公开(公告)号：CN114207882A

公开(公告)日：2022-03-18

申请号：CN202080056531.6

申请日：2020-08-11

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 中山卓哉 ,  舍人达也 ,  增田香奈

IPC: H01M4/62 ,  H01M4/38 ,  H01M4/134 ,  H01M10/0525 ,  H01G11/38 ,  H01G11/30 ,  H01G11/50

Abstract: 本发明提供一种能够制造密合性优异而且表现出良好的充放电耐久特性的蓄电装置电极的蓄电装置用组合物。本发明的蓄电装置用组合物含有聚合物粒子(A)、聚合物(B)和液体介质(C)，将上述聚合物粒子(A)中含有的重复单元的合计设为100质量份时，上述聚合物粒子(A)含有来自共轭二烯化合物的重复单元(a1)20～65质量份和来自α,β－不饱和腈化合物的重复单元(a2)1～40质量份，将上述聚合物(B)中含有的重复单元的合计设为100质量份时，上述聚合物(B)含有来自不饱和羧酸的重复单元(b1)5～95质量份和来自(甲基)丙烯酰胺的重复单元(b2)5～95质量份。

公开(公告)号：CN1432873A

公开(公告)日：2003-07-30

申请号：CN02160643.9

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/038

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50％的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1－10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。

公开(公告)号：CN1276303C

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN02160643.9

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50%的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1-10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。

公开(公告)号：CN1916760B

公开(公告)日：2010-10-13

申请号：CN200610126701.5

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004 ,  C07D207/40 ,  C07D209/70 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2-A)或(2-B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。

公开(公告)号：CN1916760A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200610126701.5

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004 ,  C07D207/40 ,  C07D209/70 ,  C07D211/88 ,  C07D221/14 ,  C07D491/18

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(2)、(2－A)或(2－B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。