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公开(公告)号：CN111149063A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN201880062857.2
申请日：2018-08-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法，该制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺，该方法包括：获取衬底的至少一部分的图像，其中该图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征；取决于从图像确定的轮廓，计算一个或多个图像相关度量，其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE；以及取决于边缘位置误差，确定光刻工艺和/或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数，其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。
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公开(公告)号：CN110546576B
公开(公告)日：2021-09-10
申请号：CN201880027429.6
申请日：2018-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·S·维尔登贝尔格 , M·乔彻姆森 , E·詹森 , E·J·M·沃勒博斯 , C·J·瑞吉尼尔瑟 , B·拉加瑟克哈兰 , R·沃克曼 , J·J·H·M·舒努斯
IPC: G03F7/20 , G05B19/418
Abstract: 一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的特性(上下文)；获取(410)序列中要对产品单元执行的后续工艺(曝光)的特性(上下文)；通过使用所获取的特性来取回与所记录的特性相对应的性能参数(指纹)的测量结果，确定(412)与先前工艺和后续工艺的序列相关联的产品单元的预测性能参数(指纹)；以及基于所确定的预测性能参数，确定(414，416)要对序列中要对产品单元执行的未来工艺(例如，曝光、蚀刻)应用(418)的校正。
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公开(公告)号：CN110546576A
公开(公告)日：2019-12-06
申请号：CN201880027429.6
申请日：2018-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·S·维尔登贝尔格 , M·乔彻姆森 , E·詹森 , E·J·M·沃勒博斯 , C·J·瑞吉尼尔瑟 , B·拉加瑟克哈兰 , R·沃克曼 , J·J·H·M·舒努斯
IPC: G03F7/20 , G05B19/418
Abstract: 一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的特性(上下文)；获取(410)序列中要对产品单元执行的后续工艺(曝光)的特性(上下文)；通过使用所获取的特性来取回与所记录的特性相对应的性能参数(指纹)的测量结果，确定(412)与先前工艺和后续工艺的序列相关联的产品单元的预测性能参数(指纹)；以及基于所确定的预测性能参数，确定(414，416)要对序列中要对产品单元执行的未来工艺(例如，曝光、蚀刻)应用(418)的校正。
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公开(公告)号：CN115327861B
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202211006576.X
申请日：2018-08-08
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/3065
Abstract: 公开了控制图案化过程的方法。在一种布置中，获得从对穿过衬底上的结构的目标层的蚀刻路径中的倾斜的测量得到的倾斜数据。该倾斜表示蚀刻路径的方向与目标层的平面的垂直线偏离。倾斜数据被用于控制用于在另外的层中形成图案的图案化过程。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111149063B
公开(公告)日：2022-04-22
申请号：CN201880062857.2
申请日：2018-08-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法，该制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺，该方法包括：获取衬底的至少一部分的图像，其中该图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征；取决于从图像确定的轮廓，计算一个或多个图像相关度量，其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE；以及取决于边缘位置误差，确定光刻工艺和/或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数，其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。
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公开(公告)号：CN108700826A
公开(公告)日：2018-10-23
申请号：CN201780012610.5
申请日：2017-02-16
Applicant: ASML荷兰有限公司 , 泛林集团
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70525 , G03F7/70625
Abstract: 一种方法以及相关联的设备和计算机程序，用于确定针对图案化工艺的感兴趣参数(诸如临界尺寸)的校正。该方法包括确定针对曝光控制参数的曝光控制校正，并且可选地基于结构的感兴趣参数的测量值、曝光控制关系和工艺控制关系来确定针对工艺控制参数的工艺控制校正。曝光控制关系描述感兴趣参数对曝光控制参数的依赖性，并且工艺控制关系描述感兴趣参数对工艺控制参数的依赖性。曝光控制校正和工艺控制校正可以被共同优化，以最小化后续经曝光和处理的结构的感兴趣参数相对于目标感兴趣参数的变化。
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公开(公告)号：CN112255892B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202011207943.3
申请日：2017-02-17
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及对量测数据的贡献的分离。一种方法，包括：通过组合由图案化工艺处理的衬底上的第一变量的指纹和第一变量的特定值，来计算衬底的图案的或针对衬底的图案的第一变量的值；以及至少部分基于第一变量的所计算的值来确定图案的第二变量的值。
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公开(公告)号：CN114721232A
公开(公告)日：2022-07-08
申请号：CN202210429378.8
申请日：2018-08-22
Applicant: ASML荷兰有限公司
Abstract: 本文中公开了一种用于确定制造工艺的一个或多个控制参数的方法，所述制造工艺包括光刻工艺和一个或多个另外的工艺，所述方法包括：获取衬底的至少一部分的图像，其中所述图像包括通过制造工艺而被制造在衬底上的至少一个特征；取决于从图像确定的轮廓，计算一个或多个图像相关度量，其中图像相关度量中的一项是至少一个特征的边缘位置误差EPE；以及取决于边缘位置误差，确定光刻工艺和/或一个或多个另外的工艺的一个或多个控制参数，其中至少一个控制参数被确定以便最小化至少一个特征的边缘位置误差。
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公开(公告)号：CN113741155A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202111042020.1
申请日：2018-03-28
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·S·维尔登贝尔格 , M·乔彻姆森 , E·詹森 , E·J·M·沃勒博斯 , C·J·瑞吉尼尔瑟 , B·拉加瑟克哈兰 , R·沃克曼 , J·J·H·M·舒努斯
IPC: G03F7/20 , G05B19/418
Abstract: 本公开涉及优化针对产品单元制造的工艺序列。一种用于优化针对产品单元制造的工艺序列的方法，该方法包括：将性能参数(指纹)的测量结果与记录的工艺特性(上下文)相关联(406)；获取(408)序列中已经对产品单元执行的先前工艺(例如，沉积)的特性(上下文)；获取(410)序列中要对产品单元执行的后续工艺(曝光)的特性(上下文)；通过使用所获取的特性来取回与所记录的特性相对应的性能参数(指纹)的测量结果，确定(412)与先前工艺和后续工艺的序列相关联的产品单元的预测性能参数(指纹)；以及基于所确定的预测性能参数，确定(414，416)要对序列中要对产品单元执行的未来工艺(例如，曝光、蚀刻)应用(418)的校正。
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