高分辨率高量子效率的电子轰击的CCD或CMOS成像传感器

    公开(公告)号:CN106537596A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201580039421.8

    申请日:2015-07-15

    IPC分类号: H01L27/146

    CPC分类号: H01J31/26 G01N21/88 H01J29/46

    摘要: 本发明涉及一种用于检测低光信号的电子轰击检测器,其包含:真空管结构,其界定圆柱形真空管腔室;光电阴极,其安置在所述真空管腔室的第一端处;传感器,其安置在所述真空管腔室的第二端处;环电极,其安置在所述真空管腔室中用于产生使所发射的光电子朝向所述传感器加速的电场;及磁场产生器,其经配置以产生施加聚焦透镜效应于所述光电子上的对称磁场。所述环电极及所述磁场产生器是使用缩短距离聚焦方法及加速/减速方法中的一者而操作,使得所述光电子具有低于2keV的着靶能量。反射模式光电阴极的使用是使用多极偏转器线圈或由分段圆形电极结构形成的环电极而实现。大角度偏转是使用磁偏转器或静电偏转器而实现。

    用于对正图像传感器的装置和方法

    公开(公告)号:CN101728199A

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:CN200910209114.6

    申请日:2009-10-27

    发明人: W·E·加里斯

    IPC分类号: H01J31/50 H01J29/00 H01J9/00

    CPC分类号: H01J31/26

    摘要: 公开了用于对正图像传感器的装置和方法。一种成像装置包括壳体和图像传感器组件,该图像传感器组件具有管座和装于该管座中的图像传感器。所述管座连接着所述壳体。用于将图像传感器相对于管座对正的对正构件被提供。还提供了用于将管座相对于壳体对正的对正构件。图像传感器的对正构件与管座的对正构件之间的距离被预先确定,从而预先确定图像传感器和壳体之间的距离。