公开(公告)号：CN106243357B

公开(公告)日：2019-07-23

申请号：CN201610389823.7

申请日：2016-06-02

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： O·昂加依 ,  C·卡特勒 ,  M·李 ,  S·山田 ,  J·卡梅伦

IPC: C08G77/14 ,  C08G77/18 ,  C08G77/26 ,  C08G77/28 ,  G03F7/20

CPC classification number: G03F7/091 ,  C08G77/14 ,  C08G77/18 ,  C08G77/26 ,  C08G77/28 ,  C08G77/80 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 提供包含一或多种含硅聚合物的可湿式剥去的抗反射组合物，所述含硅聚合物不含作为聚合单元的Q单体和氢化硅烷。这些组合物适用于制造多种电子装置。

公开(公告)号：CN105531260B

公开(公告)日：2019-05-31

申请号：CN201480049636.3

申请日：2014-09-08

Applicant: 巴斯夫欧洲公司

Inventor： 国本和彦 ,  仓久敏 ,  山本宏 ,  中川裕美子 ,  朝仓敏景 ,  鲛岛香织

IPC: C07D209/18 ,  C07D307/82 ,  C07D333/60 ,  C07C251/56 ,  C08F2/50

CPC classification number: C07D409/06 ,  C07D209/12 ,  C07D307/56 ,  C07D307/80 ,  C07D307/83 ,  C07D307/86 ,  C07D307/91 ,  C07D307/92 ,  C07D333/56 ,  C07D407/12 ,  G02B5/201 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明公开了具有特定苯并(不饱和5员环)羰基的肟酯化合物及其用作光引发剂在可光聚合组合物中，特别是在用于例如液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)及触控面板的显示器应用中的光阻配制剂中的用途。

公开(公告)号：CN105358628B

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201480038627.4

申请日：2014-08-26

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 伊藤纯一 ,  原彰宏 ,  尾田和也 ,  金子祐士 ,  佐佐木大辅

IPC: C09B67/20 ,  C08F12/14 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/004 ,  C09B11/28 ,  C09B69/10

CPC classification number: G03F7/0007 ,  C08F12/14 ,  C09B11/24 ,  C09B11/28 ,  C09B21/00 ,  C09B23/0008 ,  C09B23/0066 ,  C09B23/04 ,  C09B23/06 ,  C09B23/08 ,  C09B57/00 ,  C09B57/007 ,  C09B57/008 ,  C09B57/10 ,  C09B67/0033 ,  C09B69/008 ,  C09B69/06 ,  C09B69/103 ,  C09B69/105 ,  C09B69/109 ,  G02B1/12 ,  G02B5/223 ,  G03F7/027 ,  G03F7/028 ,  G03F7/105 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明提供一种着色组合物、硬化膜、彩色滤光片及其应用、彩色滤光片的制造方法。本发明的着色组合物含有色素化合物、硬化性化合物以及溶剂，其中所述色素化合物具有含有下述通式(A1)所表示的结构、下述通式(A2)所表示的结构及含硼原子的结构的至少一个的阴离子部位与含有阳离子部位的色素结构，且所述阴离子部位及阳离子部位经由共价键进行键结而存在于同一分子内。通式(A1)中，R1及R2分别独立地表示‑SO2‑或‑CO‑通式(A2)中，R3表示‑SO2‑或‑CO‑；R4及R5分别独立地表示‑SO2‑、‑CO‑或‑CN。本发明可提供一种耐热性优异的着色组合物。

公开(公告)号：CN108345168A

公开(公告)日：2018-07-31

申请号：CN201711232616.1

申请日：2017-11-29

Applicant: 株式会社平间理化研究所

Inventor： 中川俊元

IPC: G03D3/00 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03D3/00 ,  G03F7/3071 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明提供能够对被显现碱性的显影液吸收的二氧化碳的浓度进行测定并对显现碱性的显影液的吸收二氧化碳的浓度进行管理的显影装置。显影装置具备：显影液调制装置，其将包含显现碱性的显影液的主成分的显影原液与纯水混合，调制出浓度被设定好的所述显影液作为显影新液；显影新液用管路，其输送从所述显影液调制装置向反复使用的所述显影液补给的所述显影新液；显影原液用管路，其输送向所述反复使用的所述显影液补给的所述显影原液；纯水用管路，其输送向所述反复使用的所述显影液补给的纯水；以及显影液管理装置，其将所述反复使用的所述显影液管理为规定的成分浓度或者规定的浓度范围。

公开(公告)号：CN107942624A

公开(公告)日：2018-04-20

申请号：CN201810068257.9

申请日：2018-01-24

Applicant: 深圳市瑞世兴科技有限公司

Inventor： 罗琳 ,  杨红 ,  郭威

IPC: G03F7/32

CPC classification number: G03F7/32

Abstract: 一种用于PCB板的高精度洁净显影液，本发明涉及PCB板干膜和阻焊油墨显影技术领域，针对HDI、FPC等精细线路（L/S=1.5/1.5mil、2/2mil、3/3mil）研发配合高端设备曝光后的显像制程专用化学品，以达到电路设计图形制作的最终实现。通过添加表面活化剂和助溶剂，提高显影液对光刻胶的渗透性和溶解性，促进化学反应使得显影过程加快推进，添加分散剂和抗氧化剂稳定槽液，减少气泡和残渣，明显降低显影后的缺陷。本发明的有益效果在于：具有优良的解像度，提高线路质量；显影过程中不会有羧酸钠的残渣，提高线路板的质量；药液寿命是无机显影液的3-10倍，废液量少；浮渣少，清扫效率提高；作业性良好，为水溶性药液，溶解快，操作便捷。

公开(公告)号：CN105190870B

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201480013843.3

申请日：2014-03-11

Applicant: 友立材料株式会社

Inventor： 细樅茂

IPC: H01L23/12 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/4832 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/32 ,  H01L21/4821 ,  H01L21/4825 ,  H01L21/4846 ,  H01L21/565 ,  H01L23/49548 ,  H01L23/49866 ,  H01L23/49894 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/00

Abstract: 为了提高电极层与树脂之间密合性强度，提供一种增加电极层的厚度并且为了咬入树脂而使电极层的截面形状形成为具有凹凸的形状的半导体元件搭载用基板。该半导体元件搭载用基板的制造方法依次经过以下工序：使用主感光波长不同的两种干膜抗蚀剂在基板(1)表面形成多个抗蚀层(10、11)的工序；第1曝光工序，自多个抗蚀层的上方使用第1曝光用掩模(20)从多个抗蚀层中选择性地使特定的抗蚀层(10)以第1图案感光；第2曝光工序，自多个抗蚀层的上方使用第2曝光用掩模(21)从多个抗蚀层中选择性地使特定的抗蚀层(11)以第2图案感光；显影工序，去除多个抗蚀层的未曝光部分(30、31)而使基板的表面局部露，出从而形成具有开口部(40、41)的抗蚀剂掩模(10、11)；对基板的表面的暴露的部分实施镀敷从而形成镀层(2)的工序；以及去除抗蚀剂掩模的工序。

公开(公告)号：CN105189569B

公开(公告)日：2018-02-16

申请号：CN201480025839.9

申请日：2014-05-08

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 伊藤纯一 ,  鲛岛贤 ,  原田昌之 ,  出井宏明 ,  金子祐士 ,  渡邉哲也 ,  尾田和也 ,  村上阳祐 ,  田口贵规

IPC: C08F2/44 ,  C08F2/50 ,  C08F20/34 ,  G02B5/20 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031

CPC classification number: G03F7/027 ,  C08F2/44 ,  C08F2/48 ,  C08F20/34 ,  C09B11/24 ,  C09B69/103 ,  C09B69/105 ,  C09B69/109 ,  G02B5/20 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/004 ,  G03F7/031 ,  G03F7/105 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/36

Abstract: 本发明提供一种着色组合物及硬化膜、滤光片、固体摄像元件及显示装置。本发明的着色组合物含有(A)具有非亲核性反荷阴离子的色素多聚体以及(B)聚合性化合物。本发明的着色组合物使用色素聚合物，并且可适当地形成图案。

公开(公告)号：CN107499016A

公开(公告)日：2017-12-22

申请号：CN201710873850.6

申请日：2017-09-25

Applicant: 浙江康尔达新材料股份有限公司

Inventor： 应作挺 ,  翁银巧 ,  高邈 ,  胡玲玲 ,  徐能平 ,  诸海梦 ,  马显瑶 ,  陶烃

IPC: B41N1/14 ,  B41C1/10 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

CPC classification number: B41N1/14 ,  B41C1/10 ,  G03F7/30 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明公开了一种热敏阴图平版印刷版前体，其包含：(i)表面被赋予一种含磷酸盐/氟化物亲水层的底基，其中亲水层包括如下质量份数的组分：磷酸盐90-99.9份，氟化物0.1-10份；(ii)在所述底基的亲水层表面上涂覆一种可成像涂层，该成像涂层包括如下质量份数的组分：可自由基聚合化合物20-60份，辐射吸收性化合物0.5-12份，自由基引发剂1-25份，粘结剂10-70份，显影促进剂0.5-15份。本发明还公开了一种上述热敏阴图平版印刷版前体的制版方法，其包括如下步骤：（a）利用激光按所需图像曝光所述印刷版前体，从而形成曝光区域和未曝光区域；（b）将已曝光的印刷版前体通过显影工序除去所述未曝光区域。采用上述印刷版前体及其所述制版方法能实现“在机显影”或“离机显影”的灵活显影工序、且制得的印刷版具有优异的印刷性能。

公开(公告)号：CN105810850B

公开(公告)日：2017-11-14

申请号：CN201610206129.7

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也

IPC: H01L51/56 ,  C23C14/04 ,  C23F1/02

CPC classification number: H01L51/0011 ,  B05B12/20 ,  C23C14/042 ,  C23C16/042 ,  C23F1/02 ,  C23F1/12 ,  C23F1/14 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  H01L51/0021 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/5221 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种即使在大型化的情况下也能够满足高精细化和轻量化二者的蒸镀掩模的制造方法、及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。通过如下的工序制造蒸镀掩模，即：准备在金属板的一面设有树脂层的带树脂层的金属板；相对于所述带树脂层的金属板的金属板，通过形成仅贯通该金属板的缝隙而形成带树脂层的金属掩模；然后，从所述金属掩模侧照射激光，在所述树脂层上纵横地形成多列与要蒸镀制作的图案对应的开口部，从而形成树脂掩模。

公开(公告)号：CN107340684A

公开(公告)日：2017-11-10

申请号：CN201710541009.7

申请日：2014-03-24

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 山中司 ,  川本崇司 ,  井口直也

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/32 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  C07C29/76 ,  C07C67/56 ,  C07C45/78

CPC classification number: G03F7/32 ,  C07C29/76 ,  C07C45/786 ,  C07C67/48 ,  C07C67/56 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/325 ,  C07C69/24 ,  C07C31/125 ,  C07C49/04 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明提供一种尤其在使用有机系显影液形成微细化(例如，30nm节点以下)图案的负型图案形成技术中，可减少粒子的产生的图案形成方法及电子元件的制造方法，此方法包括：用化学增幅型抗蚀剂组合物来形成膜、对膜进行曝光、以及用有机系显影液对经曝光的膜进行显影的步骤。有机系显影液的制造方法包括：使含有有机溶剂的液体在具有液体入口部、液体出口部、及设置在将液体入口部与液体出口部加以连接的流路内的过滤过滤器膜的过滤装置中通过的步骤。液体入口部处的液体的温度(TI)与液体出口部处的液体的温度(To)的差的绝对值(|TI-To|)为3℃以下，过滤装置中的液体的过滤速度为0.5L/min/m2以上，过滤装置中的液体的过滤压力为0.1MPa以下。