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    化学増幅型レジスト材料及びレジストパターン形成方法
    11.
    发明专利
    化学増幅型レジスト材料及びレジストパターン形成方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017090914A

    公开(公告)日：2017-05-25

    申请号：JP2016217577

    申请日：2016-11-07

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr Corp ,  Jsr株式会社

    Inventor： NAKAGAWA YASUSHI ,  NARUOKA TAKEHIKO ,  NAGAI TOMOKI

    IPC: G03F7/004 ,  C07D317/12 ,  C07D317/32 ,  C07D317/46 ,  C07D317/70 ,  C07D317/72 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20

    Abstract: 【課題】EUV等の250nm以下の波長を有する放射線をパターン露光光として用いた場合における感度及びリソグラフィ性能を両立可能な化学増幅型レジスト材料及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。【解決手段】本発明に係る化学増幅型レジスト材料は、(1)酸の作用により現像液に可溶又は不溶となる重合体成分と、(2)露光により感放射線性増感体及び酸を発生する成分とを含み、(2)成分が、(a)及び(b)成分、(b)及び(c)成分、又は(a)〜(c)成分の全てを含有し、(b)成分が式(B)で表される化合物を含む。式(B)中、RB3及びRB4は、有機基又は環構造を表す。但し、RB3及びRB4の少なくとも一方がニトロ基、スルホニル基等を含むか、又は上記環構造がスピロ環構造、縮合環構造若しくは有橋環構造である。(a)感放射線性酸−増感体発生剤(b)感放射線性増感体発生剤(c)感放射線性酸発生剤【選択図】なし

    液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物
    12.
    发明专利
    液晶表示素子および感放射線性樹脂組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017090588A

    公开(公告)日：2017-05-25

    申请号：JP2015218408

    申请日：2015-11-06

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr Corp ,  Jsr株式会社

    Inventor： SUZUKI YASUNOBU ,  ICHINOHE DAIGO

    IPC: G02F1/1368 ,  G02F1/1333 ,  G06F3/041 ,  G06F3/044 ,  G09F9/00 ,  G09F9/30

    Abstract: 【課題】簡便に形成できて誘電特性の制御が容易な層間絶縁膜を有し、タッチセンサー機能を内蔵する液晶表示素子を提供し、層間絶縁膜を形成する感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】液晶表示素子10の画素30は、第1の基板31の液晶層32側の面に、TFT33および第1の共通配線15−1を含む第1の層34と、第2の共通配線17−1および共通電極12を含む第2の層35と、画素電極36および層間絶縁膜37を含む第3の層38有する。層間絶縁膜37は、感放射線性樹脂組成物を用いて形成された有機膜である。画像表示の時には、第2の共通配線17−1を用いて共通電極12に共通電圧が供給され、タッチセンサー機能の使用時には、第1の共通配線15−1と第2の共通配線17−1との間の容量の変化を感知してタッチが感知されるようにする。【選択図】図2

    着色硬化膜形成用組成物、着色硬化膜、着色硬化膜の形成方法、表示素子の製造方法
    13.
    发明专利
    着色硬化膜形成用組成物、着色硬化膜、着色硬化膜の形成方法、表示素子の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017088667A

    公开(公告)日：2017-05-25

    申请号：JP2015217105

    申请日：2015-11-04

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr Corp ,  Jsr株式会社

    Inventor： SATO MITSUHISA ,  TANAKA KEI

    IPC: C08F2/44 ,  C08F2/38 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1337 ,  G03F7/004 ,  G03F7/033 ,  G03F7/038

    Abstract: 【課題】耐光性に優れる着色硬化膜を形成することができる着色硬化膜形成用組成物、この着色硬化膜形成用組成物を用いた着色硬化膜及びその形成方法、並びにこの着色硬化膜を備える電子デバイス及び液晶表示素子の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の着色硬化膜形成用組成物は、重合体、色材及び365nm未満の波長の光の吸収によりラジカル捕捉能を発現する化合物を含有する。本発明の着色硬化膜は、当該着色硬化膜形成用組成物から形成される。本発明の着色硬化膜は、基板の一方の面側に塗膜を形成する工程、この塗膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程、上記放射線が照射された塗膜を現像する工程、及び上記現像された塗膜を加熱する工程を備え、上記塗膜の形成に当該着色硬化膜形成用組成物を用いる。【選択図】図1

    パターン形成方法、パターン及び感放射線性組成物
    14.
    发明专利
    パターン形成方法、パターン及び感放射線性組成物 审中-公开

    公开(公告)号：JP2017083618A

    公开(公告)日：2017-05-18

    申请号：JP2015210828

    申请日：2015-10-27

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr Corp ,  Jsr株式会社

    Inventor： UNO TAKAAKI ,  KUBO HIROHITO

    IPC: G03F7/004 ,  G03F7/016 ,  G03F7/20 ,  G03F7/32 ,  G03F7/40

    Abstract: 【課題】新規な材料を用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】感放射線性組成物により膜を形成する工程、上記膜を露光する工程、及び上記露光された膜を、現像する工程を備えるパターン形成方法であって、上記感放射線性組成物が、酸化グラフェンと液媒体とを含有し、上記現像工程における現像液が水を主成分とすることを特徴とする。上記現像工程後に、上記現像後の膜を還元する工程をさらに備えることが好ましい。上記感放射線性組成物は感放射線性酸発生剤をさらに含有することが好ましい。上記感放射線性組成物が感放射線性酸発生剤及び架橋剤をさらに含有し、上記現像工程後に、上記現像後の膜を光照射又は加熱により硬化させる工程をさらに備えることが好ましい。上記現像液としては水が好ましい。【選択図】なし

    重合体、組成物、硬化物、フィルム状接着剤、及び積層体
    17.
    发明专利
    重合体、組成物、硬化物、フィルム状接着剤、及び積層体 审中-公开

    公开(公告)号：JPWO2015163182A1

    公开(公告)日：2017-04-13

    申请号：JP2016514871

    申请日：2015-04-14

    Applicant: Jsr株式会社 ,  Jsr株式会社

    Inventor： 岩沢　晴生 ,  晴生 岩沢 ,  高明 宇野 ,  高明 宇野 ,  太郎 内田 ,  太郎 内田 ,  晋太郎 藤冨 ,  晋太郎 藤冨

    IPC: C08G61/10 ,  B32B5/10 ,  B32B27/00 ,  C08L65/00 ,  C09J7/02 ,  C09J165/00

    CPC classification number: C08G59/32 ,  C08G61/10 ,  C09J163/00

    Abstract: [課題]耐熱性に優れ、且つ接着強度に優れた硬化物を形成する重合体を提供することを目的とする。[解決手段]下記式(1)および下記式(2)から選ばれる少なくとも一種の構造単位を含むポリナフチレン構造を有する重合体。(式(1)および式(2)中、R1およびR3は、各々、酸素原子を介してナフタレン環と結合する基を示し、エポキシ基もしくはエチレン性不飽和基を有する基、または−CH2OR5で表される基を示す。R5は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基又はアセチル基を示す。R1およびR3は、各々、複数存在する場合、R1同士およびR3同士は互いに同一でもよいし異なっていてもよい。R2およびR4は、各々、ナフタレン環に結合する基を示し、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜20のアルキル基を示す。R2およびR4は、各々、複数存在する場合、R2同士およびR4同士は互いに同一でもよいし異なっていてもよい。aおよびcは、各々、2〜6の整数を示し、bおよびdは、各々、0〜4の整数を示し、a+b=6であり、c+d=6である。mおよびnは、各々、2以上の整数を示す。)

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