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公开(公告)号：CN101313246B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN200680043960.X
申请日：2006-11-21
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含在分辨率性能、热稳定性和储存稳定性方面极好的辐射敏感产酸剂，该组合物抑制由驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案。所述辐射敏感树脂组合物的特征在于：(A)包含锍盐化合物和磺酰亚胺化合物的辐射敏感产酸剂，所述锍盐化合物例如2，4-二氟苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍、4-三氟甲基苯磺酸2，4，6-三甲苯基二苯基锍等。优选的是所述组合物还包含(B)树脂，例如4-羟基苯乙烯/4-叔丁氧基苯乙烯共聚物、4-羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯等。
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公开(公告)号：CN1916760A
公开(公告)日：2007-02-21
申请号：CN200610126701.5
申请日：2002-06-28
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , C07D207/40 , C07D209/70 , C07D211/88 , C07D221/14 , C07D491/18
CPC分类号： C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： 提供了一种含有下式(2)、(2－A)或(2－B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN113454728A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN202080013555.3
申请日：2020-02-06
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G16C60/00
摘要： 本发明提供的数据处理方法对物性值的真值已知的多个第一化合物中的每个第一化合物，通过第一计算法获取作为物性值的第一计算值，通过第二计算法获取作为物性值的第二计算值，并生成将第一计算值修正为真值的第一修正模型和将第二计算值修正为真值的第二修正模型，对物性值的真值未知的第二化合物，将通过第一修正模型修正在至少包括通过第一计算法能够获取计算结果的区域在内的区域通过第一计算法作为物性值获得的计算值所得的值作为真值，并将通过第二修正模型修正在至少包括通过第一计算法无法获取计算结果的区域在内的区域通过第二计算法作为第二化合物的物性值获取的计算值所得的值作为真值储存至数据库。
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公开(公告)号：CN1916760B
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200610126701.5
申请日：2002-06-28
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , C07D207/40 , C07D209/70 , C07D211/88 , C07D221/14 , C07D491/18
CPC分类号： C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： 提供了一种含有下式(2)、(2-A)或(2-B)的结构的新的光致酸发生剂，其中各基团如说明书所定义当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN101313246A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200680043960.X
申请日：2006-11-21
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/0392 , Y10S430/106 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： 本发明提供一种辐射敏感树脂组合物，该组合物包含在分辨率性能、热稳定性和储存稳定性方面极好的辐射敏感产酸剂，该组合物抑制由驻波引起的线宽波动和图案外形劣化，并提供在纳米边缘粗糙度和LEF方面改善的抗蚀剂图案。所述辐射敏感树脂组合物的特征在于：(A)包含锍盐化合物和磺酰亚胺化合物的辐射敏感产酸剂，所述锍盐化合物例如2，4－二氟苯磺酸2，4，6－三甲苯基二苯基锍、4－三氟甲基苯磺酸2，4，6－三甲苯基二苯基锍等。优选的是所述组合物还包含(B)树脂，例如4－羟基苯乙烯/4－叔丁氧基苯乙烯共聚物、4－羟基苯乙烯/(甲基)丙烯酸叔丁酯等。
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公开(公告)号：CN101133364A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680006646.4
申请日：2006-02-24
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0752 , G03F7/0751 , G03F7/11 , H01L21/0274 , H01L21/0332 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10T428/31515 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
摘要： 本发明的课题是提供一种抗蚀剂下层膜用组合物，可形成与抗蚀剂膜的密合性优异，提高抗蚀剂图案再现性和对在显影等中使用的碱液及除去抗蚀剂时的氧灰化具有耐受性的抗蚀剂下层膜，并且该组合物保存稳定性优异。本发明涉及的抗蚀剂下层膜用组合物的特征在于含有下述通式(A)表示的硅烷化合物的水解物和/或其缩合物。Rb1Rc2Si(OR3)4－a...(A)[式中，R1表示具有至少一个不饱和键的1价有机基团，R2独立地表示氢原子、卤素原子或1价的有机基团，R3独立地表示1价有机基团，R1为OR3基以外的基团，a表示1～3的整数，b表示1～3的整数，c表示0～2的整数，且a＝b+c]。
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公开(公告)号：CN1432873A
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：CN02160643.9
申请日：2002-06-28
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/038
CPC分类号： C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50％的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1－10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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公开(公告)号：CN101133364B
公开(公告)日：2013-03-20
申请号：CN200680006646.4
申请日：2006-02-24
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0752 , G03F7/0751 , G03F7/11 , H01L21/0274 , H01L21/0332 , Y10S430/106 , Y10S430/115 , Y10T428/31515 , Y10T428/31612 , Y10T428/31663
摘要： 本发明的课题是提供一种抗蚀剂下层膜用组合物，可形成与抗蚀剂膜的密合性优异，提高抗蚀剂图案再现性和对在显影等中使用的碱液及除去抗蚀剂时的氧灰化具有耐受性的抗蚀剂下层膜，并且该组合物保存稳定性优异。本发明涉及的抗蚀剂下层膜用组合物的特征在于含有下述通式(A)表示的硅烷化合物的水解物和/或其缩合物。R1bR2cSi(OR3)4-a...(A)[式中，R1表示具有至少一个不饱和键的1价有机基团，R2独立地表示氢原子、卤素原子或1价的有机基团，R3独立地表示1价有机基团，R1为OR3基以外的基团，a表示1～3的整数，b表示1～3的整数，c表示0～2的整数，且a＝b+c]。
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公开(公告)号：CN101827813A
公开(公告)日：2010-09-08
申请号：CN200880111642.1
申请日：2008-10-14
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： C07C309/19 , C07C381/12 , C07D333/46 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： C07C381/12 , C07C309/19 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D333/46 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397
摘要： 本发明涉及具有通式(1)表示的部分结构的化合物。(通式(1)中，R1各自独立地表示氢原子或烃基，R2表示烃基，Rf表示氟原子或全氟烷基，L表示0～4的整数，n表示0～10的整数，m表示1～4的整数。)
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公开(公告)号：CN1276303C
公开(公告)日：2006-09-20
申请号：CN02160643.9
申请日：2002-06-28
申请人： JSR株式会社
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： C07C309/23 , C07C309/17 , C07C309/19 , C07C381/12 , C07C2602/42 , C07C2603/86 , C07D333/46 , C07D333/78 , C07D335/02 , C07D347/00 , G03F7/0045 , G03F7/0392 , G03F7/0757 , Y10S430/114 , Y10S430/115
摘要： 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50%的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1-10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。
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