公开(公告)号：CN119404278A

公开(公告)日：2025-02-07

申请号：CN202380048966.X

申请日：2023-06-26

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·I·F·哈特森 ,  N·J·M·博世 ,  J·H·格拉斯曼 ,  M·F·P·斯梅茨 ,  E·斯洛特 ,  W·O·普里尔 ,  P·P·亨佩尼尤斯 ,  陈德育

IPC: H01J37/21

Abstract: 本公开涉及用于使用多个带电粒子束评估样品的装置和方法。在一种布置中，相对于彼此扫描多个带电粒子束的束栅格的至少子集和样品表面的相应的目标部分，以处理目标部分。检测来自样品的信号带电粒子以生成检测信号。通过分析检测信号，生成表示样品表面的形貌的样品表面形貌图。

公开(公告)号：CN118414685A

公开(公告)日：2024-07-30

申请号：CN202280079667.8

申请日：2022-11-02

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·F·P·斯梅茨 ,  N·J·M·博世 ,  W·P·范阿肯 ,  J·古森斯 ,  陈德育 ,  F·萨欣

IPC: H01J37/20

Abstract: 公开了一种用于校正检查图像误差的改进方法和系统。一种改进的方法包括：当支撑测试晶片的晶片台以第一速度移动时，获取测试晶片上的第一射束位置集合；当晶片台以第二速度移动时，获取测试晶片上与第一射束位置集合相对应的第二射束位置集合；当晶片台以在第一速度到第二速度的速度范围的第三速度移动时，计算射束的射束位置位移；以及基于所计算的射束位置位移来调整射束的射束位置。