摘要:
This infrared detection element includes a buffer layer (InAsSb layer) 3, a buffer layer (InAs layer) 4, and a light absorption layer (InAsSb layer) 5. A critical film thickness hc of the InAs layer satisfies a relation of hc
摘要:
A light-receiving element includes an InP substrate 1, a light-receiving layer 3 having an MQW and located on the InP substrate 1, a contact layer 5 located on the light-receiving layer 3, a p-type region 6 extending from a surface of the contact layer 5 to the light-receiving layer, and a p-side electrode 11 that forms an ohmic contact with the p-type region. The light-receiving element is characterized in that the MQW has a laminated structure including pairs of an In x Ga 1-x As (0.38 ‰¤ x ‰¤ 0.68) layer and a GaAs 1-y Sb y (0.25 ‰¤ y ‰¤ 0.73) layer, and in the GaAs 1-y Sb y layer, the Sb content y in a portion on the InP substrate side is larger than the Sb content y in a portion on the opposite side.
摘要:
A light receiving element includes an InP substrate that is transparent to light having a wavelength of 3 to 12 µm, a buffer layer located in contact with the InP substrate, and a light-receiving layer having a multiple quantum well structure, the light-receiving layer having a cutoff wavelength of 3 µm or more and being lattice-matched with the buffer layer. In the light receiving element, the buffer layer is epitaxially grown on the InP substrate while the buffer layer and the InP substrate exceed a range of a normal lattice-matching condition, and the buffer layer is constituted by a GaSb layer.
摘要:
An avalanche photodiode for detecting ultraviolet photons comprises a first semiconductor layer (1) and a low doped second semiconductor layer (2) on top thereof. These layers are of SiC or Al x Ga 1-x N, in which 0 ≤ x ≤ 0.5, and x may be different for these layers of the diode. A voltage close to the breakdown voltage of the diode being intended to be applied across electrodes (6, 7) of the diode in operation thereof for creating an active region of a high electric field for avalanche multiplication of charge carriers created by said photons in said second layer. A fourth layer (9) is arranged above the second layer laterally outside a surface (4) of the diode being configured to be exposed to photons to be detected, with the second (7) of said electrodes arranged on top thereof. The thickness of the fourth layer (9) and the doping concentration thereof are adapted to obtain an effective surface charge density of said fourth layer in a region laterally next to said surface obtaining an electric field strength substantially equal to a critical electric field strength of the diode at a pn-junction formed below said fourth layer laterally to said surface upon application of a said voltage across said electrodes.
摘要:
Methods for improving the performance and lifetime of irradiated photovoltaic cells are disclosed, whereby Group-V elements, and preferably nitrogen, are used to dope semiconductor GaAs-based subcell alloys.
摘要:
Stapelförmige Mehrfach-Solarzelle (MS) umfassend mindestens drei Tellzellen (SC1, SC2, SC3), wobei jede der drei Teilzellen (SC1, SC2, SC3) einen Emltter und eine Basis aufweist, und wobei die erste Teilzelle (SC1) eine erste Schicht (S1) aus einer Verbindung mit wenigstens den Elementen GaInP umfasst und die Energiebandlücke (ES1) der ersten Schicht (S1) größer 1,75 eV ist und die Gitterkonstante (AS1) der ersten Schicht (S1) im Bereich zwischen 5,635 Å und 5,675 Å liegt, und wobei die zweite Teilzelle (SC2) eine zweite Schicht (S2) aus einer Verbindung mit wenigstens den Elementen GaAs umfasst und die Energiebandlücke (ES2) der zweiten Schicht (S2) im Bereich zwischen 1,35 eV und 1,70 eV liegt und die Gitterkonstante (AS2) der zweiten Schicht (S2) im Bereich zwischen 5,635 Å und 5,675 Å liegt, und wobei die dritte Teilzelle (SC3) eine dritte Schicht (S3) aus einer Verbindung mit wenigstens den Elementen GaInAs umfasst und die Energiebandlücke (ES3) der dritten Schicht (S3) kleiner 1,25 eV ist und die Gitterkonstante (AS3) der dritten Schicht (S3) größer 5,700 Ä ist, und einen metamorphen Puffer (MP1) umfasst und mindestens eine der beiden Schichten (S2, S3) der zweiten Teilzelle (SC2) bzw. der dritten Teilzelle (SC3) aus einer Verbindung mit wenigstens den Elementen GaInAsP besteht und einen PhosphorGehalt größer 1% aufweist und einen Indium-Gehalt größer 1% aufweist, und zwischen zwei Teilzellen kein Halbleiterbond ausgebildet ist.
摘要:
A multijunction solar cell and its method of manufacture including interconnected first and second discrete semiconductor regions disposed adjacent and parallel to each other in a single semiconductor body, including first top subcell, second (and possibly third) lattice matched middle subcells; a graded interlayer adjacent to the last middle solar subcell; and a bottom solar subcell adjacent to said graded interlayer being lattice mismatched with respect to the last middle solar subcell; wherein the interconnected regions form at least a four junction solar cell by a series connection being formed between the bottom solar subcell in the first semiconductor region and the bottom solar subcell in the second semiconductor region.
摘要:
Methods, systems, and photovoltaic devices converting broad spectrum incoherent optical power into electrical power by utilizing nonlinear multi-photon absorption and optionally enhanced by the application of magnetic fields, electric fields, or both during the power conversion process.
摘要:
Skalierbare Spannungsquelle aufweisend eine Anzahl N zueinander in Serie geschalteten als Halbleiterdioden ausgebildete Teilspannungsquellen, wobei jede der Teilspannungsquellen eine Halbleiterdiode einen p-n Übergang aufweist, und jede Halbleiterdiode eine p-dotierte Absorptionsschicht aufweist, wobei die p-Absorptionsschicht von einer p-dotierten Passivierungsschicht mit einer größeren Bandlücke als die Bandlücke der p-Absorptionsschicht passiviert ist und die Halbleiterdiode eine n-Absorptionsschicht aufweist, wobei die n-Absorptionsschicht von einer n-dotierten Passivierungsschicht mit einer größeren Bandlücke als die Bandlücke der n-Absorptionsschicht passiviert ist, und die Teilquellenspannungen der einzelnen Teilspannungsquellen zueinander einer Abweichung kleiner als 20% aufweisen, und zwischen jeweils zwei aufeinanderfolgenden Teilspannungsquellen eine Tunneldiode ausgebildet ist, wobei die Tunneldiode mehrere Halbleiterschichten mit einer höheren Bandlücke als die Bandlücke der p / n Absorptionsschichten aufweist und die Halbleiterschichten mit der höheren Bandlücke jeweils aus einem Material mit geänderter Stöchiometrie und / oder anderer Elementzusammensetzung als die p / n -Absorptionsschichten der Halbleiterdiode bestehen, und die Teilspannungsquellen und die Tunneldioden zusammen monolithisch integriert sind, und gemeinsam einen ersten Stapel mit einer Oberseite und einer Unterseite ausbilden, und die Anzahl N der Teilspannungsquellen größer gleich zwei ist, und das Licht an der Oberseite auf den Stapel auftrifft und die Größe der Beleuchtungsfläche an der Stapeloberseite im Wesentlichen der Größe der Fläche des Stapels an der Oberseite ist, und der erste Stapel eine Gesamtdicke kleiner als 12µm aufweist, und bei 300 K der erste Stapel eine Quellenspannung von größer als 2,2 Volt aufweist, sofern der erste Stapel mit einem Photonenstrom mit einer bestimmten Wellenlänge bestrahlt ist, und wobei in Lichteinfallsrichtung von der Oberseite des Stapels hin zu der Unterseite des Stapels die Gesamtdicke der p und n -Absorptionsschichten einer Halbleiterdiode von der obersten Diode hin zu der untersten Diode zunimmt.