Halterung zum Halten eines metallischen Turbinenbauteils

    公开(公告)号:EP1806426A1

    公开(公告)日:2007-07-11

    申请号:EP06000339.9

    申请日:2006-01-09

    摘要: Es wird eine Halterung (1) zum Halten eines metallischen Bauteils (3), welches wenigstens einen über eine Öffnung (6) in einer Außenfläche (8) des Bauteils (3) zugänglichen internen Kanal (4) aufweist, zur Verfügung gestellt. Die Halterung ist ausgestattet mit
    - einem Lagerelement (5), welches eine Lagerfläche (11) umfasst, die derart ausgestaltet ist, dass sie ein Aufsetzen des Bauteils (3) auf das Lagerelement (5) zulässt und dabei wenigstens einem Teil der die Öffnung (6) aufweisenden Außenfläche (8) des Bauteils (1) als Auflage dient, und
    - einem durch das Lagerelement (5) hindurchführenden Strömungskanal (7) mit wenigstens einer in der Lagerfläche (11) angeordneten Austrittsöffnung (15). Die Austrittsöffnung (15) ist derart in der Lagerfläche (11) angeordnet ist, dass sie bei aufgesetztem Bauteil (3) der Öffnung des internen Kanals (4) gegenüber liegt. Außerdem ist die Austrittsöffnung (15) in Form und Strömungsquerschnitt an die Öffnung (6) des internen Kanals (4) angepasst.

    摘要翻译: 保持器(1)具有排出口(15),该排气口(15)通过穿过流动通道的轴承元件以适于打开内部通道(4)的方式布置在储存空间(11)中 在组件(3)上相对。 流动通道由轴承元件的储存空间上的突出连接件引导。 形成为使得能够将部件放置在轴承元件(5)上的存储空间和具有该部件的外表面(8)的开口(6)用作对零件的支撑。

    Procédé de protection par aluminisation de pièces métalliques constituées au moins en partie par une structure en nid d'abeilles
    4.
    发明公开
    Procédé de protection par aluminisation de pièces métalliques constituées au moins en partie par une structure en nid d'abeilles 审中-公开
    镀铝金属部件期间用蜂窝结构体至少部分地保护的方法

    公开(公告)号:EP1302559A1

    公开(公告)日:2003-04-16

    申请号:EP02292521.8

    申请日:2002-10-14

    申请人: Snecma Moteurs

    摘要: Au moins un précurseur gazeux du dépôt à réaliser comprenant un composé de l'aluminium est amené avec l'aide d'un gaz porteur au contact des surfaces de la pièce disposée dans une enceinte (21). Le gaz porteur est choisi parmi l'hélium et l'argon et la pression dans l'enceinte est choisie de manière que le libre parcours moyen des molécules de gaz porteur soit au moins deux fois supérieur à celui des molécules d'argon sous pression atmosphérique. Le procédé convient notamment pour l'aluminisation de secteur d'anneau de turbine basse pression d'une turbomachine, muni d'un revêtement abradable en nid d'abeilles.

    摘要翻译: 金属成分掺入内部蜂窝结构体的渗铝是使用气态前体的铝化合物合并所有被馈送,与载气的以调节压力的帮助下与组分的表面接触。 载气从氦气或氩气选择。 金属部件的结合上通过汽相淀积内部蜂窝结构体的渗铝是使用气态前体铝化合物合并所有被馈送,与载气的帮助下,接触到的部件的布置在所述表面 在一个外壳(21)。 载气是从氦和氩选择和在外壳中的压力选择检查没有载气分子的平均自由链接可以比那些在大气压下的氩分子大至少两次。

    IMPROVED ALPHA ALUMINA LAYER DEPOSITED WITH CONTROLLED TEXTURES

    公开(公告)号:EP3848485A1

    公开(公告)日:2021-07-14

    申请号:EP20020016.0

    申请日:2020-01-10

    申请人: Ruppi, Sakari

    发明人: Ruppi, Sakari

    摘要: The present invention relates to a coated cutting tool consisting of a substrate of cemented carbide, cermet, ceramics, steel or a superhard material such as cubic boron nitride (CBN) at least partially coated with a coating consisting of at least one outer layer of 5 to 35 µm, thick α-Al 2 O 3 layer deposited by chemical vapour deposition (CVD) on an inner layer of 2-25 µm thick Ti(C,N) or TaC 1-x N x or combinations thereof wherein the said α-Al 2 O 3 exhibits an X-ray diffraction pattern, as measured using CuK α radiation and theta-2theta scan, and texture coefficients TC(hkl) being determined according to Harris formula with one dominant texture coefficient 4,5 2 S/CO 2 ratio. The alumina layer is characterized by improved textures and by high growth rates together with improved wear resistance and toughness.

    IMPROVED ALUMINA LAYER DEPOSITED AT LOW TEMPERATURE

    公开(公告)号:EP3848484A2

    公开(公告)日:2021-07-14

    申请号:EP20020015.2

    申请日:2020-01-10

    申请人: Ruppi, Sakari

    发明人: Ruppi, Sakari

    摘要: The present invention relates to a coated cutting tool consisting of a substrate of cemented carbide, cermet, ceramics, steel or a superhard material such as cubic boron nitride (CBN) at least partially coated with a coating consisting of at least one outer layer of 2 to 10 µm, preferably 3 to 6 µm, thick α-Al 2 O 3 layer deposited by chemical vapour deposition (CVD) on an inner layer of 0.5-20 µm thick, preferably 4 to 8.5 µm thick Ti 1-x Al x N, Ti 1-x Al x CN or TaC 1-x N x or combinations thereof wherein the said α-Al 2 O 3 exhibits an X-ray diffraction pattern, as measured using CuK α radiation and theta-2theta scan, and texture coefficients TC(hkl) being determined according to Harris formula with one dominant texture coefficient 4 2 S/CO 2 ratio. The α-Al 2 O 3 layer is deposited in a temperature range of 600-800 °C being particularly useful in facilitating deposition of α-Al 2 O 3 layers on metastable materials like cubic Ti 1-x Al x N. The deposition process is characterized by improved texture-control and by relatively very high growth rates.