感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    141.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    辐射敏感性树脂组合物,形成耐蚀图案的方法,聚合物和化合物

    公开(公告)号:JP2016161790A

    公开(公告)日:2016-09-05

    申请号:JP2015040808

    申请日:2015-03-02

    Inventor: 生井 準人

    Abstract: 【課題】LWR性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度及び膜収縮抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】式(1)で表される第1構造単位を有する第1重合体、感放射線性酸発生体、及び溶媒を含有する感放射線性樹脂組成物である。式(1)中、Lは特定構造の2価の連結基、Xは炭素数1〜30の1価の有機基又はヒドロキシ基、Eは置換又は非置換の炭素数1〜5の2価の炭化水素基である。R 1 及びR 2 は、それぞれ独立して、水素原子又はメチル基である。R 3 は、水素原子又は炭素数1〜30の1価の有機基である。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供LWR性能,分辨率,截面形状的矩形性,焦深和薄膜收缩抑制性能优异的辐射敏感性树脂组合物。解决方案:辐射敏感性树脂组合物包含第一聚合物 具有由式(1)表示的第一结构单元,辐射敏感性酸产生剂和溶剂。 在式(1)中,L表示具有特定结构的二价连接基团; X表示碳原子数1〜30的一价有机基团或羟基; E表示具有1至5个碳原子的取代或未取代的二价烃基; Rand Reach独立地表示氢原子或甲基; R表示氢原子或碳原子数为1〜30的一价有机基团。选择图示:无

    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    143.
    发明专利
    レジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    耐蚀组合物,形成耐蚀图案的方法,聚合物和化合物

    公开(公告)号:JP2016126309A

    公开(公告)日:2016-07-11

    申请号:JP2015002708

    申请日:2015-01-08

    Inventor: 生井 準人

    Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、EL性能及び現像欠陥抑制性に優れるレジスト組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、フッ素原子を有し、かつ下記式(1)で表される基を含む構造単位を有する第1重合体、及び感放射線性酸発生体を含有するレジスト組成物である。下記式(1)中、R 1 は、炭素数1〜20の1価のアルカリ解離性基である。Mは、置換又は非置換の炭素数1〜20の2価の炭化水素基である。Lは、隣接するカルボニル基に結合する炭素原子を有する炭素数1〜20の2価の有機基である。LとMとは互いに合わせられこれらが結合する炭素原子と共に構成される環員数3〜20の脂環構造又は脂肪族複素環構造を形成してもよい。M及びR 1 のうちの少なくともいずれかがフッ素原子を有するとよい。R 1 がフッ素化炭化水素基であるとよい。第1重合体が、酸解離性基を含む構造単位をさらに有するとよい。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供LWR性能,CDU性能,EL性能和显影缺陷抑制性能优异的抗蚀剂组合物。解决方案:抗蚀剂组合物包含具有氟原子的第一聚合物和包含由式( 1)和辐射敏感酸发生器。 在下式(1)中,R表示具有1〜20个碳原子的碱解离基; M表示取代或未取代的碳原子数1〜20的二价烃基; L表示碳原子数1〜20的碳原子与相邻的羰基键合的二价有机基团, 并且L和M可以与L和M键合的碳原子一起形成3至20元脂环族结构或脂族杂环结构。 M或Rhas中至少有一个氟原子。 优选地,R是氟化烃基,更优选地,第一聚合物包括含有酸解离基的结构单元。选择图:无

    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物
    146.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 有权
    辐射敏感性树脂组合物,耐光图案形成方法,辐射敏感酸发生器和化合物

    公开(公告)号:JP2015148693A

    公开(公告)日:2015-08-20

    申请号:JP2014020844

    申请日:2014-02-05

    Inventor: 生井 準人

    Abstract: 【課題】LWR性能、解像性、断面形状の矩形性及び焦点深度に優れる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体、及び第1感放射線性酸発生剤を含有し、上記第1感放射線性酸発生剤が、下記式(1)で表される化合物からなる感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、R 2 及びR 3 は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子、炭素数1〜20の1価の炭化水素基又は炭素数1〜20の1価のフッ素化炭化水素基である。但し、R 2 及びR 3 のうちの少なくともいずれかはフッ素原子又はフッ素化炭化水素基である。R 4 及びR 5 は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜20の1価の炭化水素基である。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供LWR性能,分辨率,截面形状的矩形性和焦深度优异的辐射敏感性树脂组合物。本发明的辐射敏感性树脂组合物含有聚合物 具有含有酸解离基团的第一结构单元和第一辐射敏感性酸产生剂。 第一种辐射敏感酸产生剂包括由式(1)表示的化合物。 式(1)中,Rare Rare各自独立地为氢原子,氟原子,1-20C单价烃基或1-20C单价氟化烃基,条件是Rand Ris中的至少一个为氟原子或 氟化烃基; 和兰德尔稀土各自独立地为氢原子或1-20C单价烃基。

    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    147.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    辐射敏感性树脂组合物,形成耐蚀图案的方法,聚合物和化合物

    公开(公告)号:JP2015141356A

    公开(公告)日:2015-08-03

    申请号:JP2014014999

    申请日:2014-01-29

    Inventor: 生井 準人

    Abstract: 【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度及びMEEF性能に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】解離性基及びこの酸解離性基により保護されたオキソ酸基又はフェノール性水酸基を含む構造単位を有する重合体と、感放射線性酸発生体とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記酸解離性基が、下記式(1)で表されることを特徴とする感放射線性樹脂組成物である。下記式(1)中、Xは、それぞれ独立して、水素原子又は−R 4 −O−Y−R 5 で表される基(a)である。但し、少なくとも1つのXは、上記基(a)である。Yは、2個以上のオキソ基を含み水素原子を含まない2価の基である。R 5 は、置換若しくは非置換の1価の炭化水素基、置換若しくは非置換の1価の芳香族複素環基、−OR A 又は−NR B R C である。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:为了提供LWR(线宽粗糙度)性能优异的辐射敏感性树脂组合物,CDU(临界尺寸均匀性)性能,分辨率,截面形状的矩形度,焦深,曝光余量和MEEF (掩模误差增强因子)性能。解决方案:辐射敏感性树脂组合物包括:具有包含酸解离基团和含氧酸基团的结构单元的聚合物或被酸解离基团保护的酚羟基; 和辐射敏感的酸发生器。 酸解离基由下式(1)表示。 在式(1)中,X各自独立地表示氢原子或由-R-O-Y-R表示的基团(a),然而至少一个X为基团(a)。 Y表示具有2个以上氧代基且不具有氢原子的二价基团; R代表取代或未取代的单价烃基,取代或未取代的一价芳族杂环基,-OR或-NRR。

    樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物
    148.
    发明专利
    樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 有权
    树脂组合物,耐光图案形成方法,聚合物和化合物

    公开(公告)号:JP2015114341A

    公开(公告)日:2015-06-22

    申请号:JP2013253696

    申请日:2013-12-06

    Inventor: 生井 準人

    Abstract: 【課題】優れた焦点深度及び露光余裕度を発揮して、LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性に優れる樹脂組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、下記式(a)で表される基及び下記式(b)で表される基含む第1構造単位を有する第1重合体、及び溶媒を含有する樹脂組成物である。式(a)中、R 1 は、置換若しくは非置換の(n+1)価の鎖状炭化水素基、又は置換若しくは非置換の(n+1)価の脂環式炭化水素基である。nは、1又は2である。nが1の場合、R 1 は単結合であってもよい。nが1の場合、Rは、水素原子、酸解離性基又はアルカリ解離性基である。式(b)中、R’は、水素原子、酸解離性基又はアルカリ解離性基である。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种表现出优异的聚焦深度和曝光宽容度并且具有优异的LWR性能,CDU性能,分辨率和截面形状的矩形性的树脂组合物。本发明的树脂组合物含有 具有含有式(a)表示的基团的第一结构单元和式(b)所示的基团的第一聚合物和溶剂。 式(a)中,R表示取代或未取代的(n + 1)价的链烃基或取代或未取代的(n + 1)价的脂环族烃基; n为1或2; 当n为1时,Rm为单键; 当n为1时,R为氢原子,酸解离基或碱解离基。 在式(b)中,R'是氢原子,酸解离基团或碱解离基团。

    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物
    149.
    发明专利
    感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 有权
    辐射敏感性树脂组合物,耐光图案形成方法,辐射敏感酸发生器和化合物

    公开(公告)号:JP2015062057A

    公开(公告)日:2015-04-02

    申请号:JP2014143742

    申请日:2014-07-11

    Inventor: 生井 準人

    Abstract: 【課題】優れたMEEF性能、焦点深度及び露光余裕度を発揮すると共に、優れたLWR性能、CD均一性、解像性、断面形状の矩形性を有するレジストパターンを形成する感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。 【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、放射線分解性を有するオニウムカチオンとカウンターアニオンとからなる化合物、及び溶媒を含有し、上記カウンターアニオンが、カルボニル基を2以上有し、上記カルボニル基同士が、単結合又は炭素数1〜10の置換又は非置換のアルカンジイル基を介して結合する感放射線性樹脂組成物である。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种表现出优异的MEEF性能,深度聚焦和曝光宽容度的抗蚀剂图案形成用的辐射敏感性树脂组合物,并且具有优异的LWR性能,CD均匀性,分辨率和截面形状的矩形性 本发明是辐射敏感性树脂组合物,其含有:具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物; 包含辐射分解性鎓阳离子和抗衡阴离子的化合物; 和溶剂。 抗衡阴离子具有两个以上的羰基,羰基通过单键或C1-C10取代或未取代的烷二基彼此键合。

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