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    VERFAHREN ZUR FERTIGUNG EINER OPTISCHEN ANORDNUNG MIT MINDESTENS ZWEI OPTISCHEN FUNKTIONSFLÄCHEN AUF EINER GEMEINSAMEN TRAGSTRUKTUR UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS
    2.
    发明公开
    VERFAHREN ZUR FERTIGUNG EINER OPTISCHEN ANORDNUNG MIT MINDESTENS ZWEI OPTISCHEN FUNKTIONSFLÄCHEN AUF EINER GEMEINSAMEN TRAGSTRUKTUR UND VORRICHTUNG ZUR DURCHFÜHRUNG DES VERFAHRENS 有权
    过程来用于实施过程中产生的光学装置与至少两个光学功能区域在一个共同的支撑结构和装置

    公开(公告)号：EP2470328A2

    公开(公告)日：2012-07-04

    申请号：EP10770510.5

    申请日：2010-09-13

    申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. ,  Friedrich-Schiller-Universität Jena

    发明人： SCHEIDING, Sebastian ,  RISSE, Stefan ,  GEBHARDT, Andreas ,  DAMM, Christoph ,  PESCHEL, Thomas ,  STEINKOPF, Ralf

    IPC分类号： B24B13/00

    CPC分类号： B29D11/00596 ,  G02B7/182 ,  G02B17/0626 ,  Y10T82/10

    摘要： The invention relates to a method for producing an optical assembly, comprising at least two optical functional surfaces (5, 6) arranged in a fixed positional relationship to one another on a common supporting structure (9), wherein by means of a processing machine (15), in various process steps, at least two optical functional surfaces (5, 6) and at least one reference structure (13) having a defined and measurable relative position to the optical functional surfaces (5, 6) are produced. The supporting structure (9) remains rigidly connected to the processing machine (15) until said process steps have been completed, and wherein the optical functional surfaces (5, 6) are then measured relative to the at least one reference structure (13), and any deviation from a target shape and target position is determined, after which said process steps are repeated at least once with modified actuation of the processing machine (15). The invention further relates to an optical device comprising an optical assembly produced in this way and to a unit for carrying out such a method.

    摘要翻译： 本发明涉及一种用于在光学组件制造方法，其包括在彼此上的公共支撑结构，由处理机器的手段worin一个固定的位置关系布置的至少两个光学功能面，在各种工艺步骤中，至少两个 光学功能面并具有与所述光学功能面限定的和可测量的相对位置的至少一个参考结构中产生。 支撑结构保持刚性地连接到所述加工机，直到所述处理步骤已经完成，并且worin然后光学功能表面的测量相对于所述至少一个参考结构，并且从目标形状和目标位置的任何偏差是确定性的开采，后 其中，所述与所述加工机的改性致动重复至少一次处理步骤。 本发明涉及一种另外的光学器件，包括以这种方式，并用于执行一个搜索方法的单元产生光学组件上。

    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHEN PRÜFUNG
    10.
    发明公开
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHEN PRÜFUNG 审中-公开
    VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR INTERFEROMETRISCHENPRÜFUNG

    公开(公告)号：EP3224570A1

    公开(公告)日：2017-10-04

    申请号：EP15812971.8

    申请日：2015-11-26

    申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. ,  Friedrich-Schiller-Universität Jena

    发明人： BEIER, Matthias ,  STUMPF, Daniela ,  GEBHARDT, Andreas ,  RISSE, Stefan ,  ZEITNER, Uwe D.

    IPC分类号： G01B9/02 ,  G01M11/00 ,  G03H1/08 ,  G02B27/42

    摘要： The invention relates to a method and a device for the interferometric testing of the shape and/or position of at least two optical functional surfaces (13, 14) using an interferometric testing structure comprising an interferometer (9), a beam-shaping optical element (1), and alignment marks (15, 16, 17, 18). The beam-shaping optical element (1) is used to generate alignment wave fronts and testing wave fronts which are transmitted to or reflected at the alignment marks (15, 16, 17, 18) and/or the optical functional surfaces (13, 14), whereby measurement wave fronts are generated. The method and the device allow a measurement of the position of the optical functional surfaces (13, 14) with respect to one another and/or with respect to the alignment marks (15, 16, 17, 18) and a determination of shape and/or positional deviations of the optical functional surfaces (13, 14) from the target geometry and/or position of said surfaces by analyzing the measurement wave fronts in the interferometer (9).

    摘要翻译： 本发明涉及一种使用干涉测试结构对至少两个光学功能表面（13,14）的形状和/或位置进行干涉测试的方法和设备，所述干涉测试结构包括干涉仪（9），束成形光学元件 （1）和对准标记（15,16,17,18）。 光束整形光学元件（1）用于产生对准波前和测试波阵面，所述波阵面被传输到或反射在对准标记（15,16,17,18）和/或光学功能表面（13,14 ），由此产生测量波阵面。 该方法和装置允许测量光学功能表面（13,14）相对于彼此和/或相对于对准标记（15,16,17,18）的位置以及确定形状和 /或通过分析干涉仪（9）中的测量波阵面，光学功能表面（13,14）与目标几何形状和/或所述表面的位置的位置偏差。