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    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen
    2.
    发明公开
    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen 审中-公开
    具有光混合器照明装置用于均质化的辐射分布

    公开(公告)号：EP1605311A3

    公开(公告)日：2007-03-14

    申请号：EP05010584.0

    申请日：2005-05-17

    申请人： Carl Zeiss SMT AG

    发明人： Fiolka, Damian ,  Singer, Wolfgang ,  Wangler, Johannes

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70583 ,  G02B27/283 ,  G03F7/70075

    摘要： Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage enthält einen Lichtmischer (10; 210) zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen. Dieser kann z.B. mindestens eine ebene Strahlteilerschicht (16; 216a, 216b) umfassen, die zwischen zwei transparenten Teilelementen (12, 14) parallel zu einer optischen Achse (OA) der Beleuchtungseinrichtung (IS) angeordnet ist. Eine alternative Variante für einen Lichtmischer enthält mindestens eine Reihe (R1 bis R3; R1' bis R5') von Strahlteilern (ST11, ST12, ST13, ST21, ST22, ST23, ST31, ST32, ST33), wobei in der mindestens einen Reihe die Strahlteiler parallel zueinander, in einem Neigungswinkel zu einer eingangsseitigen optischen Achse (OA1) der Beleuchtungseinrichtung (IS) und in einer zu der eingangsseitigen optischen Achse (OA1) senkrechten Richtung versetzt hintereinander angeordnet sind.

    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen
    3.
    发明公开
    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen 审中-公开

    公开(公告)号：EP1605311A2

    公开(公告)日：2005-12-14

    申请号：EP05010584.0

    申请日：2005-05-17

    申请人： Carl Zeiss SMT AG

    发明人： Fiolka, Damian ,  Singer, Wolfgang ,  Wangler, Johannes

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/70583 ,  G02B27/283 ,  G03F7/70075

    摘要： Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage enthält einen Lichtmischer (10; 210) zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen. Dieser kann z.B. mindestens eine ebene Strahlteilerschicht (16; 216a, 216b) umfassen, die zwischen zwei transparenten Teilelementen (12, 14) parallel zu einer optischen Achse (OA) der Beleuchtungseinrichtung (IS) angeordnet ist. Eine alternative Variante für einen Lichtmischer enthält mindestens eine Reihe (R1 bis R3; R1' bis R5') von Strahlteilern (ST11, ST12, ST13, ST21, ST22, ST23, ST31, ST32, ST33), wobei in der mindestens einen Reihe die Strahlteiler parallel zueinander, in einem Neigungswinkel zu einer eingangsseitigen optischen Achse (OA1) der Beleuchtungseinrichtung (IS) und in einer zu der eingangsseitigen optischen Achse (OA1) senkrechten Richtung versetzt hintereinander angeordnet sind.

    摘要翻译： 该机构具有菱形形状的光混合器（10），并且具有布置在平行于Z轴（OA）的两个棱镜（12,14）之间的分束器。 分束器具有两个具有不同折射率的单层。 分束器反射入射光的一部分，而另一部分被透射以获得两个光束的良好混合。 还包括以下独立权利要求：（A）轻型混合器; 和（B）投影照明仪器。

    Teilobjektiv für Beleuchtungssystem
    10.
    发明公开
    Teilobjektiv für Beleuchtungssystem 有权
    用于照明系统的一部分透镜

    公开(公告)号：EP1235112A3

    公开(公告)日：2005-04-20

    申请号：EP02001958.4

    申请日：2002-02-01

    申请人： Carl Zeiss SMT AG

    发明人： Schultz, Jörg ,  Wangler, Johannes ,  Sohmer, Alexander ,  Epple, Alexander ,  Grunwald, Jürgen

    IPC分类号： G03F7/20 ,  G02B13/14 ,  G02B13/18

    CPC分类号： G03F7/70891 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70066 ,  G03F7/70075

    摘要： Teilobjektiv (1) mit einer optischen Achse (OA) zur Beleuchtung eines Bildfeldes, insbesondere in einer Beleuchtungseinrichtung einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage, das zwischen einer Blendenebene (APE) und einer Bildebene (IM) angeordnet ist. Das Teilobjektiv (1) umfaßt eine erste Linsengruppe (3) und eine zweite Linsengruppe (5) mit einer Linse (L15) mit einer ersten asphärischen Linsenfläche (S111). Die zweite Linsengruppe (5) weist mindestens eine erste Linse (L15) mit einer negativer Brechkraft und mindestens eine zweite Linse (L14) mit einer positiver Brechkraft auf. Die maximale Feldhöhe Ymax im innerhalb des Bildfeldes beträgt mindestens 40mm, während die bildseitige numerische Apertur mindestens 0,15 beträgt. Die Hauptstrahlen weisen innerhalb des Bildfeldes eine Feldhöhe Y im und einen Hauptstrahlwinkel PF auf. Die Verteilung der Hauptstrahlwinkel PF über der Feldhöhe Y im ist durch eine Pupillenfunktion PF(Y im ) gegeben, die sich aus einem linearen Beitrag c 1 · Y im und einen nichtlinearen Beitrag PF NL (Y im ) zusammensetzt, wobei der nichtlineare Beitrag PF NL (Y im ) für die maximale positive Feldhöhe Ymax im mindestens +15mrad beträgt.