陶瓷层与铜粉糊烧结体的积层体

    公开(公告)号:CN110797187B

    公开(公告)日:2021-07-30

    申请号:CN201910674570.1

    申请日:2019-07-25

    Inventor: 古泽秀树

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷层与铜粉糊烧结体的积层体。具体地,提供一种积层体,其是通过铜粉糊的烧结所制造的烧结体与陶瓷基材的积层体,且烧成体与陶瓷基材的密接性优异。本发明的积层体在陶瓷层积层有铜粉糊烧结体,且在铜粉糊烧结体中,根据EBSD图像所求出的利用面积分数法(Area Fraction Method)获得的铜的结晶粒径为10μm以下,且分析区域的平均可靠性指数(CI值)为0.5以上。

    激光烧结用表面处理金属粉

    公开(公告)号:CN109641269A

    公开(公告)日:2019-04-16

    申请号:CN201780050985.0

    申请日:2017-09-29

    Abstract: 提供一种激光吸收性优异的金属粉,其通过具备以下的任一特性的表面处理金属粉,而能够优选地使用在金属AM:表面的亮度L*为0以上且50以下;表面的色差ΔEab为40以上;表面的色差ΔL为-35以下;表面的色差Δa为20以下;表面的色差Δb为20以下(在以白色板的物体色(亮度L*=94.14,色坐标a*=-0.90,色坐标b*=0.24)作为基准的情形时)。

    陶瓷层与铜粉糊烧结体的积层体

    公开(公告)号:CN110797187A

    公开(公告)日:2020-02-14

    申请号:CN201910674570.1

    申请日:2019-07-25

    Inventor: 古泽秀树

    Abstract: 本发明涉及一种陶瓷层与铜粉糊烧结体的积层体。具体地,提供一种积层体,其是通过铜粉糊的烧结所制造的烧结体与陶瓷基材的积层体,且烧成体与陶瓷基材的密接性优异。本发明的积层体在陶瓷层积层有铜粉糊烧结体,且在铜粉糊烧结体中,根据EBSD图像所求出的利用面积分数法(Area Fraction Method)获得的铜的结晶粒径为10μm以下,且分析区域的平均可靠性指数(CI值)为0.5以上。

    表面处理铜微粒子的制造方法

    公开(公告)号:CN114178523B

    公开(公告)日:2024-03-01

    申请号:CN202111453032.3

    申请日:2018-09-10

    Abstract: 本发明提供一种低温烧结性表面处理铜微粒子的制造方法,其含有将BET比表面积为0.1~210.0m/g的铜微粒子及包含非离子系界面活性剂的水溶液混合的步骤,非离子系界面活性剂为利用格里芬法所得的HLB值为9以上且18以下,并且具有环氧乙烷链的非离子系界面活性剂;通过该制造方法,通过利用与水溶液的混合所进行表面处理而制造可适用于低温环境中可用的膏的新颖的表面处理铜微粒子。

    经表面处理的金属粉以及导电性组合物

    公开(公告)号:CN113348045B

    公开(公告)日:2023-05-05

    申请号:CN201980088525.6

    申请日:2019-11-08

    Inventor: 古泽秀树

    Abstract: 本发明提供一种能够用于提高金属粉的烧结延迟性方面的更加通用的技术。一种经表面处理的金属粉,其被一种以上的含有Si、Ti、Al或Zr的偶联剂进行了表面处理,其中,Si、Ti、Al以及Zr的总附着量与1g的该经表面处理的金属粉相比为200~10000μg,所述偶联剂被制成1质量%浓度的水溶液时的pH为7以下,烧结开始温度为500℃以上。

    经表面处理的金属粉以及导电性组合物

    公开(公告)号:CN113348045A

    公开(公告)日:2021-09-03

    申请号:CN201980088525.6

    申请日:2019-11-08

    Inventor: 古泽秀树

    Abstract: 本发明提供一种能够用于提高金属粉的烧结延迟性方面的更加通用的技术。一种经表面处理的金属粉,其被一种以上的含有Si、Ti、Al或Zr的偶联剂进行了表面处理,其中,Si、Ti、Al以及Zr的总附着量与1g的该经表面处理的金属粉相比为200~10000μg,所述偶联剂被制成1质量%浓度的水溶液时的pH为7以下,烧结开始温度为500℃以上。

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