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公开(公告)号：CN105940349B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201480074178.9
申请日：2014-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·F·A·厄尔林斯 , N·A·J·M·克里曼斯 , A·J·J·范迪杰西尔多克 , R·M·霍夫斯特拉 , O·F·J·努德曼 , T·N·费姆 , J·B·P·范斯库特 , J-C·王 , K·W·张
摘要： 一种琢面反射器(32,32”)，用于接收入射辐射束(2)并引导反射辐射束至目标。琢面反射器包括多个琢面，多个琢面中的每个琢面都包括反射表面。多个琢面的第一子集的每个琢面的反射表面限定第一连续表面的对应部分，并且被配置为在第一方向上反射入射辐射束的对应第一部分以提供反射辐射束的第一部分。多个琢面的第二子集的每个琢面的反射表面限定第二连续表面的对应部分，并且被配置为在第二方向上反射入射辐射束的对应第二部分以提供反射辐射束的第二部分。
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公开(公告)号：CN1448784A
公开(公告)日：2003-10-15
申请号：CN03110769.9
申请日：2003-03-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·F·A·厄尔林斯 , A·J·J·范迪塞尔东克 , M·M·T·M·迪里希斯
IPC分类号： G03F1/00 , G03F7/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G03F7/70283
摘要： 一种反射掩模具有低分辨率结构，该结构被应用于吸收区域来减弱镜面反射中的功率量。该结构可以形成相衬光栅或者漫射器。同样的技术也可应用于光刻设备中其它的吸收体。
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公开(公告)号：CN1302337C
公开(公告)日：2007-02-28
申请号：CN03110769.9
申请日：2003-03-06
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·F·A·厄尔林斯 , A·J·J·范迪塞尔东克 , M·M·T·M·迪里希斯
IPC分类号： G03F1/14 , G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC分类号： B82Y40/00 , B82Y10/00 , G03F1/24 , G03F7/70283
摘要： 一种反射掩模具有低分辨率结构，该结构被应用于吸收区域来减弱镜面反射中的功率量。该结构可以形成相衬光栅或者漫射器。同样的技术也可应用于光刻设备中其它的吸收体。
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公开(公告)号：CN109416514B
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN201780041224.9
申请日：2017-06-16
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： Y·K·斯玛雷弗 , M·F·A·厄尔林斯
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/04 , G01B11/02 , G01N21/956 , G01N21/47
摘要： 用于量测设备的照射系统可以实现照射空间分布灵活性、高偏振消光比以及高对比度。照射系统包括偏振分束器(PBS)、照射模式选择器(IMS)和反射式空间光调制器(SLM)。PBS将照射束分成子束。IMS具有透射至少一个子束的多个孔径，且可以设置在对应于照射模式的多个照射位置中。反射式SLM的像素阵列将由IMS透射的子束的一部分反射回至IMS和PBS。PBS、IMS、SLM共同地产生透射子束的复波幅或强度空间分布。
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公开(公告)号：CN109416514A
公开(公告)日：2019-03-01
申请号：CN201780041224.9
申请日：2017-06-16
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
发明人： Y·K·斯玛雷弗 , M·F·A·厄尔林斯
IPC分类号： G03F7/20 , G01B9/04 , G01B11/02 , G01N21/956 , G01N21/47
CPC分类号： G03F7/70625 , G01N21/47 , G01N21/956 , G02B5/005 , G02B26/0833 , G02B27/283 , G03F7/70633
摘要： 用于量测设备的照射系统可以实现照射空间分布灵活性、高偏振消光比以及高对比度。照射系统包括偏振分束器(PBS)、照射模式选择器(IMS)和反射式空间光调制器(SLM)。PBS将照射束分成子束。IMS具有透射至少一个子束的多个孔径，且可以设置在对应于照射模式的多个照射位置中。反射式SLM的像素阵列将由IMS透射的子束的一部分反射回至IMS和PBS。PBS、IMS、SLM共同地产生透射子束的复波幅或强度空间分布。
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公开(公告)号：CN105940349A
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201480074178.9
申请日：2014-12-19
申请人： ASML荷兰有限公司
发明人： M·F·A·厄尔林斯 , N·A·J·M·克里曼斯 , A·J·J·范迪杰西尔多克 , R·M·霍夫斯特拉 , O·F·J·努德曼 , T·N·费姆 , J·B·P·范斯库特 , J-C·王 , K·W·张
摘要： 一种琢面反射器(32,32”)，用于接收入射辐射束(2)并引导反射辐射束至目标。琢面反射器包括多个琢面，多个琢面中的每个琢面都包括反射表面。多个琢面的第一子集的每个琢面的反射表面限定第一连续表面的对应部分，并且被配置为在第一方向上反射入射辐射束的对应第一部分以提供反射辐射束的第一部分。多个琢面的第二子集的每个琢面的反射表面限定第二连续表面的对应部分，并且被配置为在第二方向上反射入射辐射束的对应第二部分以提供反射辐射束的第二部分。
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