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1.发明公开Coating compositions suitable for use with an overcoated photoresist 有权Verfahren zur Herstellung eines fotoresist Bild mit einer Unterschicht
公开(公告)号：EP2216684A1
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：EP10152686.1
申请日：2010-02-04
发明人： Cameron, James F. , Sung, Jin Wuk , Amara, John P. , Prokopowicz, Gregory P. , Valeri, David A. , Vyklicky, Libor , Huang, Wu-Song S. , Li, Wenjie , Varanasi, Pushkara R. , Popova, Irene Y.
摘要： Organic coating compositions, particularly antireflective coating compositions, are provided that can be developed with an aqueous alkaline developer, including in a single step during development of an overcoated photoresist layer. Preferred coating compositions comprise a tetrapolymer that comprises at least four distinct functional groups.
摘要翻译： 提供了可以用含水碱性显影剂显影的有机涂料组合物，特别是抗反射涂料组合物，包括在外涂光致抗蚀剂层的显影过程中的单一步骤。 优选的涂料组合物包含包含至少四个不同官能团的四元共聚物。
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公开(公告)号：EP2216684B1
公开(公告)日：2015-10-07
申请号：EP10152686.1
申请日：2010-02-04
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