构件以代替基底将液体容纳在液体供给系统中。
-
公开(公告)号:CN1573564B
公开(公告)日:2011-05-18
申请号:CN200410047698.9
申请日:2004-06-09
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·洛夫 , H·布特勒 , S·N·L·当德斯 , A·科勒斯辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里科克 , E·T·M·比拉尔特 , C·A·胡根达姆 , H·范桑坦 , M·A·范德科霍夫 , M·克鲁恩 , A·J·登博夫 , J·J·奥坦斯 , J·J·S·M·梅坦斯
CPC分类号: G03F7/70141 , G03F7/70341 , G03F7/7085 , G03F7/70883
摘要: 本发明公开了一种光刻投影装置,在该装置中投影系统的最后元件和传感器之间的空间填充有液体。
-
公开(公告)号:CN101349876B
公开(公告)日:2010-12-01
申请号:CN200810213496.5
申请日:2003-11-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: A·T·A·M·德克森 , S·N·L·当德斯 , C·A·胡根达姆 , J·洛夫 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , T·F·森格斯 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F9/7088 , G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085
摘要: 本发明提供了一种光刻投射装置,包括:用于提供辐射投射光束的辐射系统;用于支撑构图部件的支撑结构,所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图;用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统;和液体供给系统,所述液体供给系统用于向由所述投射系统的最终元件的表面和所述基底的表面限定的空间提供浸没液体;所述光刻投射装置还包括当所述基底从所述投射系统下移开时,用于保持所述最终元件的所述表面与液体接触的装置。另外提供了一种器件制造方法。
-
公开(公告)号:CN100573335C
公开(公告)日:2009-12-23
申请号:CN200610105861.1
申请日:2006-07-13
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03B27/58 , G03F7/70425 , G03F7/70716
摘要: 为了提高光刻装置的生产率,描述了一种用于保持两个构图部件的工作台装置。这些构图部件设置为图案沿扫描方向的间距对应于图案沿扫描方向的长度。通过这样做,可以通过用第一图案将第一管芯曝光、越过邻近第一管芯的第二管芯,并利用第二图案将邻近第二管芯的第三管芯曝光来进行改进的曝光顺序。
-
公开(公告)号:CN100568101C
公开(公告)日:2009-12-09
申请号:CN200310123328.4
申请日:2003-11-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要: 公开了一种在投射系统最终元件与基底之间的空间充满液体的光刻投射装置。边缘密封构件17、117至少部分地环绕基底W或其它在基底台WT上的物体以防止当基底的边缘部分被成像或照射时毁灭性的液体损失。
-
公开(公告)号:CN1591196A
公开(公告)日:2005-03-09
申请号:CN200410074853.6
申请日:2004-08-30
申请人: ASML荷兰有限公司
CPC分类号: G03F7/70775 , G03F7/70058 , G03F7/70191 , G03F7/70341 , G03F7/7055 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F9/7088
摘要: 一种光刻装置,其包括:配置成可调节辐射光束的照射系统;构造成支撑构图部件的支撑结构,该构图部件能够在辐射光束横截面赋予图案以形成带图案的辐射光束;构造成保持基底的基底台;配置成将带图案的辐射光束投影到基底的目标部分的投影系统,以及在基底高度的传感器,其包括辐射接收元件、支撑所述辐射接收元件的透明板和辐射检测装置,其中在基底高度的所述传感器布置成避免在所述辐射接收元件和所述辐射检测装置的最终元件之间的辐射损失。
-
公开(公告)号:CN101713932A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910206096.6
申请日:2003-11-11
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: J·洛夫 , E·T·M·比拉亚尔特 , H·布特勒 , S·N·L·唐德斯 , C·A·胡格达姆 , A·科勒斯伊辰科 , E·R·鲁普斯特拉 , H·J·M·梅杰 , J·J·S·M·默顿斯 , J·C·H·穆肯斯 , R·A·S·里特塞马 , F·范沙克 , T·F·森格斯 , K·西蒙 , J·T·德斯米特 , A·斯特拉艾杰 , B·斯特里夫克 , H·范桑坦
IPC分类号: G03F7/20
CPC分类号: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/7085 , G03F7/70866
摘要: 本发明提供一种光刻装置和器件制造方法,其中光刻装置包括:用于支撑构图部件的支撑结构,构图部件用于根据理想的图案对辐射光束进行构图;用于保持基底的基底台;用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统;以及用于用液体至少部分填充投射系统与基底、或与放置在基底台上的传感器、或者与基底和传感器两者之间的空间的液体供给系统;其中,基底台还包括边缘密封构件,边缘密封构件至少部分环绕基底的边缘、或传感器的边缘、或者基底和传感器两者的边缘,并且用于提供面向投射系统基本上与基底、或传感器、或基底和传感器两者的主表面共面的主表面,其中液体供给系统向传感器和/或边缘密封构件和/或基底的局部区域提供液体。
-
-
-
-
-
-
-
-
-