用于研磨薄膜磁头的装置和方法

    公开(公告)号:CN100341048C

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:CN200410088002.7

    申请日:2004-10-28

    IPC分类号: G11B5/187 G11B5/31 B24B19/26

    摘要: 本发明提供了一种研磨方法和装置,它增加了磁头滑动件制造处理的收获率,但是不会使得输出和不对称特征变差。根据本发明,一种用于研磨薄膜磁头的装置包括夹具块和研磨板。该夹具块包括第一夹具和第二夹具,该第一夹具保持要进行研磨的杆,该第二夹具保持用于分担负载的部件。该研磨板可相对于第一和第二夹具运动,并可与由第一夹具保持的杆的要研磨表面以及由第二夹具保持的负载分担部件接触,以便进行研磨。

    滑子的制造方法
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1124593C

    公开(公告)日:2003-10-15

    申请号:CN99109745.9

    申请日:1999-07-09

    发明人: 中川浩一

    IPC分类号: G11B5/127 G11B5/60

    摘要: 本发明提供一种滑子的制造方法,包括:抛光研磨工序,在该工序中,对并列有若干基部和叠层在基部上的记录/重放用的薄膜元件的滑杆上的磁隙部露出面,从前述基部侧向着薄膜元件侧在与前述滑杆垂直的一定方向上进行抛光研磨;该磁隙部露出面与薄膜元件的叠层方向平行;在抛光研磨工序后,使前述已抛光研磨的磁隙部露出面在与薄膜元件的叠层方向垂直的方向上往返并研磨的工序;将前述滑杆分割成若干个滑子的工序。