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公开(公告)号:JP6064990B2
公开(公告)日:2017-01-25
申请号:JP2014506257
申请日:2013-03-19
Applicant: JSR株式会社
Inventor: 宮田 拡
CPC classification number: C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
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公开(公告)号:JP5928347B2
公开(公告)日:2016-06-01
申请号:JP2012555828
申请日:2012-01-26
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F20/18 , C08F220/22 , G03F7/038
CPC classification number: G03F7/038 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F224/00 , G03F7/004 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , C08F2220/283 , C08F2220/382
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公开(公告)号:JP5771905B2
公开(公告)日:2015-09-02
申请号:JP2010110575
申请日:2010-05-12
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/38 , G03F7/40 , C08G77/04 , C08G77/50 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F232/02 , G03F7/075
CPC classification number: C08F212/14 , C08G77/04 , C08G77/50 , G03F7/0382 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0757 , G03F7/2041 , G03F7/40 , H01L21/02123
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公开(公告)号:JP6028732B2
公开(公告)日:2016-11-16
申请号:JP2013528980
申请日:2012-08-07
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
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公开(公告)号:JP5803805B2
公开(公告)日:2015-11-04
申请号:JP2012115092
申请日:2012-05-18
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , H01L21/027 , C08F220/10 , G03F7/32 , G03F7/039
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公开(公告)号:JP6959538B2
公开(公告)日:2021-11-02
申请号:JP2018527602
申请日:2017-07-10
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/038 , G03F7/20 , C08F220/10 , C08F212/08 , G03F7/039
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公开(公告)号:JP5920491B2
公开(公告)日:2016-05-18
申请号:JP2015006225
申请日:2015-01-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L83/04 , C08L101/04 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/075
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公开(公告)号:JP2015118385A
公开(公告)日:2015-06-25
申请号:JP2015006225
申请日:2015-01-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08L83/04 , C08L101/04 , H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/075
Abstract: 【課題】水等の液浸露光用液体を介してレジスト膜を露光する液浸露光プロセスに好適に用いられる液浸露光用感放射線性樹脂組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターンを提供する。 【解決手段】本発明の液浸露光用感放射線性樹脂組成物は、式[R 1 a SiX 4−a ]で表されるシラン化合物、及び式[SiX 4 ]で表されるシラン化合物から選ばれる少なくとも1種を加水分解縮合させて得られる構造を有し、且つGPCによる重量平均分子量が1000〜200000であるケイ素含有重合体と、フッ素含有重合体と、酸発生剤と、溶剤とを含有する〔尚、各式におけるR 1 はフッ素原子、アルキルカルボニルオキシ基、又は炭素数1〜20のアルキル基を示し、Xは塩素原子、臭素原子又はOR(R:1価の有機基)を示し、aは1〜3の整数を示す。〕。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题:为了提供一种用于液浸曝光的辐射敏感性树脂组合物,固化图案形成方法和固化图案,其适用于通过用于浸液曝光的液体曝光抗蚀剂膜的液浸曝光工艺 作为水。本发明的浸渍曝光用的辐射敏感性树脂组合物具有通过水解缩合由式[RSiX]表示的硅烷化合物和式[SiX]表示的硅烷化合物中的至少一种而获得的结构, 并且含有根据GPC的重均分子量为1000〜200000的含硅聚合物,含氟聚合物,酸产生剂和溶剂。 (式中,R表示氟原子,烷基羰基氧基或碳原子数1〜20的烷基,X表示氯原子,溴原子或OR(其中R为一价有机基团); a表示整数 从1到3.)
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