Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern
    6.
    发明公开
    Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern 失效
    Verfahren zur Herstellung vonMikrostrukturkörpern。

    公开(公告)号:EP0580036A2

    公开(公告)日:1994-01-26

    申请号:EP93110992.0

    申请日:1993-07-09

    IPC分类号: G03F7/11 G03F7/20

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern mit Strukturtiefen von mehreren µm bis in den mm-Bereich durch bildmäßiges Bestrahlen von Polymeren, die auf elektrisch leitfähigen Trägern mittels einer Haftschicht aufgebracht sind, mit Synchrotronstrahlung und Entfernen der bildmäßig bestrahlten Bereiche, wobei die Haftschicht aus mindestens zwei unterschiedlichen chemischen Elementen besteht, die durch gleichzeitiges Aufdampfen oder Kathodenzerstäubung auf den leitfähigen Träger aufgebracht werden und vor dem Auftragen des Polymeren selektiv oder teilweise entfernt werden.
    Das Verfahren eignet sich zur Herstellung von Mikrostrukturkörpern aus Metallen oder Kunststoff.

    摘要翻译: 本发明涉及通过使用粘合剂层施加到导电基底上的聚合物的图像照射,通过同步加速器辐射和图像照射区域的去除来制造具有范围从几μm到mm范围的结构深度的微结构的方法 。 粘合剂层由至少两种不同的化学元素组成,其通过同时气相沉积或阴极溅射施加到导电基底上,并且在施加聚合物之前被选择性地或部分地除去。 该方法适用于制造金属或塑料微结构。