公开(公告)号：JP4692219B2

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：JP2005311849

申请日：2005-10-26

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 淳史 伊藤 ,  伸一郎 岩永 ,  健一 横山 ,  克巳 猪俣

IPC: G03F7/023 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4296792B2

公开(公告)日：2009-07-15

申请号：JP2003028857

申请日：2003-02-05

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 淳史 伊藤 ,  伸一郎 岩永 ,  健一 横山 ,  克巳 猪俣

IPC: G03F7/023 ,  C08F297/04 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027 ,  H01L21/312

公开(公告)号：JP5531617B2

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：JP2009547956

申请日：2008-11-12

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 淳史 伊藤 ,  隆一 奥田 ,  宏文 後藤

IPC: H01L21/60 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038

CPC classification number: G03F7/038 ,  C08L61/06 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L24/14 ,  H01L2224/1319 ,  H01L2224/1413 ,  H01L2924/01004 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01025 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/15788 ,  H01L2924/00

公开(公告)号：JP5471966B2

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：JP2010182349

申请日：2010-08-17

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智裕 松木 ,  勝久 溝口 ,  淳史 伊藤

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/027

公开(公告)号：JP5444813B2

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：JP2009104715

申请日：2009-04-23

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 文恵 近藤 ,  将寛 金子 ,  淳史 伊藤 ,  宏文 後藤

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5369420B2

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：JP2007275306

申请日：2007-10-23

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 奈美 鬼丸 ,  淳史 伊藤 ,  宏文 後藤

IPC: C08L61/06 ,  C08K5/5415 ,  C08L25/04 ,  C09D5/25 ,  C09D7/12 ,  C09D125/04 ,  C09D161/06 ,  H01L21/312

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photosensitive resin composition for forming an electrical insulating film that can give a cured film excellent in resolution, electrical insulation, cohesiveness, adhesion, etc. SOLUTION: The photosensitive resin composition for forming an insulating film comprises (A) a resin containing a structural unit having a phenolic hydroxyl group, (B) at least one kind of the compounds selected from the compounds represented by formula (b1) and (b2), (C) a photosensitive acid generator, and (D) a solvent, wherein, (b1) is (R) n Si(OR 1 ) 4-n and (b2) is (R 2 )[R 3 Si(OR 1 ) 3 ] m , and R represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group that may have a substituent group such as an epoxy and oxetanyl, R 1 represents a 1-5C alkyl group, n is an integer of 0-2, R 2 represents a m-valent group selected from an alicyclic hydrocarbon group, an aromatic hydrocarbon group, and a heterocyclic group, R 3 represents a methylene group or a 2-5C alkylene group, and m is an integer of 1-10. COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

公开(公告)号：JP5251424B2

公开(公告)日：2013-07-31

申请号：JP2008276090

申请日：2008-10-27

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 淳史 伊藤 ,  重人 浅野 ,  宏文 後藤 ,  隆喜 田辺

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP5176768B2

公开(公告)日：2013-04-03

申请号：JP2008202957

申请日：2008-08-06

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 太郎 内田 ,  淳史 伊藤

IPC: G03F7/075 ,  G03F7/023

公开(公告)号：JP5077023B2

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：JP2008092172

申请日：2008-03-31

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 淳史 伊藤 ,  宏文 後藤

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/004 ,  G03F7/023

公开(公告)号：JP5035240B2

公开(公告)日：2012-09-26

申请号：JP2008512026

申请日：2007-03-16

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 淳史 伊藤 ,  寛文 佐々木 ,  隆一 奥田 ,  宏文 後藤

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/023

CPC classification number: G03F7/0047 ,  C08K5/372 ,  C08L101/12 ,  H01L21/312