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公开(公告)号：CN102483585A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037737.0
申请日：2010-07-21
申请人： ASML荷兰有限公司 , 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC分类号： G03F7/70575 , G02B5/1809 , G21K1/10
摘要： 一种形成光谱纯度滤光片的方法，所述光谱纯度滤光片包括多个孔，所述多个孔配置成透射极紫外辐射和抑制第二类型的辐射的透射，其中以对应于在所述孔之间形成的壁的图案在基底材料中形成沟道。用格栅材料填充所述沟道以形成所述格栅材料的壁；和选择性地移除所述基底材料，直到所述格栅材料被暴露和在格栅材料的壁之间为所述孔形成空间为止。
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公开(公告)号：CN102483585B
公开(公告)日：2015-06-24
申请号：CN201080037737.0
申请日：2010-07-21
申请人： ASML荷兰有限公司 , 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC分类号： G03F7/70575 , G02B5/1809 , G21K1/10
摘要： 一种形成光谱纯度滤光片的方法，所述光谱纯度滤光片包括多个孔，所述多个孔配置成透射极紫外辐射和抑制第二类型的辐射的透射，其中以对应于在所述孔之间形成的壁的图案在基底材料中形成沟道。用格栅材料填充所述沟道以形成所述格栅材料的壁；和选择性地移除所述基底材料，直到所述格栅材料被暴露和在格栅材料的壁之间为所述孔形成空间为止。
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公开(公告)号：CN104350424A
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：CN201380027929.7
申请日：2013-05-01
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70625 , G03F7/70483 , G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要： 一种通过光刻过程形成在衬底上的量测目标包括多个分量光栅。使用被分量光栅衍射的辐射的+1和-1级形成目标的图像。在被检测的图像中的感兴趣的区域(ROIs)对应于分量光栅被识别。在每个ROI内的强度值被处理并且在图像之间被比较，以获得不对称度的测量结果，并因此获得重叠误差的测量结果。分隔区形成在分量光栅之间，并且被设计成提供图像中的暗区域。在一实施例中，ROI被选择成它们的边界落入与分隔区相对应的图像区域中。通过这样的措施，不对称度测量对ROI的位置的变化有更大的容许度。暗区域也帮助识别图像中的目标。
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公开(公告)号：CN102576194A
公开(公告)日：2012-07-11
申请号：CN201080042251.6
申请日：2010-08-02
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70575 , G02B5/201 , G02B5/208
摘要： 本发明公开了一种光谱纯度滤光片，尤其是用在将EUV辐射用作投影束的光刻设备中。所述光谱纯度滤光片包括衬底内的多个孔。孔由壁限定，壁具有侧表面，所述侧表面相对于衬底的前表面的法线是倾斜的。
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公开(公告)号：CN102859444A
公开(公告)日：2013-01-02
申请号：CN201180020839.6
申请日：2011-02-22
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B5/208 , G03F7/70191 , G03F7/70575
摘要： 一种光谱纯度滤光片，包括：材料体，多个孔延伸通过所述材料体。孔布置成抑制具有第一波长的辐射并允许具有第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔。第二波长辐射比第一波长辐射短。所述材料体由具有对于第一波长的辐射基本上大于或等于70％的体反射率的材料形成。所述材料具有大于1000摄氏度的熔点。
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公开(公告)号：CN104350424B
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201380027929.7
申请日：2013-05-01
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70625 , G03F7/70483 , G03F7/70633 , G03F7/70683
摘要： 一种通过光刻过程形成在衬底上的量测目标包括多个分量光栅。使用被分量光栅衍射的辐射的+1和‑1级形成目标的图像。在被检测的图像中的感兴趣的区域(ROIs)对应于分量光栅被识别。在每个ROI内的强度值被处理并且在图像之间被比较，以获得不对称度的测量结果，并因此获得重叠误差的测量结果。分隔区形成在分量光栅之间，并且被设计成提供图像中的暗区域。在一实施例中，ROI被选择成它们的边界落入与分隔区相对应的图像区域中。通过这样的措施，不对称度测量对ROI的位置的变化有更大的容许度。暗区域也帮助识别图像中的目标。
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公开(公告)号：CN102859444B
公开(公告)日：2015-04-08
申请号：CN201180020839.6
申请日：2011-02-22
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70891 , G02B5/208 , G03F7/70191 , G03F7/70575
摘要： 一种光谱纯度滤光片，包括：材料体，多个孔延伸通过所述材料体。孔布置成抑制具有第一波长的辐射并允许具有第二波长的辐射的至少一部分透射通过所述孔。第二波长辐射比第一波长辐射短。所述材料体由具有对于第一波长的辐射基本上大于或等于70％的体反射率的材料形成。所述材料具有大于1000摄氏度的熔点。
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公开(公告)号：CN102077142B
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN200980125562.6
申请日：2009-06-09
申请人： ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70925
摘要： 一种用于去除在设备的无盖层多层反射镜上的沉积物的方法。所述方法包括：在所述设备的至少一部分内提供气体的步骤，所述气体包括H2、D2和HD中的一种或多种以及选自碳氢化合物和/或硅烷化合物的一种或多种附加的化合物；从所述气体产生氢和/或氘自由基和所述一种或多种附加的化合物的自由基的步骤；和使得具有沉积物的所述无盖层多层反射镜与氢和/或氘自由基和所述一种或多种附加的化合物的自由基中的至少一部分接触，以便去除沉积物的至少一部分。
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公开(公告)号：CN102483586A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038029.9
申请日：2010-07-16
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B5/204 , G02B5/208 , G03F7/70575 , G21K1/10
摘要： 本发明提供一种制造光谱纯度滤光片的方法，其中在基底材料的第一表面内形成开口，所述开口对应于光谱纯度滤光片的多个孔。化学处理基底材料的至少围绕第一表面内的开口的表面以形成第二材料的层，并且从第二表面蚀刻基底材料，使得开口从基底材料的第一表面延伸至基底材料的第二表面。
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公开(公告)号：CN102483583A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080037156.7
申请日：2010-07-14
申请人： ASML荷兰有限公司
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70575 , G21K1/10
摘要： 一种透射型光谱纯度滤光片配置成透射极紫外辐射(λ＜20nm)。滤光片包括网格状结构，包括在例如硅等载体材料中形成的多个微观孔。在该区域的至少一部分内的网格状结构被形成为以便在预期的操作条件范围内具有负的泊松比。通过形成适于在正交方向上同时膨胀或收缩的材料的网格，改善对不同热膨胀的控制。多种几何结构或形状可以实现负的泊松比。孔的几何形状可以是凹入的多边形或具有曲边的凹入的形状。这些示例包括所谓的凹入的或增大的蜂巢，其中每个孔与规则的蜂巢一样是六边形，但是形式是凹入的六边形而不是规则的六边形。
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