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公开(公告)号：CN118843835A
公开(公告)日：2024-10-25
申请号：CN202380026127.8
申请日：2023-02-22
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , G01N21/25 , G01N21/95 , G01N21/956
摘要： 披露一种针对由照射源产生的源光谱的效应校正测量的光谱的方法。所述方法包括：根据测量参数获得测量的光谱，在使用来自所述照射源的源辐射而照射周期性结构之后从来自所述周期性结构的被捕获的衍射辐射获得所述测量的光谱，所述周期性结构是光谱仪光栅和被测量的对象；根据所述测量的光谱确定所述源光谱的估计；以及使用所述源光谱的所述估计来校正所述测量的光谱。
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公开(公告)号：CN117813558A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280056334.3
申请日：2022-08-04
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 披露了一种用于测量衬底上的位于至少一个层下方的目标的方法。所述方法包括：利用包括至少一种泵浦波长的泵浦辐射激发所述至少一个层，以便在所述至少一个层内产生从所述目标反射的声波，由此在所述衬底的表面处产生所述目标的声学复制品；以及利用包括至少一种探测波长的探测辐射照射所述声学复制品，并且捕获从所述声学复制品散射的得到的经散射的探测辐射。所述激发步骤和所述照射步骤中的一个或两个步骤包括：在所述至少一个层的残余形貌上产生从所述目标得到的表面等离子体激元(SPP)。
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公开(公告)号：CN110730930B
公开(公告)日：2024-05-31
申请号：CN201880037959.9
申请日：2018-05-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率：(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
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公开(公告)号：CN117178228A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202280029074.0
申请日：2022-03-31
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G02F1/35
摘要： 一种组件，包括一空间，所述空间被配置用于放置介质以接收第一辐射，所述第一辐射用于产生第二辐射。在操作中，所述第二辐射在所述介质之后与所述第一辐射同轴地传播。所述组件还包括在所述介质之后用于利用表面区域透射或反射所述第一辐射光学元件。所述组件被配置成使得在操作中清洁气体与所述表面区域接触。反应性介质是通过所述第二辐射从所述清洁气体的至少一部分产生的，以用于从所述表面区域移除污染物。
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公开(公告)号：CN116888513A
公开(公告)日：2023-10-13
申请号：CN202280015634.7
申请日：2022-01-12
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G02B6/26
摘要： 一种用于在远场中分离第一辐射与第二辐射的组件和方法，其中，所述第一辐射和所述第二辐射具有非重叠波长。所述组件包括：毛细管结构，其中，所述第一辐射和所述第二辐射沿所述毛细管结构的至少一部分同轴地传播；和光学结构，所述光学结构被配置成通过干涉来控制所述第一辐射在所述毛细管结构外部的空间分布，使得所述第一辐射在所述远场中的强度沿所述第二辐射的光轴减小。
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公开(公告)号：CN110730930A
公开(公告)日：2020-01-24
申请号：CN201880037959.9
申请日：2018-05-15
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F9/00
摘要： 公开了一种用于确定物体中特征的特性的方法，所述特征被设置在所述物体的表面的下方。利用脉冲泵浦辐射束照射所述物体的所述表面以便在所述物体中产生声波。然后，利用测量辐射束照射物体的表面。接收从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分，以及根据在测量时间段内从所述表面散射的所述测量辐射束的至少一部分确定所述物体中所述特征的特性。所述脉冲泵浦辐射束的时间强度分布被选择成使得所述测量时间段中信背比大于使用所述脉冲泵浦辐射束的单个脉冲实现的信背比。所述信背比是以下两者的比率：(a)由声波的从所述特征的反射在所述表面处生成的信号与(b)由没有从所述特征反射的声波的反射在所述表面处生成的背景信号。
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公开(公告)号：CN110214261A
公开(公告)日：2019-09-06
申请号：CN201880008551.9
申请日：2018-01-10
申请人： ASML荷兰有限公司
摘要： 光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底上，通常是衬底的目标部分上的机器。随着使用数目增加的具体材料沉积到衬底上的层的数目增加，变得越来越难以准确地检测对准标记，这部分地是由于在一个或更多个层中使用的一种或更多种材料对于用于检测对准标记的辐射是完全或部分不透明的。在第一步骤中，用激发辐射照射衬底。在第二步骤中，以适当的方式测量与由埋入的结构散射的反射材料效应相关联的至少一种效应。在一个示例中，该效应可以包括衬底表面的物理移位。在第三步骤中，基于所测量的效应导出所述结构的至少一个特性。
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