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发明公开
ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE FILM THEREFROM AND METHOD OF FORMING PATTERN USING THE COMPOSITION 审中-公开
标题翻译：对光合或其它辐射敏感树脂组合物，对光合或其它辐射感光胶片体和结构形成方法使用该组合物

公开(公告)号：EP2580624A4

公开(公告)日：2014-07-30

申请号：EP11849906

申请日：2011-12-22

申请人： FUJIFILM CORP

发明人： MATSUDA TOMOKI , SHIBUYA AKINORU , TOKUGAWA YOKO , YAMAGUCHI SHUHEI , FUJITA MITSUHIRO

IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027

CPC分类号： G03F7/0045 , C07C381/12 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041