在高剂量率下检测带电粒子事件
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118231208A

    公开(公告)日:2024-06-21

    申请号:CN202311768651.0

    申请日:2023-12-21

    申请人: FEI 公司

    摘要: 本发明公开了带电粒子显微镜(CPM)支持系统和装置,以及相关方法、计算设备和计算机可读介质。一种带电粒子显微镜支持装置包括:第一逻辑,该第一逻辑用于在带电粒子相机的第一像素处检测第一带电粒子事件;和第二逻辑,该第二逻辑用于在带电粒子相机的包含第一像素的像素子区域内基于剂量率和该像素子区域内的每个像素的能量值来检测是否存在第二带电粒子事件。当确定存在第二带电粒子事件时,第二逻辑确定第二带电粒子事件在子区域内的位置。该支持装置还包括第三逻辑,该第三逻辑用于输出表示第一带电粒子事件和第二带电粒子事件的带电粒子事件数据。

    使用多个电子束的图案化衬底成像

    公开(公告)号:CN110770874B

    公开(公告)日:2022-06-24

    申请号:CN201880027570.6

    申请日:2018-02-28

    IPC分类号: H01J37/256

    摘要: 一种使用多束成像系统对衬底表面成像的方法,包括:使用多极场装置修改电子束;使用具有多个孔的分束装置从电子束生成小束;响应于将小束的焦点投射到表面上,使用偏转器组驱动小束以扫描表面区域以基于从该区域散射的电子接收信号;以及基于所述信号确定用于检查的区域的图像。多束成像系统包括:电子源;用于束成形和束畸变校正的第一多极场装置;分束装置;投射透镜组;偏转器组;物镜组;检测器阵列;第二多极场装置;处理器;以及存储器,存储用于基于所述信号确定用于检查的区域的图像的指令。

    使用多个电子束的图案化衬底成像

    公开(公告)号:CN110770874A

    公开(公告)日:2020-02-07

    申请号:CN201880027570.6

    申请日:2018-02-28

    IPC分类号: H01J37/256

    摘要: 一种使用多束成像系统对衬底表面成像的方法,包括:使用多极场装置修改电子束;使用具有多个孔的分束装置从电子束生成小束;响应于将小束的焦点投射到表面上,使用偏转器组驱动小束以扫描表面区域以基于从该区域散射的电子接收信号;以及基于所述信号确定用于检查的区域的图像。多束成像系统包括:电子源;用于束成形和束畸变校正的第一多极场装置;分束装置;投射透镜组;偏转器组;物镜组;检测器阵列;第二多极场装置;处理器;以及存储器,存储用于基于所述信号确定用于检查的区域的图像的指令。

    高功率密度的电子束聚焦装置

    公开(公告)号:CN109585244B

    公开(公告)日:2021-09-14

    申请号:CN201811281545.9

    申请日:2018-10-23

    摘要: 本发明公开了一种高功率密度的电子束聚焦装置,包括沿电子束发射方向依次设置的聚光镜模块、辅助聚光镜模块和物镜模块;所述聚光镜模块用于形成第一磁场,以使电子束形成交叉点;所述辅助聚光镜模块用于形成第二磁场,以使电子束的运动轨迹跟光轴平行,形成平行束,所述第一磁场比第二磁场的磁场强度大;所述物镜模块用于形成第三磁场,使电子束聚焦到靶材平面。采用聚光镜、辅助聚光镜和物镜的多透镜组合方式,实现电子束的交叉‑平行‑聚焦控制,从而获得电子束系统的高缩小倍率、小像差以及束流的高效率传递。