公开(公告)号：CN1329747C

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200510054344.1

申请日：2001-11-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 三石刚史 ,  嘉村齐 ,  新出谦一 ,  武井博基 ,  小林明德 ,  高桥幸弘 ,  渡边裕子

IPC: G02B1/11

CPC classification number: G02B1/11 ,  C03C17/2456 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/218 ,  C03C2217/23 ,  C03C2218/152 ,  C23C14/083

Abstract: 本申请的目的是提供一种抗反射膜的高折射层的生产方法，该方法包括烧结包含含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合物的组合物，汽化该烧结过的组合物，并将产生的蒸汽沉积在合成树脂基材上，其中蒸汽源混合物中二氧化钛的量以TiO2计为30-75%重量，其中蒸汽源混合物中五氧化二铌的量以Nb2O5计为25-70%重量。

公开(公告)号：CN1277128C

公开(公告)日：2006-09-27

申请号：CN200410092298.X

申请日：2001-11-30

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 三石刚史 ,  嘉村齐 ,  新出谦一 ,  武井博基 ,  小林明德 ,  高桥幸弘 ,  渡边裕子

IPC: G02B1/11 ,  C23C16/44

CPC classification number: G02B1/11 ,  C03C17/2456 ,  C03C2217/212 ,  C03C2217/218 ,  C03C2217/23 ,  C03C2218/152 ,  C23C14/083

Abstract: 本申请的目的是提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，并提供一种汽相沉积用组合物，它即便靠低温汽相沉积也能在基材上形成高折射层，因而确保了抗反射膜具有良好的耐划伤性、良好的耐化学性和良好的耐热性，且其耐热性随时间降低很少；以及提供一种带有这种抗反射膜的光学元件的生产方法。通过提供一种汽相沉积用组合物的生产方法，该方法包括烧结由含有二氧化钛和五氧化二铌的蒸汽源混合而成的蒸汽源混合物；提供一种含有二氧化钛和五氧化二铌的汽相沉积用组合物；以及提供一种带有抗反射膜的光学元件的生产方法，该方法包括汽化汽相沉积用组合物，并将产生的蒸汽沉积在基材上以在其上形成抗反射膜的高折射层，从而达到了本发明的目的。

公开(公告)号：CN101410545A

公开(公告)日：2009-04-15

申请号：CN200780010873.9

申请日：2007-03-28

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 高桥幸弘 ,  滨本辉文 ,  新出谦一

IPC: C23C14/22 ,  G02B1/11

CPC classification number: C23C14/32 ,  C23C14/0031 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/221 ,  C23C14/54 ,  C23C14/564 ,  C23C16/30 ,  G02B1/11 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/022

Abstract: 离子枪系统(60)，其具备：照射离子束的离子枪(14)；向该离子枪供给电力的电源装置(61)；将2种气体分别导入离子枪的2个质量流量调整器(64、65)；与电源装置连接，作为对从该电源装置向离子枪供给的供给电力进行控制的离子枪控制单元的控制装置(12)；和与质量流量调整器连接，作为对从该质量流量调整器向离子枪的导入气体流量进行控制的质量流量控制单元的控制装置(12)；其中作为质量流量控制单元的控制装置(12)具备在离子枪稳定运转的范围内阶段性地变更2种气体各自的导入流量的设定值，以变更为其他设定值的功能，由此能够缩短成膜时间。

公开(公告)号：CN1235064C

公开(公告)日：2006-01-04

申请号：CN03107222.4

申请日：2003-03-18

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 高桥幸弘 ,  松本雅一

IPC: G02B1/10 ,  G02B1/11

CPC classification number: G02B1/18 ,  G02B1/105 ,  G02B1/111 ,  G02B1/113 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/31511 ,  Y10T428/3154 ,  Y10T428/31663

Abstract: 一种在基材上具有抗反射膜的光学元件，其中抗反射膜的层包含作为主要组分的通过汽相淀积而沉积的二氧化硅；所述层进一步外设有含氟防水层；且所述光学元件具有以下特性(1)和(2)：(1)如果提供防水层，对水的起始静止接触角(摩擦之前的静止接触角)是104°或更多，和(2)如果将麂皮在水中在25℃下浸渍5分钟，并随后在施加负荷500g的同时用麂皮将防水层的表面摩擦10,000次，对水的静止接触角(摩擦之后的静止接触角)比摩擦之前的静止接触角小0-10°。

公开(公告)号：CN101410545B

公开(公告)日：2011-06-15

申请号：CN200780010873.9

申请日：2007-03-28

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 高桥幸弘 ,  滨本辉文 ,  新出谦一

IPC: C23C14/22 ,  G02B1/11

CPC classification number: C23C14/32 ,  C23C14/0031 ,  C23C14/0042 ,  C23C14/221 ,  C23C14/54 ,  C23C14/564 ,  C23C16/30 ,  G02B1/11 ,  H01J27/02 ,  H01J37/08 ,  H01J37/302 ,  H01J37/317 ,  H01J37/3178 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/022

Abstract: 离子枪系统(60)，其具备：照射离子束的离子枪(14)；向该离子枪供给电力的电源装置(61)；将2种气体分别导入离子枪的2个质量流量调整器(64、65)；与电源装置连接，作为对从该电源装置向离子枪供给的供给电力进行控制的离子枪控制单元的控制装置(12)；和与质量流量调整器连接，作为对从该质量流量调整器向离子枪的导入气体流量进行控制的质量流量控制单元的控制装置(12)；其中作为质量流量控制单元的控制装置(12)具备在离子枪稳定运转的范围内阶段性地变更2种气体各自的导入流量的设定值，以变更为其他设定值的功能，由此能够缩短成膜时间。

公开(公告)号：CN1234023C

公开(公告)日：2005-12-28

申请号：CN03152536.9

申请日：2003-08-01

Applicant: HOYA株式会社

Inventor： 高桥幸弘 ,  新出谦一

IPC: G02B1/11 ,  G02B1/12

CPC classification number: G02B1/18 ,  C03C17/009 ,  C03C17/30 ,  C08G2650/48 ,  G02B1/11 ,  G02B1/115 ,  G02B27/0006 ,  Y10T428/31663

Abstract: [问题]为了提供一种当用布料等擦去防水膜上的污点时可以光滑地擦过防水膜的顶部并且几乎不擦伤透镜的光学元件。[解决方法]包括光学基材、光学基材上的多层抗反射膜和在多层抗反射膜的最外层上的防水层的光学元件，其中抗反射膜的最外层是含有二氧化硅作为主要成分的层；防水层包括含有含氟取代烷基的有机硅化合物和不含硅的全氟聚醚作为主要成分的第一层以及在第一层上并与其直接接触的第二层，所述的第二层含有不含硅的全氟聚醚作为主要成分。