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公开(公告)号:CN1503059A
公开(公告)日:2004-06-09
申请号:CN200310119662.2
申请日:2003-11-27
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: W·O·普里尔 , E·A·F·范德帕斯奇 , R·F·狄龙 , P·D·肯肖
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70958 , G01B9/02007 , G01B9/02014 , G01B9/02027 , G01B9/0207 , G01B9/02074 , G01B2290/45 , G01B2290/60 , G01B2290/70 , G03F7/70775 , G03F7/70883
摘要: 由于大气条件的变化,诸如压力、温度和扰动,使用来自二次谐波干涉仪的测量来校正干涉测量系统的测量结果。在使用SHI数据以前,去除代表SHI数据与光路长度关系的匀变。该SHI可以使用无源Q开关激光器作为光源,可以在接收模块使用布儒斯特棱镜。可以使用光纤来将光引导到探测器。反射测量束的镜子具有这样的涂层,即其厚度选择为使SHI数据对涂层厚度的变化的敏感性最小化。
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公开(公告)号:CN1503059B
公开(公告)日:2011-09-07
申请号:CN200310119662.2
申请日:2003-11-27
申请人: ASML荷兰有限公司
发明人: W·O·普里尔 , E·A·F·范德帕斯奇 , R·F·狄龙 , P·D·肯肖
IPC分类号: G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号: G03F7/70958 , G01B9/02007 , G01B9/02014 , G01B9/02027 , G01B9/0207 , G01B9/02074 , G01B2290/45 , G01B2290/60 , G01B2290/70 , G03F7/70775 , G03F7/70883
摘要: 光刻设备和制造器件的方法,由于大气条件的变化,诸如压力、温度和扰动,使用来自二次谐波干涉仪的测量来校正干涉测量系统的测量结果。在使用SHI数据以前,去除代表SHI数据与光路长度关系的匀变。该SHI可以使用无源Q开关激光器作为光源,可以在接收模块使用布儒斯特棱镜。可以使用光纤来将光引导到探测器。反射测量束的镜子具有这样的涂层,即其厚度选择为使SHI数据对涂层厚度的变化的敏感性最小化。
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