公开(公告)号：EP4372791A3

公开(公告)日：2024-06-26

申请号：EP24166093.5

申请日：2020-09-02

申请人： Nanjing ZhongAn Semiconductor Equipment Ltd

发明人： ZENG, An, Andrew

IPC分类号： G03F9/00 ,  G03F7/00 ,  G01B11/30 ,  G01B7/06 ,  G01B11/06 ,  H01L21/683 ,  G01B5/00 ,  G01B7/28 ,  G01B7/34 ,  G01B9/02015

CPC分类号： G01B11/2441 ,  G01B11/306 ,  G01B9/02031 ,  G01B5/0004 ,  H01L22/12 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/67288 ,  G03F7/70783 ,  G03F7/7085 ,  G01B2210/6220130101 ,  G01B7/08 ,  G01B11/0608 ,  B25B11/005 ,  G01B7/082 ,  G01B7/345 ,  G01B7/28

摘要： A semiconductor equipment architecture WGT for wafer shape and flatness measurement is disclosed. The semiconductor equipment architecture WGT includes a reflective air-bearing chuck and a hybrid wafer thickness gauge. Also disclosed are the corresponding methods of measuring wafer shape and flatness using the architecture, the air-bearing chuck and the hybrid wafer thickness gauge.

公开(公告)号：EP3436774B1

公开(公告)日：2024-06-19

申请号：EP17724621.2

申请日：2017-03-28

IPC分类号： G01B5/00 ,  G01B11/27 ,  G01B11/30 ,  G01B11/24

CPC分类号： G01B11/24 ,  G01B5/0004 ,  G01B5/0016 ,  G01B11/272 ,  G01B11/306

公开(公告)号：EP2140252B1

公开(公告)日：2018-11-21

申请号：EP08735530.1

申请日：2008-03-27

申请人： Unity Semiconductor

发明人： MOULIN, Cécile ,  MORITZ, Sophie ,  GASTALDO, Philippe ,  BERGER, François ,  DELCARRI, Jean-Luc ,  BELIN, Patrice ,  MALEVILLE, Christophe

IPC分类号： G01B11/30 ,  G01B11/25 ,  G01N21/95 ,  G01N21/88

CPC分类号： G01N21/9501 ,  G01B11/2527 ,  G01B11/306 ,  G01N2021/8829

摘要： A method for detecting surface defects, such as slip line type defects, on a substrate designed to be used in electronics, optoelectronics or analogue, including projection of a pattern of light fringes and dark bands onto the substrate, relative displacement of the substrate relative to the pattern, acquisition of a sequence of at least three images of the pattern reflected by the substrate to a sensor, the images corresponding to displacement of the fringes of the pattern, determination of the gradient of the surface of the substrate using displacements of fringes of the pattern, and determination of the presence of a surface defect on the substrate using variations in the gradient of the surface of the substrate. Another embodiment comprises a device using said method.

公开(公告)号：EP2399285B1

公开(公告)日：2018-10-31

申请号：EP10744192.5

申请日：2010-02-16

申请人： KLA-Tencor Corporation

发明人： TANG, Shouhong ,  KREN, George ,  MUELLER, Dieter ,  HAAS, Brian ,  KAVALDJIEV, Daniel

IPC分类号： H01L21/66 ,  G01B11/06 ,  G01B11/30 ,  G01B9/02

CPC分类号： G01B9/02021 ,  G01B9/02027 ,  G01B9/02057 ,  G01B9/02072 ,  G01B9/0209 ,  G01B11/306

摘要： An interferometer system and method may be used to measure substrate thickness or shape. The system may include two spaced apart reference flats having that form an optical cavity between two parallel reference surfaces. A substrate holder may be configured to place the substrate in the cavity with first and second substrate surfaces substantially parallel with corresponding first and second reference surfaces such that a space between the first or second substrate surface is three millimeters or less from a corresponding one of the reference surfaces or a damping surface. Interferometer devices may be located on diametrically opposite sides of the cavity and optically coupled thereto. The interferometers can map variations in spacing between the substrate surfaces and the reference surfaces, respectively, through interference of light optically coupled to and from to the cavity via the interferometer devices.

公开(公告)号：EP3342495A1

公开(公告)日：2018-07-04

申请号：EP17205470.2

申请日：2014-03-14

申请人： The Bradbury Company, Inc.

发明人： Gregory S., Smith ,  Clarence B., COX III

IPC分类号： B21D1/02 ,  G01B11/30 ,  B21D1/05 ,  B21B37/28 ,  B21B38/02

CPC分类号： B21B37/16 ,  B21B1/24 ,  B21D1/02 ,  B21D1/05 ,  G01B5/20 ,  G01B11/306 ,  G01B21/20

摘要： Methods and apparatus to monitor conditioning machines are disclosed herein. An example system includes a plurality of work rolls (212) to process a strip material (100). A sensor module (502) measures a distance (536) between an upper surface (524) of the strip material and a first reference location (540). A controller (604) determines a difference value between the measured distance and a predetermined distance to detect longbow in the strip material.

公开(公告)号：EP3309508A1

公开(公告)日：2018-04-18

申请号：EP17802711.6

申请日：2017-05-19

申请人： Nippon Steel & Sumitomo Metal Corporation

发明人： KONNO, Yusuke ,  KOBAYASHI, Takamichi ,  AKAGI, Toshio ,  HIBI, Atsuhiro ,  FURUYA, Nobuhiro ,  NAKAZAKI, Akihito

IPC分类号： G01B11/24 ,  G01N21/892

CPC分类号： G01B11/24 ,  G01B11/26 ,  G01B11/303 ,  G01B11/306 ,  G01N21/8901 ,  G01N21/892 ,  G01N2021/8908 ,  G01N2021/8918 ,  G01N2201/062

摘要： [Object]
To measure a surface shape of a strip-shaped body made of a metallic body at higher speed with higher precision while suppressing occurrence of speckle noise.
[Solution]
A shape measurement apparatus according to the present invention includes: a linear light source that includes a superluminescent diode and applies linear light spreading in a width direction of the strip-shaped body to a surface of the strip-shaped body; a screen on which reflected light of the linear light off the surface of the strip-shaped body is projected; an area camera that captures an image of the reflected light of the linear light projected on the screen; and an arithmetic processing apparatus that calculates the surface shape of the strip-shaped body using the captured image of the reflected light of the linear light captured by the area camera. The linear light source has a spectral half-width of 20 nm or more, and is placed in a manner that an angle θ formed by an optical axis of the linear light source and a direction normal to the surface of the strip-shaped body and a wavelength λ of the linear light satisfy Formula (I) related to specularity of the strip-shaped body.

摘要翻译： 本发明的目的在于以较高的精度以较高的速度测量由金属体制成的带状体的表面形状，同时抑制斑点噪声的发生。 根据本发明的形状测量设备包括：线性光源，其包括超辐射发光二极管并且将在所述带状体的宽度方向上扩展的线性光施加到所述带状体的表面; 从该带状体表面射出线状光的反射光的屏幕; 捕捉投影在屏幕上的线性光的反射光的图像的区域相机; 以及算术处理装置，其使用由区域相机拍摄的线状光的反射光的拍摄图像来计算带状体的表面形状。 线性光源具有20nm或更大的光谱半宽度，并且以线性光源的光轴和垂直于条形体的表面的方向形成的角度θ和 线状光的波长λ满足与带状体的镜面反射有关的式（I）。

公开(公告)号：EP3117180A4

公开(公告)日：2018-01-10

申请号：EP15761827

申请日：2015-03-12

申请人： THE SHERWIN-WILLIAMS COMPANY

发明人： YAJKO MICHAEL PAUL

IPC分类号： G01B11/02 ,  G01N21/17 ,  G01V8/10 ,  G02F1/01 ,  G06T5/00 ,  G06T7/00 ,  G06T7/90

CPC分类号： G06T7/90 ,  G01B11/306 ,  G06K9/00785 ,  G06K9/4652 ,  G06T5/007 ,  G06T7/0004 ,  G06T2207/10024 ,  G06T2207/30156

摘要： Systems and methods providing digitally enhanced imaging for the prediction, application, and inspection of coatings. A digital imaging and processing device provides image acquisition, processing, and display of acquired digital imaging data to allow a user to discern variations, beyond that which can be discerned by observing a coating or a substrate with the naked eye. The digital imaging and processing device may also provide pre-coating and post-coating inspection capabilities as well as coating prediction capabilities.

公开(公告)号：EP2252856B1

公开(公告)日：2017-11-01

申请号：EP09710938.3

申请日：2009-02-13

申请人： Pilkington Group Limited

发明人： EHRICK, Michael, R.

IPC分类号： G01B11/25 ,  G01B11/30 ,  G01N21/958

CPC分类号： G01B11/2509 ,  G01B11/2513 ,  G01B11/306 ,  G01N21/958 ,  G01N2021/9586

公开(公告)号：EP3216574A1

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：EP16159708.3

申请日：2016-03-10

申请人： SWISS KRONO Tec AG

发明人： Kalwa, Norbert , 

IPC分类号： B27N7/00 ,  G01N21/898

CPC分类号： B27N7/00 ,  B27N3/143 ,  G01B11/306 ,  G01N21/8901 ,  G01N21/8986 ,  G01N2021/8861 ,  G01N2021/8874 ,  G01N2021/8908

摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer OSB (10), in dem ein aus mehreren Lagen (6,7,8) beleimter Strands gestreuter Kuchen (1) in einer Heißpresse zu einer Platte gewünschter Dicke verpresst wird, mit folgenden Schritten:
a) Scannen der Oberfläche einer Oberseite (11) zur Ermittlung von Unebenheiten (19) und/oder Fehlstellen,
b) Bestimmung von Positionsdaten der ermittelten Unebenheiten (19) und/oder Fehlstellen,
c) Bestimmung der Volumina der einzelnen Unebenheiten und/oder Fehlstellen (19),
d) gezieltes Verfüllen der Unebenheiten und/oder Fehlstellen (19) mit einem Füllstoff (15) auf der Grundlage der bestimmten Positionsdaten und Volumina.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于制造在其中胶合链的多个层（6,7,8）散射饼（1）被压在热压机中，以形成所需厚度的板的OSB（10），包括以下步骤：a） 扫描的上侧（11）的表面，用于检测不规则性（19）和/或缺陷，b）确定（检测不平坦的位置数据（19）和/或空隙，c）中测定的单不均匀性和/或空隙的体积的19 ），d）基于所确定的位置数据和体积，用填充物（15）选择性地填充不平坦部分和/或缺陷（19）。

公开(公告)号：EP3199249A1

公开(公告)日：2017-08-02

申请号：EP16153410.2

申请日：2016-01-29

申请人： DAW SE

发明人： Overmeyer, Sonja ,  Walter, Christian

IPC分类号： B05D7/26 ,  B05D1/40 ,  B05D1/42 ,  B05C11/02 ,  B05C11/04 ,  G01B11/30 ,  G01B13/22 ,  G01B5/28

CPC分类号： G01B11/306 ,  B05C3/18 ,  B05C9/12 ,  B05C11/023 ,  B05C11/04 ,  G01B5/285

摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Beschichtungsfilmaufziehvorrichtung, umfassend einen Substratkörper mit einer ebenen Beschichtungsseite für die Auftragung eines Beschichtungsfilms und mit einem ersten Abschnitt für die Aufnahme einer den Beschichtungsfilm bildenden Beschichtungsmasse und einem zweiten Abschnitt für die Ausbildung des Beschichtungsfilms aus der Beschichtungsmasse, eine Spaltrakel mit einer Ziehkante mit vorgegebener oder einstellbarer Spalthöhe, und eine Spiral- oder Rillenrakel, wobei Spaltrakel und Spiral- oder Rillenrakel auf der ebenen Beschichtungsseite des Substratkörpers angeordnet oder anordenbar sind und wobei die Spiral- oder Rillenrakel in Bezug auf den zweiten Abschnitt jenseits der Spaltrakel vorliegt oder anordenbar ist. Außerdem betrifft die Erfindung Verfahren zur Untersuchung der Oberfläche von Beschichtungsfilmen, insbesondere der Verlaufseigenschaften und der Offenzeit dieser Beschichtungsfilme. Ferner betrifft die Erfindung die Verwendung der erfindungsgemäßen Beschichtungsfilmaufziehvorrichtung für die Bestimmung der Offenzeit oder der Verlaufseigenschaften eines Beschichtungsfilms sowie die Verwendung mindestens eines Profilometers oder eines Konfokalmikroskops für die Vermessung der Oberfläche eines auf der ebenen Beschichtungsseite eines Substratkörpers der erfindungsgemäßen Beschichtungsflmaufziehvorriehtung aufgetragenen Beschichtungsfilms.

摘要翻译： 本发明涉及一种Beschichtungsfilmaufziehvorrichtung包括具有用于涂膜的应用的平坦涂层侧的基板主体和具有第一部分，用于接收一个涂膜形成涂料组合物和用于形成涂料组合物的涂膜，狭缝刀片与牵引边缘的第二部分 是一个预定的或可调节的间隙高度，并且以螺旋形或开槽的刮刀，所述狭缝刀片和螺旋形或开槽的刮刀设置在基板主体的平坦涂层侧或可以被布置，并且其中，所述螺旋形或开槽的刮刀相对于所述第二部分是存在于所述间隙叶片或可定位的另一侧 ， 此外，本发明涉及用于研究涂膜表面，特别是这些涂膜的流动性质和开放时间的方法。 此外，本发明根据本发明的用于确定开放时间或涂膜的流动性质，以及使用至少一个轮廓的或涂覆的表面的上Beschichtungsflmaufziehvorriehtung本发明的涂层膜的基板主体的平坦涂层侧的测量共焦显微镜涉及Beschichtungsfilmaufziehvorrichtung的。