公开(公告)号：CN109313398B

公开(公告)日：2022-08-02

申请号：CN201780038021.4

申请日：2017-06-19

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 山本和磨 ,  松浦裕里子 ,  八嶋友康 ,  长原达郎

IPC: G03F7/40

Abstract: 本发明涉及一种新的冲洗组合物、使用该冲洗组合物形成抗蚀图案、以及一种在光刻法中使用该冲洗组合物制备半导体器件的方法。

公开(公告)号：CN105190445B

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201480025048.6

申请日：2014-05-01

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 松浦裕里子 ,  露木纱罗 ,  能谷刚

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/405 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0276

Abstract: 通过使用包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水的刻蚀用清洗液，对通过将感光性树脂进行曝光、显影而获得的微细抗蚀图案进行清洗，从而形成没有图案倒塌、图案缺陷、线宽偏差、图案熔化的抗蚀图案。式中，R1、R2可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基，R3、R4可以相同也可以不同，表示氢原子、甲基或者乙基，R5表示包含双键或三键的碳原子数2～5的烃基或者亚苯基，R6、R7可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基。

公开(公告)号：CN109313398A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201780038021.4

申请日：2017-06-19

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 山本和磨 ,  松浦裕里子 ,  八嶋友康 ,  长原达郎

IPC: G03F7/40

CPC classification number: G03F7/40

Abstract: 本发明涉及一种新的冲洗组合物、使用该冲洗组合物形成抗蚀图案、以及一种在光刻法中使用该冲洗组合物制备半导体器件的方法。

公开(公告)号：CN105190445A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201480025048.6

申请日：2014-05-01

Applicant: AZ电子材料(卢森堡)有限公司

Inventor： 松浦裕里子 ,  露木纱罗 ,  能谷刚

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/405 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/20 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0206 ,  H01L21/0276

Abstract: 通过使用包含由下述式(I)表示的非离子类表面活性剂和水的刻蚀用清洗液，对通过将感光性树脂进行曝光、显影而获得的微细抗蚀图案进行清洗，从而形成没有图案倒塌、图案缺陷、线宽偏差、图案熔化的抗蚀图案。式中，R1、R2可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基，R3、R4可以相同也可以不同，表示氢原子、甲基或者乙基，R5表示包含双键或三键的碳原子数2～5的烃基或者亚苯基，R6、R7可以相同也可以不同，表示氢原子或者甲基。