Catadioptric projection objective
    1.
    发明公开
    Catadioptric projection objective 有权
    加泰罗尼亚

    公开(公告)号:EP2189848A2

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:EP09015829.6

    申请日:2005-07-08

    申请人: Carl Zeiss SMT AG

    IPC分类号: G03F7/20 G02B13/14

    摘要: A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective has a first, refractive objective part for imaging the pattern provided in the object plane into a first intermediate image; a second objective part including at least one concave mirror for imaging the first intermediate imaging into a second intermediate image; and a third, refractive objective part for imaging the second intermediate imaging onto the image plane; wherein the projection objective has a maximum lens diameter D max , a maximum image field height Y', and an image side numerical aperture NA; wherein COMP1 = D max / (Y' · NA 2 ) and wherein the condition COMP1

    摘要翻译: 用于将设置在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的像平面上的折反射投射物镜具有用于将设置在物平面中的图案成像为第一中间图像的第一折射目标部分; 第二目标部分,包括用于将第一中间成像成像成第二中间图像的至少一个凹面镜; 以及第三折射目标部分,用于将所述第二中间成像成像到所述图像平面上; 其中所述投影物镜具有最大透镜直径D max,最大像场高度Y'和像侧数值孔径NA; 其中COMP1 = Dmax /(Y'·NA2),其中条件COMP1 <10成立。

    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen
    2.
    发明公开
    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen 审中-公开
    具有光混合器照明装置用于均质化的辐射分布

    公开(公告)号:EP1605311A3

    公开(公告)日:2007-03-14

    申请号:EP05010584.0

    申请日:2005-05-17

    申请人: Carl Zeiss SMT AG

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage enthält einen Lichtmischer (10; 210) zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen. Dieser kann z.B. mindestens eine ebene Strahlteilerschicht (16; 216a, 216b) umfassen, die zwischen zwei transparenten Teilelementen (12, 14) parallel zu einer optischen Achse (OA) der Beleuchtungseinrichtung (IS) angeordnet ist. Eine alternative Variante für einen Lichtmischer enthält mindestens eine Reihe (R1 bis R3; R1' bis R5') von Strahlteilern (ST11, ST12, ST13, ST21, ST22, ST23, ST31, ST32, ST33), wobei in der mindestens einen Reihe die Strahlteiler parallel zueinander, in einem Neigungswinkel zu einer eingangsseitigen optischen Achse (OA1) der Beleuchtungseinrichtung (IS) und in einer zu der eingangsseitigen optischen Achse (OA1) senkrechten Richtung versetzt hintereinander angeordnet sind.

    Beleuchtungseinrichtung mit einem Lichtmischer zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen

    公开(公告)号:EP1605311A2

    公开(公告)日:2005-12-14

    申请号:EP05010584.0

    申请日:2005-05-17

    申请人: Carl Zeiss SMT AG

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: Eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage enthält einen Lichtmischer (10; 210) zur Homogenisierung von Strahlungsverteilungen. Dieser kann z.B. mindestens eine ebene Strahlteilerschicht (16; 216a, 216b) umfassen, die zwischen zwei transparenten Teilelementen (12, 14) parallel zu einer optischen Achse (OA) der Beleuchtungseinrichtung (IS) angeordnet ist. Eine alternative Variante für einen Lichtmischer enthält mindestens eine Reihe (R1 bis R3; R1' bis R5') von Strahlteilern (ST11, ST12, ST13, ST21, ST22, ST23, ST31, ST32, ST33), wobei in der mindestens einen Reihe die Strahlteiler parallel zueinander, in einem Neigungswinkel zu einer eingangsseitigen optischen Achse (OA1) der Beleuchtungseinrichtung (IS) und in einer zu der eingangsseitigen optischen Achse (OA1) senkrechten Richtung versetzt hintereinander angeordnet sind.

    摘要翻译: 该机构具有菱形形状的光混合器(10),并且具有布置在平行于Z轴(OA)的两个棱镜(12,14)之间的分束器。 分束器具有两个具有不同折射率的单层。 分束器反射入射光的一部分,而另一部分被透射以获得两个光束的良好混合。 还包括以下独立权利要求:(A)轻型混合器; 和(B)投影照明仪器。

    A focusing-device for the radiation from a light source
    4.
    发明公开
    A focusing-device for the radiation from a light source 审中-公开
    Fokussiereinrichtungfürdie Strahlung von einer Lichtquelle

    公开(公告)号:EP1521119A2

    公开(公告)日:2005-04-06

    申请号:EP04022998.1

    申请日:2004-09-28

    申请人: Carl Zeiss SMT AG

    IPC分类号: G03F7/20

    摘要: A focusing-device for the radiation from a light source (2) is provided with a collector mirror (1, 1') which is arranged in a mount (24) and collects the light, in virtual or real terms, from the light source (2) at the second focus (200). The collector mirror (1, 1') is displaceably connected to the mount (24) via a bearing in such a way that the collector mirror can be displaced at least perpendicular to the optical axis (35).

    摘要翻译: 用于来自光源(2)的辐射的聚焦装置设置有集光镜(1,1'),其被布置在安装件(24)中,并以虚拟或实际的方式从光源收集光 (2)在第二焦点(200)。 集光镜(1,1')经由轴承可移动地连接到安装件(24),使得集光镜可以至少垂直于光轴(35)移位。

    Catadioptric projection objective
    5.
    发明公开
    Catadioptric projection objective 有权
    反折射投影物镜

    公开(公告)号:EP2189848A3

    公开(公告)日:2010-06-09

    申请号:EP09015829.6

    申请日:2005-07-08

    申请人: Carl Zeiss SMT AG

    IPC分类号: G03F7/20 G02B13/14

    摘要: A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective has a first, refractive objective part for imaging the pattern provided in the object plane into a first intermediate image; a second objective part including at least one concave mirror for imaging the first intermediate imaging into a second intermediate image; and a third, refractive objective part for imaging the second intermediate imaging onto the image plane; wherein the projection objective has a maximum lens diameter D max , a maximum image field height Y', and an image side numerical aperture NA; wherein COMP1 = D max / (Y' · NA 2 ) and wherein the condition COMP1

    摘要翻译: 用于将提供在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的成像平面上的折反射投影物镜具有:第一折射物镜部分,用于将提供在物平面中的图案成像为第一中间图像; 第二物镜部分,其包括用于将第一中间成像成像为第二中间图像的至少一个凹面镜; 以及第三折射物镜部分,用于将第二中间成像成像到像平面上; 其中投影物镜具有最大透镜直径Dmax,最大像场高度Y'和像侧数值孔径NA; 其中COMP1 = Dmax /(Y'·NA2)并且其中条件COMP1 <10成立。

    Projektionsobjektiv und Projektionsbelichtungsanlage mit negativer Schnittweite der Eintrittspupille

    公开(公告)号:EP1840622A2

    公开(公告)日:2007-10-03

    申请号:EP07005743.5

    申请日:2007-03-21

    申请人: Carl Zeiss SMT AG

    IPC分类号: G02B17/06

    摘要: Die Erfindung betrifft ein Projektionsobjektiv umfassend:
    - eine Objektebene (20, 100, 300 2103), in der ein Objektfeld ausgebildet wird,
    -eine Eintrittspupille (VE)
    - eine gespiegelte Eintrittspupille (RE) in einer gespiegelten Eintrittspupillenebene (103), die durch Spiegelung der Eintrittspupille (VE) an der Objektebene erhalten wird,
    - eine Bildebene (21, 102, 302, 2102),
    - eine optische Achse (HA)
    - wenigstens einen ersten Spiegel (S1) und einen zweiten Spiegel (S2), wobei das Projektionsobjektiv eine negative Schnittweite der Eintrittspupille aufweist, und ein Hauptstrahl (CR, CRP) der von einem zentralen Punkt des Objektfeldes ausgeht und das Objektiv von der Objektebene zur Bildebene durchläuft die optische Achse (HA) in mindestens einem Schnittpunkt (CROSS) schneidet, wobei sämtliche Schnittpunkte (CROSS, CROSS1, CROSS2) geometrisch zwischen der Bildebene (21, 102,302, 2102) und der gespiegelten Eintrittspupillenebene (103) liegen

    摘要翻译: 该目标在通过在物平面上镜像入射光瞳而获得的镜像入射光瞳平面中具有镜像入射光瞳。 照射光束穿过微光刻投影曝光装置的照明系统。 图像投影射线路径和照射光束在从物体到像面的光路中的子午线平面上彼此不交叉(2102)。 在从物平面到像平面的光路中形成中间图像。