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公开(公告)号：CN106565952B
公开(公告)日：2020-07-24
申请号：CN201610557190.6
申请日：2016-07-14
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08G65/40 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供用于半导体和显示器制造工艺的新聚合物，含有所述用于半导体和显示器制造工艺的聚合物的抗蚀剂下层膜组合物，以及使用所述组合物制造半导体装置的方法，更具体而言，本公开的新聚合物同时具有优化的蚀刻选择性、平坦化特性和优异的耐热性，使得含有所述聚合物的抗蚀剂下层膜组合物可用作多层半导体光刻工艺用的硬掩膜。
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公开(公告)号：CN106565952A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201610557190.6
申请日：2016-07-14
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08G65/40 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供用于半导体和显示器制造工艺的新聚合物，含有所述用于半导体和显示器制造工艺的聚合物的抗蚀剂下层膜组合物，以及使用所述组合物制造半导体装置的方法，更具体而言，本公开的新聚合物同时具有优化的蚀刻选择性、平坦化特性和优异的耐热性，使得含有所述聚合物的抗蚀剂下层膜组合物可用作多层半导体光刻工艺用的硬掩膜。
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公开(公告)号：CN106432711B
公开(公告)日：2021-03-30
申请号：CN201610551869.4
申请日：2016-07-13
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08G65/40 , H01L21/027 , G03F7/11
Abstract: 本发明提供用于制造半导体和显示器工艺的新聚合物，含有所述用于半导体和显示器制造工艺的聚合物的抗蚀剂下层膜组合物，以及使用所述组合物制造半导体装置的方法，更具体而言，本公开的新聚合物同时具有优化的蚀刻选择性和平坦化特性，使得含有所述聚合物的抗蚀剂下层膜组合物可用作多层半导体光刻工艺用的硬掩膜。
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公开(公告)号：CN106432711A
公开(公告)日：2017-02-22
申请号：CN201610551869.4
申请日：2016-07-13
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C08G65/40 , H01L21/027 , G03F7/11
CPC classification number: C08G65/4012 , C08G65/48 , C08G2650/40 , C09D171/08 , G03F7/091 , G03F7/094 , C08G65/4025 , G03F7/11 , H01L21/0274 , H01L21/0275 , H01L21/0276
Abstract: 本发明提供用于制造半导体和显示器工艺的新聚合物，含有所述用于半导体和显示器制造工艺的聚合物的抗蚀剂下层膜组合物，以及使用所述组合物制造半导体装置的方法，更具体而言，本公开的新聚合物同时具有优化的蚀刻选择性和平坦化特性，使得含有所述聚合物的抗蚀剂下层膜组合物可用作多层半导体光刻工艺用的硬掩膜。
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公开(公告)号：CN104640836B
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201480000762.X
申请日：2014-07-29
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C07C67/54 , C07C69/712 , B01J19/24
Abstract: 本发明提供了制备乙二醇酯的方法，其能够在使用乙二醇醚和羧酸制备乙二醇酯中，在低温和低压条件下增加乙二醇醚的转化率，使用反应精馏塔最小化未反应材料的回收量，并降低杂质的产生量。此外，本发明提供了制备用于电子工业的乙二醇酯的方法，其能够通过注入相对于乙二醇醚的摩尔数过量的羧酸，降低接近反应精馏塔上部的乙二醇酯的损失，在增压条件下使乙二醇酯和羧酸容易地彼此分离，并简化后续的分离塔步骤，而无需单独的共沸精馏装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104640836A
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：CN201480000762.X
申请日：2014-07-29
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
IPC: C07C67/54 , C07C69/712 , B01J19/24
CPC classification number: C07C67/54 , B01D3/009 , B01D3/14 , C07C67/08 , Y02P20/127 , B01J19/245 , B01J2219/0004 , B01J2219/0072 , C07C69/14 , C07C69/712
Abstract: 本发明提供了制备乙二醇酯的方法，其能够在使用乙二醇醚和羧酸制备乙二醇酯中，在低温和低压条件下增加乙二醇醚的转化率，使用反应精馏塔最小化未反应材料的回收量，并降低杂质的产生量。此外，本发明提供了制备用于电子工业的乙二醇酯的方法，其能够通过注入相对于乙二醇醚的摩尔数过量的羧酸，降低接近反应精馏塔上部的乙二醇酯的损失，在增压条件下使乙二醇酯和羧酸容易地彼此分离，并简化后续的分离塔步骤，而无需单独的共沸精馏装置。
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公开(公告)号：CN103857735A
公开(公告)日：2014-06-11
申请号：CN201280024302.1
申请日：2012-05-17
Applicant: SK新技术株式会社 , SK综合化学株式会社
CPC classification number: C08K5/06 , C07C43/11 , C07C43/1785 , C07C69/14 , C08K5/0016 , C08K5/10 , C08L27/06 , C08L63/00 , C08L69/00 , C08L75/04 , C08L2201/06
Abstract: 提供的是用于树脂组合物的增塑剂，以及包含其的树脂组合物，所述树脂组合物包括选自聚氯乙烯树脂、聚氨基甲酸酯树脂、聚碳酸酯树脂、环氧树脂或生物可降解的树脂的任意一种或多种，所述增塑剂具有优良的机械特性例如拉伸强度、延展性和硬度以及形状可加工性，并且特别地在低温具有优良的挠性，因为与树脂相容性良好而不导致渗出，并且具有良好的透明度、耐热性、耐冷性和耐久性。
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公开(公告)号：CN110527512A
公开(公告)日：2019-12-03
申请号：CN201910433994.9
申请日：2019-05-23
Applicant: SK新技术株式会社 , 爱思开新材料有限公司
IPC: C09K13/06 , C07F7/18 , C07F9/50 , C07F9/6596 , C07F9/53
Abstract: 一种蚀刻剂组合物，其包括磷酸和由以下化学式1表示的硅烷化合物：[化学式1]其中A为n价基团，L为C1-C5亚烃基，R1-R3独立地为氢、羟基、烃基或烷氧基，其中R1-R3各自存在或通过杂元素相互连接，n为2-5的整数。
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公开(公告)号：CN106467754B
公开(公告)日：2019-06-07
申请号：CN201610689209.2
申请日：2016-08-19
IPC: C10G29/22
CPC classification number: C10G17/04 , B01D11/0446 , B01D11/0488 , B01D11/0492 , C10G17/02 , C10G31/08 , C10G53/06 , C10G2300/205 , C10G2300/4081 , C10G2300/80
Abstract: 本发明公开了一种从烃油中除去金属的方法，包括：提供含有烃油的原料；将所述原料与含有金属清除剂的水溶液混合，以制备第一混合物；将所述第一混合物分离成第一水溶液相和第一烃相，并排出所述分离出的第一水溶液相；将分离出的所述第一烃相与洗涤水混合，以产生第二混合物；将所述第二混合物分离成第二水溶液相和第二烃相；以及回收所述分离出的第二烃相并将所述分离出的第二水溶液相再循环。本发明的方法减少了整个工艺中水的使用并且容易且有效地从烃油中除去了金属组分。
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公开(公告)号：CN105051053B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201480016363.2
申请日：2014-03-20
Applicant: SK新技术株式会社
Abstract: 本发明提供了在使用由包括季铵盐的席夫碱型配体合成的新络合物作为催化剂制备二氧化碳/环氧化物的共聚物的过程中，使用分子量调节剂制备聚(碳酸亚烃酯)的方法。根据本发明，即使使用分子量调节剂，仍可稳定地保持催化剂的活性，由此可有效地提供具有期望水平的低分子量的聚(碳酸亚烃酯)。另外，预期因为作为本发明催化剂的新络合物相较于现有共聚催化剂结构简单，由于其经济的制备成本，该新络合物可有效地用于大规模商业过程。
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