公开(公告)号：EP4351043A1

公开(公告)日：2024-04-10

申请号：EP22382931.8

申请日：2022-10-05

申请人： Fundació Institut de Ciències Fotòniques ,  Institució Catalana De Recerca I Estudis Avançats (ICREA)

发明人： López Grande, Ignacio ,  Stein, Abigail ,  Pruneri, Valerio

IPC分类号： H04B10/70 ,  H04B10/50

摘要： An optical system configured to apply a relative phase modulation between two orthogonal polarization modes using a double pass configuration, wherein the system is configured to act independently on each polarization state.

公开(公告)号：EP2905605A1

公开(公告)日：2015-08-12

申请号：EP14382043.9

申请日：2014-02-06

申请人： Fundació Institut de Ciències Fotòniques ,  Institució Catalana De Recerca I Estudis Avançats (ICREA)

发明人： Pruneri, Valerio ,  Martínez, Pedro A. ,  Jofre, Marc

IPC分类号： G01N21/47 ,  G01N21/53 ,  G01N21/57 ,  G01N21/958

CPC分类号： G01N21/47 ,  G01N21/4738 ,  G01N21/534 ,  G01N21/57 ,  G01N2021/555 ,  G01N2021/556 ,  G01N2201/0407

摘要： Apparatus for measuring light scattering of a sample comprising a light beam source, means for collimating the beam and making it impinge on the sample in a perpendicular direction, at least one light sensor, and at least one spatial filter between the sample and the optical sensor, provided with two apertures, means for measuring the total power reaching the sensor and means for measuring the power of beams with a low k vector after the beam traverses the filter. The invention provides thus a simplified, portable and compact device for measuring different parameters like haze, turbidity, etc. can be built, for any sample and without the need of changing detectors.

摘要翻译： 用于测量包括光束源的样品的光散射的装置，用于准直光束并使其沿垂直方向撞击在样品上的装置，至少一个光传感器以及样品和光学传感器之间的至少一个空间滤光器 设置有两个孔，用于测量到达传感器的总功率的装置和用于在光束穿过滤光器之后用低k矢量测量光束的功率的装置。 因此，本发明提供了一种用于测量不同参数（如雾度，浊度等）的简化的便携式和紧凑型装置，可用于任何样品并且不需要改变检测器。

公开(公告)号：EP3703283A1

公开(公告)日：2020-09-02

申请号：EP19382139.4

申请日：2019-02-27

申请人： Fundació Institut de Ciències Fotòniques ,  Institució Catalana De Recerca I Estudis Avançats (ICREA)

发明人： Etcheverry Cabrera, Sebastián ,  Ramana Raju Valivarthi, Venkata ,  Pruneri, Valerio

IPC分类号： H04B10/516 ,  H04B10/60 ,  H04B10/70 ,  H04L9/08

摘要： The present invention relates to an apparatus for generating light pulses, comprising a laser device configured to output the light pulses and a pulse driver configured to supply electrical pulses to the laser device to drive the laser device. Furthermore, the pulse driver is configured to supply the electrical pulses with amplitudes/intensities obeying a pre-determined probability distribution to the laser device such that quadrature values of the light pulses obey another pre-determined probability distribution.

公开(公告)号：EP3086155A1

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：EP15164853.2

申请日：2015-04-23

申请人： Fundació Institut de Ciències Fotòniques ,  Institució Catalana de Recerca I Estudis Avançats

发明人： Pruneri, Valerio ,  Jofre, Marc ,  Pérez Rosas, Juan, Miguel

IPC分类号： G02B21/00 ,  G01N15/14 ,  G02B21/36

CPC分类号： G01N15/1463 ,  G01N15/1468 ,  G01N21/6428 ,  G01N21/6456 ,  G01N2015/0065 ,  G01N2015/1006 ,  G01N2201/062 ,  G01N2201/068 ,  G01N2201/12 ,  G02B21/0008 ,  G02B21/365

摘要： The present invention relates to an image cytometer for capturing and analyzing the image of a sample in the momentum domain. The cytometer is provided with a light source for illuminating a sample with a light beam, an optical transforming system positioned behind the sample in the beam propagation direction for generating the Fourier transform in the space plane, a light sensor array and a spatially selective filter positioned with respect to the optical system such that the Fourier transform is imaged onto the light sensor array.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于捕获和分析动量域中的样本的图像的图像细胞仪。 该细胞仪设置有用于用光束照射样品的光源，在光束传播方向上位于样品后面的光学变换系统，用于在空间平面中产生傅立叶变换，光传感器阵列和空间选择性过滤器 相对于光学系统，使得傅里叶变换被成像到光传感器阵列上。

公开(公告)号：EP2581789A1

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：EP11185280.2

申请日：2011-10-14

申请人： Fundació Institut de Ciències Fotòniques ,  Institució Catalana de Recerca i Estudis Avançats ,  Carl Zeiss SMS GmbH

发明人： Pruneri, Valerio ,  Carrilero, Alberto ,  Peters, Jan-Hendrik

IPC分类号： G03F1/22 ,  G03F1/38

CPC分类号： G03F1/22 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F1/146 ,  G03F1/38

摘要： The present inventions relates to a substrate for a photolithographic mask comprising a coating deposited on a rear surface of the substrate, wherein the coating comprises (a) at least one electrically conducting layer, and (b) wherein a thickness of the at least one layer is smaller than 30 nm, preferably smaller than 20 nm, and most preferably smaller than 10 nm.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于光刻掩模包括沉积在基片的后表面上的涂层的基材，worin该涂层包括（a）至少一个导电层，和（b）worin的厚度，所述至少一个层的 是小于30nm，优选小于20nm，并且最优选小于10纳米。