专利检索 ap:("CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION") AND inv:"CHARNS, Leslie M." 第 1 页

1.

发明授权
POLISHING PAD WITH POLISHING SURFACE LAYER HAVING AN APERTURE OR OPENING ABOVE A TRANSPARENT FOUNDATION LAYER 有权
标题翻译：具有抛光表面层的抛光垫具有透明基底层上方的孔或开口

公开(公告)号：EP2872291B1

公开(公告)日：2017-08-09

申请号：EP13728287.7

申请日：2013-05-29

申请人： Cabot Microelectronics Corporation

发明人： LEFEVRE, Paul Andre , ALLISON, William C. , LACASSE, James P. , SCOTT, Diane , SIMPSON, Alexander William , HUANG, Ping , CHARNS, Leslie M.

IPC分类号： B24B37/20 , B24B37/22 , B24B37/26 , B24D11/00 , B24D18/00

CPC分类号： B24B37/205 , B24B37/16 , B24B37/22 , B24B37/26 , B24D11/003 , B24D18/0009

2.

发明授权
POLISHING PAD HAVING POLISHING SURFACE WITH CONTINUOUS PROTRUSIONS 有权

公开(公告)号：EP2948271B1

公开(公告)日：2019-05-08

申请号：EP14702711.4

申请日：2014-01-16

申请人： CABOT MICROELECTRONICS CORPORATION

发明人： LEFEVRE, Paul Andre , ALLISON, William C. , SIMPSON, Alexander William , SCOTT, Diane , HUANG, Ping , CHARNS, Leslie M. , RINEHART, James Richard , KERPRICH, Robert

IPC分类号： B24B37/26 , B24B37/20 , B24B37/22