检测设备和使用这种检测设备的叠层体制造装置

    公开(公告)号:CN1997886A

    公开(公告)日:2007-07-11

    申请号:CN200580022839.4

    申请日:2005-07-06

    IPC分类号: G01N21/892 G01N21/86

    CPC分类号: G01N21/8916

    摘要: 从各个检测器(60a、60b)中的激光二极管(39)发射出的激光束(LB)被施加至光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b),所述光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b)通过薄膜弯曲辊(58)被扩展向检测器(60a、60b)。从局部切割区域(27a、27b)反射的部分激光束(LB)由光量传感器(45)检测。被施加到光敏薄片薄膜(12)的表面而不是局部切割区域(27a、27b)的激光束(LB)被反射到光量传感器(45)的光检测区域外侧,并且没有被光量传感器(45)检测到。

    光箱结构及应用其的光学检测设备

    公开(公告)号:CN108458972A

    公开(公告)日:2018-08-28

    申请号:CN201710404345.7

    申请日:2017-06-01

    发明人: 陈明生

    摘要: 本发明涉及一种光箱结构、一种应用该光箱结构的光学检测设备以及一种可供检测一板材的光学检测模块,其中,该光箱结构是于一机台上至少一光学模块,该多个光学模块包含有一同侧等角设置的一光箱结构及一影像传感器,其中光箱结构由一箱体构成,该箱体内设有一光源,又该箱体具有一对应光源的入射通道,且该箱体具有一与入射通道等角的反射通道,藉此,利用光箱结构的入射通道与反射通道,使受测物所反射的反射光线中只有受测表面的一次反射光线能被影像传感器接收成像,有效的滤除了非受测表面的二次反射光线或二次以上的反射光线,使上、下表面的影像不会相互干扰,可以有效检出各种污染物、尺寸及位置,从而提高检出率。

    检测设备和使用这种检测设备的叠层体制造装置

    公开(公告)号:CN1997886B

    公开(公告)日:2010-10-20

    申请号:CN200580022839.4

    申请日:2005-07-06

    IPC分类号: G01N21/892 G01N21/86

    CPC分类号: G01N21/8916

    摘要: 从各个检测器(60a、60b)中的激光二极管(39)发射出的激光束(LB)被施加至光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b),所述光敏薄片薄膜(12)中的局部切割区域(27a、27b)通过薄膜弯曲辊(58)被扩展向检测器(60a、60b)。从局部切割区域(27a、27b)反射的部分激光束(LB)由光量传感器(45)检测。被施加到光敏薄片薄膜(12)的表面而不是局部切割区域(27a、27b)的激光束(LB)被反射到光量传感器(45)的光检测区域外侧,并且没有被光量传感器(45)检测到。

    光箱结构、光学检测设备及光学检测模块

    公开(公告)号:CN206974883U

    公开(公告)日:2018-02-06

    申请号:CN201720628533.3

    申请日:2017-06-01

    发明人: 陈明生

    摘要: 本实用新型涉及一种光箱结构、一种应用该光箱结构的光学检测设备以及一种可供检测一板材的光学检测模块,其中,该光箱结构是于一机台上至少一光学模块,该多个光学模块包含有一同侧等角设置的一光箱结构及一影像传感器,其中光箱结构由一箱体构成,该箱体内设有一光源,又该箱体具有一对应光源的入射通道,且该箱体具有一与入射通道等角的反射通道,藉此,利用光箱结构的入射通道与反射通道,使受测物所反射的反射光线中只有受测表面的一次反射光线能被影像传感器接收成像,有效的滤除了非受测表面的二次反射光线或二次以上的反射光线,使上、下表面的影像不会相互干扰,可以有效检出各种污染物、尺寸及位置,从而提高检出率。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利