中科微点-全球专利检索

  1. Login
  2. Sign Up

Search Results

8856 records (took 0.176 seconds)

    ポンプ装置および電動機組立体
    91.
    发明专利
    ポンプ装置および電動機組立体 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021025478A

    公开(公告)日：2021-02-22

    申请号：JP2019144879

    申请日：2019-08-06

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 落合 章裕 ,  片山 直輝 ,  梁 倩 ,  范 新帥

    IPC: H02K5/18 ,  H02K11/33 ,  H02K7/14 ,  F04D29/40 ,  F04D29/00

    Abstract: 【課題】ポンプ部および/または電動機組立体を効率よく冷却することができるポンプ装置が提供される。 【解決手段】ポンプ装置300は、ポンプ部301と、電動機組立体1と、を備える。ポンプ部301は、複数のポンプ部側整流突起335を備えており、電動機組立体1は、複数のポンプ部側整流突起335のうちの少なくとも1つと一直線上に並ぶように配置された、少なくとも1つの電動機組立体側整流突起330を備える。 【選択図】図27

    研磨装置および研磨方法
    92.
    发明专利
    研磨装置および研磨方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021015873A

    公开(公告)日：2021-02-12

    申请号：JP2019129198

    申请日：2019-07-11

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 山野邊 北斗 ,  石川 翔 ,  上村 健司

    IPC: B24B21/00 ,  B24B9/00 ,  B24B55/00 ,  B24B55/02 ,  H01L21/304

    Abstract: 【課題】基板の周縁部の研磨時に基板に付着した異物を研磨中に除去し、かつ研磨中の基板の逆汚染を防ぐことができる研磨装置および研磨方法を提供する。 【解決手段】研磨装置1は、基板Wを保持するための保持ステージ4、および保持ステージ4を回転させるステージ回転装置14を有する基板保持部10と、研磨具31を保持ステージ4上の基板Wの周縁部に接触させる研磨ヘッド50と、基板Wの周縁部を含む環状のターゲット領域71,72を向いて配置されたオゾンナノバブル水供給ノズル21,22と、オゾンナノバブル水供給ノズル21,22に連結されたオゾンナノバブル水供給源100とを備えている。 【選択図】図2

    調整方法及び電子線装置
    93.
    发明专利
    調整方法及び電子線装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021015718A

    公开(公告)日：2021-02-12

    申请号：JP2019129715

    申请日：2019-07-12

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 林 丈英 ,  田島 涼 ,  小濱 達也 ,  渡辺 賢治 ,  狩俣 努

    IPC: H01J37/04

    Abstract: 【課題】電子線装置における電子線の光軸のずれの調整を容易化する。 【解決手段】調整方法は、三次元測定機を用いて、電子線装置を構成するユニット毎の組立公差を測定するステップS1と、ユニット毎の組立公差を考慮して、少なくとも一つのレンズの中心を通るように電子線のシフト量を決定し、各ユニットのアライナ電極の電極条件を決定するステップS2と、アライナ電極それぞれを決定されたそれぞれの電極条件にした後に検出器で得られる像を確認するステップS3、各レンズ条件を変更しても電子線の検出器で得られる像が変化しないように、各アライナ電極の電極条件を調整するステップS4と、を有する。 【選択図】図5

    渦電流センサ
    96.
    发明专利
    渦電流センサ 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021012030A

    公开(公告)日：2021-02-04

    申请号：JP2019124522

    申请日：2019-07-03

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 阿部 敦史 ,  渡辺 和英 ,  高橋 太郎

    IPC: G01B7/06

    Abstract: 【課題】ウェハのエッジ領域での膜厚の検出精度を、従来技術よりも改善した渦電流センサを提供する。 【解決手段】基板に形成される導電性膜の膜厚を測定するための渦電流センサは、基部120と、基部120の第1の方向122の両端部186の各々において基部120に設けられた外脚134とを有する、磁性体であるコア136と、コア136に配置され、導電性膜に渦電流を形成するための励磁コイルと、コア136に配置され、導電性膜に形成される渦電流を検出するための検出コイルとを有する。第1の方向122における基部120の長さは、第1の方向122と実質的に直交する第2の方向148における基部120の長さ以上である。 【選択図】図4

    AM装置
    97.
    发明专利
    AM装置 审中-公开

    公开(公告)号：JP2021008658A

    公开(公告)日：2021-01-28

    申请号：JP2019123764

    申请日：2019-07-02

    Applicant: 株式会社荏原製作所

    Inventor： 篠崎 弘行

    IPC: B33Y30/00 ,  B33Y10/00 ,  B29C64/153 ,  B33Y50/02 ,  B29C64/393 ,  B29C64/268 ,  B33Y40/00 ,  B29C64/321 ,  B22F3/16 ,  B22F3/105

    Abstract: 【課題】AM装置において、ヒュームやスパッタの発生を抑制しながら、造形時間を短縮するための技術を提供する。 【解決手段】一実施形態によれば、造形物を製造するためのAM装置100が提供され、かかるAM装置100は、造形物M1の材料にビームを照射するためのビーム源と、ビームの強度を調整するための調整装置171と、材料上でのビームサイズを調整する、ビーム調整機構と、造形レシピ決定装置202と、を有し、前記造形レシピ決定装置202は、造形物の材料の特性に基づいてビームの強度および材料上でのビームサイズを決定するように構成されている。 【選択図】図1

Patent Agency Ranking