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公开(公告)号：JP2020068213A
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：JP2017034394
申请日：2017-02-27
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【解決手段】 電極パッドを有する基板上に感光性樹脂組成物の塗膜を形成する工程(1);前記塗膜を選択的に露光し、さらに現像することにより、前記電極パッドに対応する領域に開口部を有するレジストを形成する工程(2);前記レジストをプラズマ処理する工程(3);前記開口部に溶融はんだを加熱しながら充填する工程(4);を有するはんだ電極の製造方法。 【効果】 本発明のはんだ電極の製造方法は、IMS法において、レジストの表面に溶融はんだが付着しない、はんだ電極の製造方法を提供することができる。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2016181859A1
公开(公告)日：2018-02-22
申请号：JP2017517887
申请日：2016-04-28
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/023 , G03F7/40 , H01L2224/11 , H05K3/34
Abstract: 本発明は、電極パッドを有する基板上に感光性樹脂組成物の塗膜を形成する工程(1)、前記塗膜を選択的に露光し、さらに現像することにより、電極パッドに対応する領域に開口部を有するレジストを形成する工程(2)、前記開口部に溶融はんだを充填する工程(3)を有するはんだ電極の製造方法であって、前記感光性樹脂組成物は、少なくともベンゾオキサゾール前駆体を含有するはんだ電極の製造方法である。本発明のはんだ電極の製造方法は、IMS法などのように、はんだ充填時にレジストが高熱を受ける場合においても、レジスト表面のクラック発生を防止することができ、はんだ充填能を向上させることができるので、目的に適合したはんだ電極を的確に製造することができる。
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公开(公告)号：JP5920491B2
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：JP2015006225
申请日：2015-01-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L83/04 , C08L101/04 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/075
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公开(公告)号：JP5835425B2
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2014142245
申请日：2014-07-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: H01L21/027 , H01L21/3205 , H01L21/768 , G03F7/40
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公开(公告)号：JP2015120929A
公开(公告)日：2015-07-02
申请号：JP2015030412
申请日：2015-02-19
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】窒化ガリウムや窒化ケイ素などのLED基板や配線金属などとの接着性が高く、着色のない硬化物を形成できる硬化性組成物の提供。 【解決手段】下記式(1)に示される構造を有する基および下記式(2)に示される構造を有する基から選ばれる少なくとも1つの基を有するポリシロキサン(A)および架橋剤(B)を含有することを特徴とする硬化性組成物。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够形成固化产物而不着色并且对诸如氮化镓和氮化硅等的LED基板，配线金属等具有优异的粘附性的固化性组合物。可固化组合物包含聚硅氧烷（ A）具有选自具有由式（1）表示的结构的基团和具有由式（2）表示的结构的基团的基团中的至少一个基团和交联剂（B））。
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公开(公告)号：JP2015118385A
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：JP2015006225
申请日：2015-01-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L83/04 , C08L101/04 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/075
Abstract: 【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。 【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式[R 1 a SiX 4−a ]で表されるシラン化合物、及び式[SiX 4 ]で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも1種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つGPCによる重量平均分子量が1000〜200000であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるR 1 はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数1〜20のアルキル基を示し、Xは塩素原子、臭素原子又はOR(R:1価の有機基)を示し、aは1〜3の整数を示す。〕。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种用于液浸曝光的辐射敏感性树脂组合物，固化图案形成方法和固化图案，其适用于通过用于浸液曝光的液体曝光抗蚀剂膜的液浸曝光工艺 作为水。本发明的浸渍曝光用的辐射敏感性树脂组合物具有通过水解缩合由式[RSiX]表示的硅烷化合物和式[SiX]表示的硅烷化合物中的至少一种而获得的结构， 并且含有根据GPC的重均分子量为1000〜200000的含硅聚合物，含氟聚合物，酸产生剂和溶剂。 （式中，R表示氟原子，烷基羰基氧基或碳原子数1〜20的烷基，X表示氯原子，溴原子或OR（其中R为一价有机基团）; a表示整数 从1到3.）
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