基板ホルダ及びめっき装置
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021191902A

    公开(公告)日:2021-12-16

    申请号:JP2021156382

    申请日:2021-09-27

    Inventor: 宮本 松太郎

    Abstract: 【課題】両面めっき用の基板ホルダを改善することにある。 【解決手段】基板を保持するための基板ホルダであって、前記基板の第1面を露出するための第1の開口部を有する第1保持部材と、前記第1保持部材とともに前記基板を挟持して保持するための第2保持部材であって、前記基板の第2面を露出するための第2の開口部を有する第2保持部材と、を備え、前記第1保持部材は、少なくとも1つの第1外部接続接点を有し、前記第2保持部材は、前記第1外部接続接点とは独立した少なくとも1つの第2外部接続接点を有する、基板ホルダ。 【選択図】図3A

    ポンプ装置
    5.
    发明专利
    ポンプ装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2021188527A

    公开(公告)日:2021-12-13

    申请号:JP2020091474

    申请日:2020-05-26

    Abstract: 【課題】取り扱い液の液温や液質にかかわらず、軸封装置を許容温度の範囲内に保つことができるポンプ装置が提供される。 【解決手段】ポンプ装置は、羽根車3と、回転軸1と、軸封装置30と、開口50aが搬送液を軸封装置30へ流入する第1流路90を形成し、第1流路90内の搬送液を所定の温度範囲内に保つ第2流路60と、を備えている。 【選択図】図1

    AM装置およびAM方法
    7.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021181211A

    公开(公告)日:2021-11-25

    申请号:JP2020088239

    申请日:2020-05-20

    Abstract: 【課題】DEDノズルを用いて予め敷き詰められた粉末材料を造形するための技術を提供する。 【解決手段】一実施形態によれば、造形物を製造するためのAM装置が提供され、前記AM装置は、DEDノズルを有し、前記DEDノズルは、DEDノズル本体と、前記DEDノズル本体の先端に設けられたレーザー光を出射するためのレーザー口、および前記レーザー口に連通する、前記DEDノズル本体内をレーザー光が通過するためのレーザー通路と、前記DEDノズル本体の先端に設けられた粉体材料を出射するための粉体口、および前記粉体口に連通する、前記DEDノズル本体内を粉体材料が通過するための粉体通路と、を有し、前記AM装置はさらに、前記DEDノズルの前記レーザー口および前記粉体口の周囲を囲い、且つ、前記レーザー光の出射方向の下流側が開口しているカバーを有し、前記カバーは、前記カバーの内側へガスを供給するためのガス供給路を有し、前記ガス供給路は、前記DEDノズル本体に向かってガスを導くように向き決めされている。 【選択図】図3

    薬液供給装置
    10.
    发明专利
    薬液供給装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2021180219A

    公开(公告)日:2021-11-18

    申请号:JP2020083785

    申请日:2020-05-12

    Abstract: 【課題】装置サイズを抑制し、かつ、複数種類の希釈薬液を供給できる薬液供給装置を提供する。 【解決手段】薬液供給装置100は、複数の薬液をそれぞれ供給する複数の薬液経路91A,91Bと、エアにより動作する薬液バルブ52A,52Bと、少なくとも1つの希釈液経路82A,82Bと、複数の薬液経路91A,91Bにおける薬液の流量を制御する制御機構4と、薬液と希釈液とを混合した希釈薬液を供給対象220へ導く希釈薬液供給系7と、を備える。制御機構4は、第1上流エア経路41と、複数の薬液バルブ52A,52Bにそれぞれエアを供給する複数の薬液用分岐エア経路62A,62Bと、複数の薬液用分岐エア経路62A,62Bにエアを分配する分岐バルブ62と、複数の薬液用分岐エア経路62A,62Bへのエアの供給および停止を制御する制御部31とを有する。 【選択図】図1

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