光学部件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1936624A

    公开(公告)日:2007-03-28

    申请号:CN200610143231.3

    申请日:2002-03-20

    Abstract: 本发明提供光学部件,它是在聚氨酯脲聚合物衬底上直接或间接地具有防反射膜的光学部件,其中,上述防反射膜是含有1/2λ层的多层防反射膜,而上述1/2λ层具有含有氧化铌或含有氧化铌、氧化锆及氧化钇的多层高折射率层与配置在这些高折射率层之间的二氧化硅构成的层。

    具有防反射薄膜的光学元件

    公开(公告)号:CN1276275C

    公开(公告)日:2006-09-20

    申请号:CN200310124307.4

    申请日:2003-12-26

    CPC classification number: G02B1/111 Y10T428/31663

    Abstract: 本发明提供一种具有塑料基材和通过气相沉积形成的多层防反射薄膜的光学元件,其中,防反射薄膜中至少一层是混合层,该混合层由作为气相沉积原料的至少一种无机物和在常温常压下为液体的有机硅化合物和/或在常温常压下为液体、不含硅的有机化合物形成;所述无机物选自二氧化硅,氧化铝,氧化钛,氧化锆,氧化钽,氧化钇,和氧化铌。

    光学部件
    8.
    发明授权

    公开(公告)号:CN100501454C

    公开(公告)日:2009-06-17

    申请号:CN200610143231.3

    申请日:2002-03-20

    Abstract: 本发明提供光学部件,它是在聚氨酯脲聚合物衬底上直接或间接地具有防反射膜的光学部件,其中,上述防反射膜是含有1/2λ层的多层防反射膜,而上述1/2λ层具有含有氧化铌或含有氧化铌、氧化锆及氧化钇的多层高折射率层与配置在这些高折射率层之间的二氧化硅构成的层。

    溅射膜淀积的厚度校正机构

    公开(公告)号:CN100492057C

    公开(公告)日:2009-05-27

    申请号:CN200510099112.8

    申请日:1998-05-18

    Abstract: 溅射膜淀积的厚度校正机构用于由溅射法将薄膜淀积到光学透镜底料表面上的薄膜淀积系统,该光学透镜底料用作具有弯月形的塑料镜片的底料,厚度校正机构包括用于校正此薄膜厚度差的厚度校正板;光学透镜底料的表面有曲率,有多个这样的光学透镜底料水平地布置于圆盘支座中的若干同心圆上,此支座取水平位置并可转动;光学透镜底料的上表面为凹面,其下表面为凸面;薄膜淀积系统包括面对光学透镜底料的凹面的靶;厚度校正板是用来调节膜厚差的用于凹面的掩模件,该掩模件依连接支座的周边部与中央部的方向设置,且位于靶与支座之间;对应于所述光学透镜底料之间边界所在位置的那些部分沿圆周方向的大小大于其它部分沿圆周方向的大小。

    将光学镜片底料设定于支座上的机构

    公开(公告)号:CN100354673C

    公开(公告)日:2007-12-12

    申请号:CN98800650.2

    申请日:1998-05-18

    CPC classification number: G02B1/11 C23C14/50 C23C14/505

    Abstract: 于溅射系统中由溅射法将抗反射膜涂层到光学镜片两侧上的抗反射膜。在用于进行这种溅射的真空处理室(22)中,多块光学镜片底料(11)沿横向放置到设定于真空气氛中可转动的底料支座(26)上。这些底料用环形保持工具(52,152)嵌装于支座(26)中形成的孔(26a)内且以其凹面冲上。工具(52)的高度当底料(11)的镜片边缘厚度大时大于此边缘的高度但不大于2mm。工具(152)的与光学镜片底料(11)一起放置的部分当此底料的镜片边缘厚度小时呈锥形。

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