検査装置
    3.
    发明专利
    検査装置 有权
    检查装置

    公开(公告)号:JP2015201257A

    公开(公告)日:2015-11-12

    申请号:JP2014077591

    申请日:2014-04-04

    Abstract: 【課題】 検査対象の表面の凹凸の状態を高コントラストで検査することのできる検査装置を提供する。 【解決手段】 検査装置は、荷電粒子又は電磁波をビームとして発生させるビーム発生手段と、検査対象にビームを照射する1次光学系と、検査対象から発生した二次荷電粒子を検出する2次光学系と、検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系を備える。ビームの照射エネルギーは、ビームの照射により検査対象から二次荷電粒子としてミラー電子が放出されるエネルギー領域に設定される。2次光学系は、二次荷電粒子を検出するためのカメラと、光軸方向に沿って位置を調整可能なニューメリカルアパーチャと、ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子をカメラの像面に結像させるレンズとを備える。画像処理系では、ニューメリカルアパーチャの位置を物面にして撮像を行うアパーチャ結像条件で画像が形成される。 【選択図】 図15

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种能够以高对比度检查检查对象的表面上的粗糙状态的检查装置。解决方案:检查装置包括:产生带电粒子或电磁波作为光束的光束产生装置 ; 用光束照射检查对象的主要光学系统; 第二光学系统,其检测从检查对象产生的二次带电粒子; 以及用于基于检测到的二次带电粒子形成图像的图像处理系统。 光束的照射能量被设定为通过用光束照射作为二次带电粒子从检查对象发射镜面电子的能量区域。 二次光学系统包括:用于检测次级带电粒子的照相机; 能够调整光轴方向的位置的数值孔径; 以及用于对通过相机的图像表面上的数值孔径的二次带电粒子进行成像的透镜。 在图像处理系统中,图像形成在用于以数值孔径的位置作为对象表面进行成像的孔径图像形成条件下。

    調整方法及び電子線装置
    4.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021015718A

    公开(公告)日:2021-02-12

    申请号:JP2019129715

    申请日:2019-07-12

    Abstract: 【課題】電子線装置における電子線の光軸のずれの調整を容易化する。 【解決手段】調整方法は、三次元測定機を用いて、電子線装置を構成するユニット毎の組立公差を測定するステップS1と、ユニット毎の組立公差を考慮して、少なくとも一つのレンズの中心を通るように電子線のシフト量を決定し、各ユニットのアライナ電極の電極条件を決定するステップS2と、アライナ電極それぞれを決定されたそれぞれの電極条件にした後に検出器で得られる像を確認するステップS3、各レンズ条件を変更しても電子線の検出器で得られる像が変化しないように、各アライナ電極の電極条件を調整するステップS4と、を有する。 【選択図】図5

    異物付着防止機能を備えた電子線検査装置及び方法
    6.
    发明专利
    異物付着防止機能を備えた電子線検査装置及び方法 有权
    电子束检测装置及防止外来粘合的功能的方法

    公开(公告)号:JP2016106374A

    公开(公告)日:2016-06-16

    申请号:JP2016040808

    申请日:2016-03-03

    Abstract: 【課題】試料表面に異物が付着することを極力防止することができる電子線検査装置を提供する。 【解決手段】試料200を配置したステージ100が真空排気可能な真空チャンバ112の内部に設置されており、該試料200の周囲を包囲する位置に集塵電極122が配置されている。集塵電極122には、試料200に印加される電圧と同じ極性で絶対値が等しいかそれ以上の電圧が印加される。これにより、集塵電極122にパーティクル等の異物が付着するので、試料表面への異物付着を低減することができる。集塵電極を用いる代わりに、ステージを包含する真空チャンバの壁面に凹みを形成するか、又は、所定の電圧が印加されるメッシュ構造の金属製平板を壁面に敷設してもよい。また、中央に貫通孔124aを有する隙間制御板124を試料200及び集塵電極122の上方に間隙制御板124を配置することにより、異物付着をより低減することができる。 【選択図】図3

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种能够尽可能防止异物附着到试样表面的电子束检查装置。解决方案:将放置样品200的载物台100设置在真空室112的内部,该真空室112可被抽真空 并将集尘电极122配置在样品200周围的位置。集尘电极122被施加与施加到样品200的电压相同极性的电压,绝对值为 等于或大于电压。 因此,由于诸如颗粒的异物粘附到集尘电极122,所以可以减少异物附着到样品表面。 代替使用集尘电极,可以在包含载物台的真空室的壁表面上形成凹部,或者在壁表面上设置具有施加了预定电压的网格结构的金属板。 此外,通过在样品200上方的间隙控制板124和集尘电极122,间隙控制板124的中心具有通孔124a,可以进一步降低异物的附着。图3

    検査装置
    9.
    发明专利
    検査装置 有权
    检查装置

    公开(公告)号:JP2016183976A

    公开(公告)日:2016-10-20

    申请号:JP2016127848

    申请日:2016-06-28

    Abstract: 【課題】検査精度を向上させ、5〜30nmのデザインルールにも適用できる検査方法及び検査装置を提供すること。 【解決手段】本発明の検査装置は、荷電粒子又は電磁波の何れか一つをビームとして発生させるビーム発生手段と、ワーキングチャンバ内に保持した検査対象に前記ビームを導き照射する1次光学系と、可動式のニューメリカルアパーチャ、および前記検査対象から発生して当該ニューメリカルアパーチャを通過した二次荷電粒子を検出する第1検出器を有する2次光学系と、前記第1検出器によって検出された二次荷電粒子に基づいて画像を形成する画像処理系と、前記可動式のニューメリカルアパーチャと前記第1検出器の間に設けられ、前記検査対象から発生する二次荷電粒子のクロスオーバ位置における位置及び形状を検出する第2検出器とを備える。 【選択図】図58

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种检测方法和检查装置,其能够提高应用于5至30nm的设计规则的检查精度。解决方案:检查装置包括:束产生装置,用于产生带电粒子和 电磁波作为光束; 用于将光束引入保持在工作室中的检查对象物以照射检查对象物的主光学系统; 具有可动型数值孔径的次级光学系统,以及用于检测从检查对象物产生的并通过数值孔径的二次带电粒子的第一检测器; 图像处理系统,用于基于由第一检测器检测到的二次带电粒子形成图像; 以及第二检测器,设置在可移动型数值孔径和第一检测器之间,并且用于检测从检查目标产生的二次带电粒子的交叉位置处的位置和形状。选择的图示:图58

    電子線検査装置の二次光学系を評価する方法

    公开(公告)号:JP2021002507A

    公开(公告)日:2021-01-07

    申请号:JP2019116821

    申请日:2019-06-25

    Inventor: 林 丈英

    Abstract: 【課題】電子線検査装置の二次光学系を単体で低コストで評価できる方法を提供する。 【解決手段】電子源から放出された電子線を観察対象位置に配置された試料に照射させる一次光学系と、前記試料から発生した電子線または前記試料を透過した電子線の拡大像を検出器に結像させる二次光学系と、を備えた電子線検査装置の前記二次光学系を評価する方法であって、前記観察対象位置に光電面を配置し、前記光電面にレーザーを照射し、前記光電面から発生した電子線の拡大像を前記二次光学系によって前記検出器に結像させ、前記検出器にて得られる電子線像に基づいて前記二次光学系を評価する。 【選択図】 図3

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