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1.发明公开Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof 审中-公开建设形成图案，工艺形成的图案及其应用
公开(公告)号：EP1376227A1
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03021175.9
申请日：1998-08-10
发明人： Kobayashi, Hironori , Yamamoto, Manabu , Aoki, Daigo , Kamiyama, Hironori , Hikosaka, Shinichi , Kashiwabara, Mitsuhiro
CPC分类号： B41N1/006 , B29D11/00365 , B41C1/1041 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0005 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/095 , G03F7/11
摘要： A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
摘要翻译： 一种用于图案形成angepasst结构用于光学地形成图案，通过包括为特征：设置在基底一个含光催化剂层，上述含光催化剂层含有的润湿性是通过在图案状曝光光催化剂作用变量的材料。
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2.发明公开Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof 有权Lithographieplatte和Verfahren zu derer Herstellung
公开(公告)号：EP1376229A1
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03021177.5
申请日：1998-08-10
发明人： Kobayashi, Hironori , Yamamoto, Manabu , Aoki, Daigo , Kamiyama, Hironori , Hikosaka, Shinichi , Kashiwabara, Mitsuhiro
CPC分类号： B41N1/006 , B29D11/00365 , B41C1/1041 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0005 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/095 , G03F7/11
摘要： A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
摘要翻译： 一种用于图案形成的结构，用于光学地形成图案，其特征在于包括：设置在基底上的含光催化剂的层，所述含光催化剂的层含有通过在图案曝光下的光催化作用可润湿性的材料。
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3.发明公开Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof 有权Verfahren zur Herstellung einer Linse
公开(公告)号：EP1376228A1
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03021176.7
申请日：1998-08-10
发明人： Kobayashi, Hironori , Yamamoto, Manabu , Aoki, Daigo , Kamiyama, Hironori , Hikosaka, Shinichi , Kashiwabara, Mitsuhiro
CPC分类号： B41N1/006 , B29D11/00365 , B41C1/1041 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0005 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/095 , G03F7/11
摘要： A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
摘要翻译： 一种用于图案形成的结构，用于光学地形成图案，其特征在于包括：设置在基底上的含光催化剂的层，所述含光催化剂的层含有通过在图案曝光下的光催化作用可润湿性的材料。
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4.发明公开Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof 有权图案形成的结构，图案形成方法及其应用
公开(公告)号：EP1376225A1
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03021173.4
申请日：1998-08-10
发明人： Kobayashi, Hironori , Yamamoto, Manabu , Aoki, Daigo , Kamiyama, Hironori , Hikosaka, Shinichi , Kashiwabara, Mitsuhiro
CPC分类号： B41N1/006 , B29D11/00365 , B41C1/1041 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0005 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/095 , G03F7/11
摘要： A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
摘要翻译： 1.一种图案形成用图案形成用结构体，其特征在于，包括：设置在基材上的含光催化剂层，该含光催化剂层含有在图案曝光时通过光催化作用使润湿性可变的材料。
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5.发明公开Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof 有权Struktur zur Musterbildung，Verfahren zur Musterbildung，und deren Anwendung
公开(公告)号：EP1376226A1
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03021174.2
申请日：1998-08-10
发明人： Kobayashi, Hironori , Yamamoto, Manabu , Aoki, Daigo , Kamiyama, Hironori , Hikosaka, Shinichi , Kashiwabara, Mitsuhiro
CPC分类号： B41N1/006 , B29D11/00365 , B41C1/1041 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0005 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/095 , G03F7/11
摘要： A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
摘要翻译： 一种用于图案形成的结构，用于光学地形成图案，其特征在于包括：设置在基底上的含光催化剂的层，所述含光催化剂的层含有通过在图案曝光下的光催化作用可润湿性的材料。
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6.发明公开Structure for pattern formation, method for pattern formation, and application thereof 有权Struktur zur Musterbildung，Verfahren zur Musterbildung und deren Anwendung
公开(公告)号：EP1376224A1
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03021172.6
申请日：1998-08-10
发明人： Kobayashi, Hironori , Yamamoto, Manabu , Aoki, Daigo , Kamiyama, Hironori , Hikosaka, Shinichi , Kashiwabara, Mitsuhiro
CPC分类号： B41N1/006 , B29D11/00365 , B41C1/1041 , G02B3/0012 , G02B3/0056 , G02B5/201 , G03F7/0005 , G03F7/0007 , G03F7/001 , G03F7/0043 , G03F7/0757 , G03F7/095 , G03F7/11
摘要： A structure for pattern formation adapted for optically forming a pattern, characterized by comprising: a photocatalyst-containing layer provided on a substrate, the photocatalyst-containing layer containing a material of which the wettability is variable through photocatalytic action upon pattern-wise exposure.
摘要翻译： 一种用于图案形成的结构，用于光学地形成图案，其特征在于包括：设置在基底上的含光催化剂的层，所述含光催化剂的层含有通过在图案曝光下的光催化作用可润湿性的材料。
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